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公开(公告)号:CN100433270C
公开(公告)日:2008-11-12
申请号:CN200580010006.6
申请日:2005-03-30
Applicant: 株式会社上睦可 , 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供了一种耐久性的等离子体蚀刻用硅电极板,它是由按原子比含有3-11ppba的硼、还含有总量为0.5-6ppba的磷和砷中的一种或两种的硅单晶制成的。
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公开(公告)号:CN1965396A
公开(公告)日:2007-05-16
申请号:CN200580010006.6
申请日:2005-03-30
Applicant: 株式会社上睦可 , 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供了一种耐久性优异的等离子体蚀刻用硅电极板,它是由按原子比含有3-11ppba的硼、还含有总量为0.5-6ppba的磷和砷中的一种或两种的硅单晶制成的。
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