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公开(公告)号：CN113439239B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202080014640.1
申请日：2020-03-04
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法，可防止已转印至第一区域与第二区域的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者相对地变更，第二区域是被曝光基板上的第一曝光区域及第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，第一区域是第一曝光区域的其他部分及第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，以使第一区域中的曝光量相对于第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使照度变更构件移动。
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公开(公告)号：CN113383275B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202080012561.7
申请日：2020-03-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法，可防止第二区域与第一区域之间的经转印的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置，包括：照明光学系统，包含具有多个透镜元件的复眼透镜；投影光学系统；照度变更构件，相对于对第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域进行曝光的照明光的照度，以第二区域以外的第一区域的照度相对地变低的方式，覆盖对第一区域进行曝光的照明光穿过的区域；以及控制部，控制照度变更构件的相对于透镜元件的相对移动；通过相对移动，而变更由照度变更构件覆盖的区域，且在维持与扫描方向正交的非扫描方向上的第一区域的曝光量分布的状态下，变更非扫描方向上的第二区域的曝光量分布。
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公开(公告)号：CN118311837A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410602795.7
申请日：2020-03-04
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，可防止第二区域内的经转印的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与第一时间不同的第二时间内对被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与扫描方向正交的非扫描方向上，以第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。
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公开(公告)号：CN113439239A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080014640.1
申请日：2020-03-04
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者相对地变更，第二区域是被曝光基板上的第一曝光区域及第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，第一区域是第一曝光区域的其他部分及第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，以使第一区域中的曝光量相对于第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使照度变更构件移动。
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公开(公告)号：CN113272737A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201980088088.8
申请日：2019-12-16
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 在一部分感光材料中，在时间上分割为多段而进行曝光的情形下，与在时间上连续地进行曝光的情形下相比，实效感光量有时会降低。在使用此种材料进行连接曝光的情形下，在重叠部分与非重叠部分，因实效感光量不同，故存在被转印的图案的线宽或厚度变化的课题。因此，为了解决所述课题，在以由投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对被曝光基板进行扫描曝光的方式构成的曝光装置中，在照明光学系统或投影光学系统设有照度变更构件(10c1、10c2)，所述照度变更构件(10c1、10c2)设定为：与在被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107615169A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680030014.5
申请日：2016-05-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , B65G49/06 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明的物体保持装置具有：保持面部(60)，其具有保持基板的保持面；管路部(50)，其具有控制保持面与基板之间的气体的管路，且载置有保持面部(60)；以及基部(60)，其载置有管路部(50)。而且，在管路部(50)中，管路沿第一方向延伸，且沿与所述第一方向交叉的第二方向配置有多个。本发明的物体保持装置能够容易地进行气体管道路径的制作和基板载置面的平面度调整，具有基部(40)的结构简单，组装和维护容易的效果。
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公开(公告)号：CN119790351A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202280099101.1
申请日：2022-08-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 目的在于通过抑制排列有光源元件的基板的翘曲或挠曲，来提高基板与散热器的密合性，由此提高冷却效率。光源单元具备：具有彼此相对置的第1面和第2面的基板(21A)；在所述基板(21A)的所述第1面上呈二维排列的多个光源元件(20A)；以及散热器(40)，所述基板(21A)具有在所述第2面中的、俯视下与排列有所述多个光源元件(20A)的范围相对置的部分形成的至少一个凹部，所述散热器(40)具有贯穿孔(401)，所述基板(21A)和所述散热器(40)利用插穿所述贯穿孔(401)、并且与所述凹部嵌合的固定构件(61)固定。
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公开(公告)号：CN117826544A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410195677.9
申请日：2020-03-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，可防止第二区域与第一区域之间的经转印的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置，包括：照明光学系统，包含具有多个透镜元件的复眼透镜；投影光学系统；照度变更构件，相对于对第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域进行曝光的照明光的照度，以第二区域以外的第一区域的照度相对地变低的方式，覆盖对第一区域进行曝光的照明光穿过的区域；以及控制部，控制照度变更构件的相对于透镜元件的相对移动；通过相对移动，而变更由照度变更构件覆盖的区域，且在维持与扫描方向正交的非扫描方向上的第一区域的曝光量分布的状态下，变更非扫描方向上的第二区域的曝光量分布。
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公开(公告)号：CN110383178B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201880016788.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板台装置(20)具备：微动台(22)，保持基板(P)，且具有与包含X轴方向及Y轴方向的既定平面平行的上表面部(104)、以及在Z轴方向上与上表面部相向的下表面部(102)；以及X音圈马达(70X)，以在X轴方向及Y轴方向上与上表面部及下表面部重叠，且在Z轴方向上由上表面部及下表面部夹持的方式配置，并且驱动微动台。
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公开(公告)号：CN113383275A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202080012561.7
申请日：2020-03-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种曝光装置，包括：照明光学系统，包含具有多个透镜元件的复眼透镜；投影光学系统；照度变更构件，相对于对第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域进行曝光的照明光的照度，以第二区域以外的第一区域的照度相对地变低的方式，覆盖对第一区域进行曝光的照明光穿过的区域；以及控制部，控制照度变更构件的相对于透镜元件的相对移动；通过相对移动，而变更由照度变更构件覆盖的区域，且在维持与扫描方向正交的非扫描方向上的第一区域的曝光量分布的状态下，变更非扫描方向上的第二区域的曝光量分布。
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