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公开(公告)号：CN114381686B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202111177130.9
申请日：2021-10-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 松本优子
IPC: C23C14/04 , C23C14/18 , C23C14/20 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C16/06 , C25D5/48 , C25D5/54 , C23C28/02
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模单元及其制造方法，其目的在于提供设有精密地配置的多个开口的蒸镀掩模单元及其制造方法。蒸镀掩模单元包括第1金属层、第2金属层和第1金属层上的框架。第1金属层具有多个第1开口。第2金属层位于第1金属层上，与第1金属层接触，具有多个第2开口。框架位于第1金属层上。框架的一部分在相邻的两个第1开口之间和相邻的两个第2开口之间的区域延伸，在该区域与第1金属层重叠。多个第1开口的至少一个与多个第2开口之一重叠。
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公开(公告)号：CN113355634B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202110196113.3
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着光固化性树脂膜，且光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着保护膜对光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。根据本发明，能够以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元。
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公开(公告)号：CN115537721A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202210697334.3
申请日：2022-06-20
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供耐久性高的蒸镀掩模单元和蒸镀掩模单元的制造方法。本发明的一个实施方式的蒸镀掩模单元包括：具有多个框的支承框架；设置在所述多个框各自的内侧的蒸镀掩模，其由具有多个第1开口和比所述第1开口大的第2开口的金属膜构成；和设置在所述多个框各自的内侧的连接部，其将所述多个框与所述蒸镀掩模连接，所述第2开口在距所述连接部的端部规定的距离以内的位置具有外缘。
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公开(公告)号：CN114517282A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202111312278.9
申请日：2021-11-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种制造可靠性高的蒸镀掩模的方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法包括：对具有开口部的框主体的第1面，以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤；沿着平面视时的所述框主体的至少内缘，有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤；在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤；和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。
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公开(公告)号：CN113355634A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110196113.3
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着光固化性树脂膜，且光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着保护膜对光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。根据本发明，能够以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103163691A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201210543949.7
申请日：2012-12-14
Applicant: 株式会社日本显示器东
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/13394 , G02F1/1339 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/13396 , G02F2001/13398
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置，抑制配向膜削减，抑制TFT基板和对向基板的错位，在按压了对向基板的情况下缩短恢复的时间。在对向基板上形成有柱状衬垫，在TFT基板上形成有台座。在柱状衬垫的前端存在有凸部和凹部，与柱状衬垫的凹部对应形成有台座，凹部的端部开放，且与柱状衬垫的侧壁相连。因此，由于液体的配向膜材料贮留于凹部而配向膜不会较厚地形成，所以能够防止配向膜削减。由于柱状衬垫前端的凸部的存在，从而能够防止TFT基板和对向基板的错位，并且能够缩短从对向基板除去按压时的恢复时间。
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公开(公告)号：CN111819908B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN201980017213.6
申请日：2019-02-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 松本优子
Abstract: 在有机EL显示装置中，可靠地防止发光不良的发生。一种有机EL显示装置，其包括：基材，其具有设置多个像素的显示区域和与上述显示区域相邻的边框区域；上述多个像素各自所具有的下部电极；配置在上述下部电极上的有机材料层；配置在上述有机材料层上的覆盖上述显示区域的上部电极；设置于上述边框区域的与上述上部电极连接的导电体部；和设置在上述导电体部上的肋，在上述导电体部上隔着上述肋配置上述上部电极，上述上部电极与上述导电体部接触的第一接触部位于上述边框区域，上述肋具有位于上述第一接触部的与上述显示区域相反一侧的侧面，上述上部电极的端部与上述侧面相对。
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公开(公告)号：CN116782691A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310235415.6
申请日：2023-03-13
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 在显示装置的制造方法中，形成第1子像素的第1下电极、第2子像素的第2下电极、第3子像素的第3下电极、与第1～第3下电极分别重叠的第1～第3开口，形成包含第1发光层的第1薄膜，形成露出第2子像素和第3子像素的第1薄膜并覆盖第1子像素的第1薄膜的第1抗蚀剂，将第1抗蚀剂作为掩膜除去第2子像素和第3子像素的第1薄膜，从第2开口露出第2下电极并从第3开口露出第3下电极，形成包含第2发光层的第2薄膜，形成露出第1子像素和第3子像素的第2薄膜并覆盖第2子像素的第2薄膜的第2抗蚀剂，将第2抗蚀剂作为掩膜除去第1子像素和第3子像素的第2薄膜，从第3开口露出第3下电极。第1开口的面积比第2开口的面积大。
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公开(公告)号：CN116479375A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310026398.5
申请日：2023-01-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 松本优子
Abstract: 本发明提供能够减少蒸镀不良的蒸镀掩模及其制造方法。蒸镀掩模包括沿第1方向和与第1方向交叉的第2方向设置有多个开口部的掩模主体，多个开口部的每一个开口部包括：第1开口，其在第1方向具有第1开口宽度；第2开口，其在第1开口之上，在第1方向具有比第1开口宽度大的第2开口宽度；和通过将第1开口与第2开口连通而形成的台阶，第2开口的深度大于第1开口的深度，在沿着第1方向剖视时，台阶的上表面与连结第1开口的上端部和第2开口的上端部的直线所成的角小于60°。
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公开(公告)号：CN113330134A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201980089786.X
申请日：2019-10-31
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 松本优子
Abstract: 蒸镀掩模的制造方法包括：在基板上形成具有多个开口的掩模主体的步骤；形成覆盖多个开口且将掩模主体的外周露出的绝缘层的步骤；在掩模主体的外周配置粘接部件的步骤；在掩模主体的外周，以与粘接部件相接的方式配置保持框的步骤；在掩模主体与保持框之间形成连接部件的步骤；去除绝缘层的步骤；和从掩模主体剥离基板的步骤。这样制造的蒸镀掩模包括：具有多个开口的掩模主体；配置于掩模主体的外周的保持框；和连接部件，其配置于保持框的底面和侧面，且配置于保持框的底面与掩模主体之间。
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