粘接剂层形成装置、半导体芯片生产线、及层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN110651355B

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN201880031028.8

    申请日:2018-04-18

    Abstract: 本发明提供在不易引起粘接剂的固化并且缩短生产节拍时间的同时制造在半导体晶片的一面具有粘接剂层、且在减压下的晶片粘接中粘接剂层不易发泡的层叠体的方法、以及用于该方法的粘接剂层形成装置。本发明的粘接剂层形成装置是将在半导体晶片的一面涂布形成的涂膜中的溶剂除去而形成粘接剂层的装置,其中,所述粘接剂层形成装置具备:载置前述半导体晶片的下部板、与所述下部板形成容积10升以下的封闭空间的上部罩、以及对所述封闭空间内进行减压的减压机构。

    粘接剂层形成装置、半导体芯片生产线、及层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN110651355A

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201880031028.8

    申请日:2018-04-18

    Abstract: 本发明提供在不易引起粘接剂的固化并且缩短生产节拍时间的同时制造在半导体晶片的一面具有粘接剂层、且在减压下的晶片粘接中粘接剂层不易发泡的层叠体的方法、以及用于该方法的粘接剂层形成装置。本发明的粘接剂层形成装置是将在半导体晶片的一面涂布形成的涂膜中的溶剂除去而形成粘接剂层的装置,其中,所述粘接剂层形成装置具备:载置前述半导体晶片的下部板、与所述下部板形成容积10升以下的封闭空间的上部罩、以及对所述封闭空间内进行减压的减压机构。

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