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公开(公告)号:CN119789528A
公开(公告)日:2025-04-08
申请号:CN202411356359.2
申请日:2024-09-26
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及显示装置及显示装置的制造方法。提供高精细的显示装置。显示装置具有:包含多晶结构的氧化物半导体层;设置在氧化物半导体层之上的栅极绝缘层;在栅极绝缘层之上与氧化物半导体层对置的栅电极;与栅电极相接地设置的第1氮化硅层;与第1氮化硅层相接地设置且与氧化物半导体层电连接的源极布线;与源极布线及第1氮化硅层相接地设置的第2氮化硅层;与氧化物半导体层电连接的第1透明导电层;和与第1透明导电层及第2氮化硅层相接地设置的第3氮化硅层,栅电极的沟道长度为2.0μm以下。
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公开(公告)号:CN119317337A
公开(公告)日:2025-01-14
申请号:CN202410925292.3
申请日:2024-07-10
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及光检测装置及其制造方法。课题在于提供容易进行有机层的图案化、且品质提高的光检测装置及其制造方法。光检测装置包括:下部结构;设置在前述下部结构之上的1个以上的公共布线连接部及1个以上的像素电极;有机光电转换层,其以在前述1个以上的像素电极之上重叠、并且与前述1个以上的公共布线连接部不重叠的方式设置;和透明电极层,其以与前述有机光电转换层重叠、并且在前述1个以上的公共布线连接部之上也重叠的方式设置,前述透明电极层之中,与前述1个以上的像素电极重叠的部分比其他部分厚。
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