公开(公告)号：CN102498559A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041652.X

申请日：2010-07-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67092 ,  H01L21/187 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T156/10 ,  Y10T156/1744

摘要： 为了成为将用于保持半导体基板的基板保持架彼此一体化而夹持所层叠的半导体基板的状态，需要将半导体基板彼此固定的固定机构。该固定机构中的接触部位也能够成为产生灰尘的原因。因此，为了抑制灰尘的产生而提供一种基板保持架系统，该基板保持架系统具备：保持第1基板的第1基板保持架；设置于第1基板保持架的结合构件；保持第2基板的第2基板保持架；被结合构件，该被结合构件设置于第2基板保持架上，当第1基板保持架和第2基板保持架夹持第1基板和第2基板而对置时，该被结合构件设置于与结合构件对置的位置；以及缓冲部，该缓冲部设置于结合构件或者被结合构件的各自的接触部的至少一方。

公开(公告)号：CN102576689B

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201080041623.3

申请日：2010-07-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕 ,  田中庆一 ,  保多智之

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67092

摘要： 提供一种能在用一对基板支架层叠半导体基板时，抑制尘埃流入载置半导体基板的区域的基板处理系统。该基板处理系统具有使保持第1基板的第1基板支架和保持第2基板的第2基板支架相向来夹持第1基板和第2基板的基板支架系统、和保持基板支架系统的处理装置，在基板支架系统及处理装置的至少一方具有抑制尘埃向夹持第1基板和第2基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。基板支架系统可以在任一基板支架上设置抑制尘埃向保持基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。

公开(公告)号：CN102498559B

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201080041652.X

申请日：2010-07-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67092 ,  H01L21/187 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T156/10 ,  Y10T156/1744

摘要： 为了成为将用于保持半导体基板的基板保持架彼此一体化而夹持所层叠的半导体基板的状态，需要将半导体基板彼此固定的固定机构。该固定机构中的接触部位也能够成为产生灰尘的原因。因此，为了抑制灰尘的产生而提供一种基板保持架系统，该基板保持架系统具备：保持第1基板的第1基板保持架；设置于第1基板保持架的结合构件；保持第2基板的第2基板保持架；被结合构件，该被结合构件设置于第2基板保持架上，当第1基板保持架和第2基板保持架夹持第1基板和第2基板而对置时，该被结合构件设置于与结合构件对置的位置；以及缓冲部，该缓冲部设置于结合构件或者被结合构件的各自的接触部的至少一方。

公开(公告)号：CN102576689A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080041623.3

申请日：2010-07-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕 ,  田中庆一 ,  保多智之

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/67092

摘要： 提供一种能在用一对基板支架层叠半导体基板时，抑制尘埃流入载置半导体基板的区域的基板处理系统。该基板处理系统具有使保持第1基板的第1基板支架和保持第2基板的第2基板支架相向来夹持第1基板和第2基板的基板支架系统、和保持基板支架系统的处理装置，在基板支架系统及处理装置的至少一方具有抑制尘埃向夹持第1基板和第2基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。基板支架系统可以在任一基板支架上设置抑制尘埃向保持基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。