公开(公告)号：CN113445002A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202110252771.X

申请日：2021-03-08

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行 ,  松本优子

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D1/10

摘要： 本发明涉及蒸镀掩模的制造方法。课题为提供不易受到工艺温度或环境温度影响的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法包括：在玻璃基板之上形成保护层，在所述保护层之上形成镀覆生长层，在所述镀覆生长层之上通过电镀形成掩模部，使用溶液将所述玻璃基板溶解并除去，将所述保护层及所述镀覆生长层除去。所述保护层可以由对所述溶液具有耐受性的材料构成。所述保护层可以由树脂材料构成。

公开(公告)号：CN114517282B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202111312278.9

申请日：2021-11-08

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行 ,  松本优子

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D1/10

摘要： 本发明提供一种制造可靠性高的蒸镀掩模的方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法包括：对具有开口部的框主体的第1面，以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤；沿着平面视时的所述框主体的至少内缘，有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤；在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤；和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。

公开(公告)号：CN112877640B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202011303002.X

申请日：2020-11-19

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24

摘要： 本发明提供一种蒸镀掩模及其制造方法。一方式的蒸镀掩模包括设置有多个开口的薄膜状的掩模主体，多个开口各自在掩模主体的厚度方向上从掩模主体的第一面贯穿到第二面，多个开口各自的第一面与第二面之间的侧壁具有45°以上且85°以下的锥形形状的部分。一方式的蒸镀掩模的制造方法中，准备第一基板，在第一基板的第一面上涂敷光致抗蚀剂，用包含第一波长和与第一波长不同的第二波长的光来照射光致抗蚀剂的一部分，通过将除曝光的光致抗蚀剂的一部分以外的其他部分去除来形成抗蚀剂图案，在第一基板的第一面上的从抗蚀剂图案露出的区域形成金属层，去除抗蚀剂图案，去除第一基板。根据本发明，能够提供具有锥形形状的蒸镀用的蒸镀掩模。

公开(公告)号：CN113493894B

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202110344384.9

申请日：2021-03-30

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D1/10 ,  C25D1/20 ,  C23C14/34 ,  C23C14/14

摘要： 本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

公开(公告)号：CN113493894A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110344384.9

申请日：2021-03-30

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D1/10 ,  C25D1/20 ,  C23C14/34 ,  C23C14/14

摘要： 本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

公开(公告)号：CN116970900A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202310406122.X

申请日：2023-04-17

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行 ,  为川贡 ,  柳泽昌 ,  岩桥直哉

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24

摘要： 本发明的一个目的是提供破损少的蒸镀掩模，蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；设置在掩模主体的周围的保持框；和连接掩模主体与保持框的连接部件，掩模主体包括：具有第1图案部的第1区域、包围第1区域且具有第2图案部的第2区域；和包围第2区域的第3区域，第1区域和第2区域配置在基准框内。另外，蒸镀掩模的掩模主体的第1区域与第2图案部隔开间隔，此外，蒸镀掩模中，第2区域外接于掩模主体的第1区域的外形。

公开(公告)号：CN113308667B

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202110124821.6

申请日：2021-01-29

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D1/10

摘要： 本发明提供一种能够减少剥离不良的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。在蒸镀掩模的制造方法中，在形成有蒸镀图案的第一镀敷层上经由粘接层配置掩模框架，在掩模框架上配置间隔件，以覆盖第一镀敷层、掩模框架和间隔件的方式配置膜，对膜的下方侧的空间进行减压，使得膜按压间隔件，通过间隔件按压掩模框架，来将掩模框架与所述镀敷层压接在一起。根据本发明，能够减少剥离不良。

公开(公告)号：CN115142009A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210318934.4

申请日：2022-03-29

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C18/16 ,  C25D5/02 ,  C25D21/12

摘要： 本发明提供一种容易进行位置修正的蒸镀掩模单元的制造方法。本发明的蒸镀掩模单元的制造方法包括：在支承基板上形成剥离层的步骤；基于曝光数据，在所述剥离层上形成抗蚀剂图案的步骤；和在所述剥离层上的没有形成所述抗蚀剂图案的区域形成金属图案的步骤，所述曝光数据基于参数进行了修正，其中，所述参数用于对平行四边形畸变、长边畸变和短边畸变中的至少一者进行修正。

公开(公告)号：CN114438554A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202111177121.X

申请日：2021-10-09

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 松本优子 ,  山田哲行

IPC分类号： C25D1/10 ,  C25D1/20 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

摘要： 本发明提供不具有毛刺的蒸镀掩模和不会形成毛刺的蒸镀掩模的制造方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板的第1面形成具有开口图案的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架，在支承基板的与第1面相反的一侧的第2面配置包含铁磁性体的临时固定件，利用临时固定件的磁力将掩模框架固定在掩模主体上，形成将掩模主体与掩模框架连接的连接部，将临时固定件和支承基板拆下。

公开(公告)号：CN114959807A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210120798.8

申请日：2022-02-09

申请人： 株式会社日本显示器

发明人： 山田哲行

IPC分类号： C25D1/10 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C25D3/12 ,  C25D3/56

摘要： 本发明提供一种蒸镀掩模的制造方法，其能够形成减小了蒸镀工序中的热收缩率的影响的蒸镀掩模。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成抗蚀剂掩模，该抗蚀剂掩模形成有规定的图案，然后，在基底金属层的没有形成抗蚀剂掩模的区域，通过用电铸来使金属析出，形成在25℃以上35℃以下的温度下热收缩率为8ppm以上18ppm以下的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架后，将掩模主体从支承基板分离。