公开(公告)号：CN115507782A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202211231117.1

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251

Abstract: 提供一种图案测量装置和图案测量方法，图案测量装置具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。

公开(公告)号：CN111094891B

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN201780094300.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种图案测量装置，具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。

公开(公告)号：CN111094891A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201780094300.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种图案测量装置，具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。