公开(公告)号：CN100433270C

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200580010006.6

申请日：2005-03-30

Applicant: 株式会社上睦可 ,  三菱麻铁里亚尔株式会社

Inventor： 藤原秀树 ,  池泽一浩 ,  田口裕章 ,  岩元尚文 ,  石井利升 ,  米久孝志

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明提供了一种耐久性的等离子体蚀刻用硅电极板，它是由按原子比含有3-11ppba的硼、还含有总量为0.5-6ppba的磷和砷中的一种或两种的硅单晶制成的。

公开(公告)号：CN1965396A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200580010006.6

申请日：2005-03-30

Applicant: 株式会社上睦可 ,  三菱麻铁里亚尔株式会社

Inventor： 藤原秀树 ,  池泽一浩 ,  田口裕章 ,  岩元尚文 ,  石井利升 ,  米久孝志

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明提供了一种耐久性优异的等离子体蚀刻用硅电极板，它是由按原子比含有3－11ppba的硼、还含有总量为0.5－6ppba的磷和砷中的一种或两种的硅单晶制成的。