-
公开(公告)号：CN101846825A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010150469.5
申请日：2010-03-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02F1/13 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供可以缩短ACF粘贴处理作业和ACF粘贴状态的检查作业的总作业时间的、或者可以缩短在ACF粘贴中需要的处理作业装置宽度的处理作业装置或ACF粘贴状态检查方法，或者提供可以缩短显示基板模块组装的节拍时间的、或者组装线长度短的显示基板模块组装线。在对粘贴在显示基板的边的预定位置上的ACF进行照明并拍摄，并根据所述拍摄结果检查所述ACF的粘贴状态时，至少在粘贴所述ACF后输送所述显示基板的过程中进行所述拍摄并进行检查。
-
公开(公告)号：CN101962750A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010235894.4
申请日：2010-07-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供有机EL器件制造装置以及成膜装置，所述有机EL器件制造装置能够在基板上形成均匀膜厚的薄膜，在有机EL器件的制造装置中，对于从将蒸发的蒸镀材料通过线上配置的多个喷嘴向真空槽内部排放的蒸发源的各个喷嘴排放的有机EL材料的蒸发量，通过蒸发量监测设备监测各个喷嘴，并且利用监测到的各个喷嘴的有机EL材料的蒸发量信息，通过控制设备控制蒸发源。
-
公开(公告)号：CN101949002B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201010225087.4
申请日：2010-07-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明涉及镀膜装置、蒸发源装置，及其蒸发源容器。在真空内向被蒸镀基板表面包覆蒸镀材料的镀膜装置中使用的蒸发源装置具有加热箱(210)，该加热箱在其外部具有加热器(71H)，在其内部形成空间，在垂直方向层叠并容纳多个蒸发源容器(220)；各蒸发源容器具有：由高导热材料构成的容器(221)，其断面形成为大致“U”字形，并且在大致中央部形成用于放出气体的贯通孔(222)，并以围绕该贯通孔的方式形成；覆盖容器的上面开口，由高导热材料构成的盖体(225)；将在容器内产生的蒸镀材料的气体通过间隙引导到贯通孔，集中到设于上述加热箱上部的导向部(212)，通过喷出孔(213)供应到被蒸镀基板(100)的表面。
-
公开(公告)号：CN102591157A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110413542.8
申请日：2011-12-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光方法及其装置。为了削减在LED光源中使用的LED元件数，小型并且低成本地提供能够在短时间内获得充分的光量的曝光用光源，而使曝光装置构成为具备：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载曝光用基板，并能够在平面内移动；控制单元，其控制台单元和曝光用光源单元，曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，控制单元在通过曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在台单元上的曝光用基板进行曝光时，控制光源部，一边依次改变照射条件，一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对曝光用基板进行照射。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102131351A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010586591.7
申请日：2010-12-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供能够有效地检查各种ACF粘贴状态或即便是亮度的变化、尤其是照明劣化等的亮度降低的不良发生也可靠地检查ACF的粘贴状态而能够判别不良原因的处理作业装置或ACF粘贴检查方法，或了解不良原因而实现对该原因的保全(准备、处置)，运转效率高的显示基板模块组装线。其特征在于，对规定位置进行照明、拍摄，在由所述拍摄获得的拍摄数据必然存在所述ACF的区域设定判定范围，对所述判定范围的外周部上的拍摄数据进行处理，基于所述处理结果对所述ACF的粘贴状态进行检查，或对所述拍摄数据的亮度级进行检测，并基于所述亮度级的时序变化来判别所述亮度级的变化的原因。
-
公开(公告)号：CN101962749A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010234426.5
申请日：2010-07-20
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明涉及镀膜装置及镀膜方法。本发明的目的在于提供减少喷嘴及周边的清理频度，运转率高或可以均匀地镀膜的镀膜装置及镀膜方法。本发明的镀膜装置，具有真空蒸镀室，该真空蒸镀室具备使蒸发源移动的蒸发源移动机构，所述蒸发源使蒸发源内部所具有的蒸发材料蒸发(升华)，从所述蒸发源的多个喷嘴喷出而蒸镀到基板上，镀膜装置的特征在于，所述真空蒸镀室具有喷嘴清理机构，喷嘴清理机构具备去除在所述喷嘴或喷嘴附近析出的析出蒸发材料的清理部。
-
公开(公告)号：CN117561442A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202280045070.1
申请日：2022-06-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N29/24
Abstract: 在光声物性测量装置中，为了能够比较轻松地应对由测定对象物的配置状态、光声单元与测定对象物的间隙的状态等引起的共振频率的变化，能够在不降低检测灵敏度的情况下以较短的时间测量对象物的物性，将光声物性测量装置构成为具备：光照射部，其向对象物照射调制后的光；光声单元，其通过从光照射部照射调制后的光而使在对象物产生的光声波放大；声波产生部，其在光声单元的内部产生声波；麦克风，其检测由光声单元放大后的光声波和从声波产生部在光声单元的内部产生的声波；以及物性解析部，其基于由麦克风检测到的光声波来解析对象物的物性。
-
公开(公告)号：CN101962750B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201010235894.4
申请日：2010-07-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供有机EL器件制造装置以及成膜装置，所述有机EL器件制造装置能够在基板上形成均匀膜厚的薄膜，在有机EL器件的制造装置中，对于从将蒸发的蒸镀材料通过线上配置的多个喷嘴向真空槽内部排放的蒸发源的各个喷嘴排放的有机EL材料的蒸发量，通过蒸发量监测设备监测各个喷嘴，并且利用监测到的各个喷嘴的有机EL材料的蒸发量信息，通过控制设备控制蒸发源。
-
公开(公告)号：CN101949002A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN201010225087.4
申请日：2010-07-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明涉及镀膜装置、蒸发源装置，及其蒸发源容器。在真空内向被蒸镀基板表面包覆蒸镀材料的镀膜装置中使用的蒸发源装置具有加热箱(210)，该加热箱在其外部具有加热器(71H)，在其内部形成空间，在垂直方向层叠并容纳多个蒸发源容器(220)；各蒸发源容器具有：由高导热材料构成的容器(221)，其断面形成为大致“U”字形，并且在大致中央部形成用于放出气体的贯通孔(222)，并以围绕该贯通孔的方式形成；覆盖容器的上面开口，由高导热材料构成的盖体(225)；将在容器内产生的蒸镀材料的气体通过间隙引导到贯通孔，集中到设于上述加热箱上部的导向部(212)，通过喷出孔(213)供应到被蒸镀基板(100)的表面。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.023 seconds)
