公开(公告)号：CN115507782A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202211231117.1

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251

Abstract: 提供一种图案测量装置和图案测量方法，图案测量装置具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。

公开(公告)号：CN108700412B

公开(公告)日：2020-05-08

申请号：CN201680082888.5

申请日：2016-04-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 太田洋也 ,  谷本宪史 ,  田盛友浩 ,  山本琢磨

IPC: G01B15/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244

Abstract: 本发明的目的在于提供一种与深槽、深孔的形成精度无关，能够高精度地测定槽底、孔底等的图案测量装置。因此，在本发明中，提供一种图案测量装置，其具备基于由带电粒子束装置得到的信号，测定在试样上形成的图案的尺寸的运算装置，上述运算装置根据基于对上述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度位置的第2部分之间的偏移以及上述图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示上述图案的尺寸与上述偏移之间的关系的关系信息，修正上述图案的尺寸值。

公开(公告)号：CN111094891B

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN201780094300.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种图案测量装置，具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。

公开(公告)号：CN108700412A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201680082888.5

申请日：2016-04-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 太田洋也 ,  谷本宪史 ,  田盛友浩 ,  山本琢磨

IPC: G01B15/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244

Abstract: 本发明的目的在于提供一种与深槽、深孔的形成精度无关，能够高精度地测定槽底、孔底等的图案测量装置。因此，在本发明中，提供一种图案测量装置，其具备基于由带电粒子束装置得到的信号，测定在试样上形成的图案的尺寸的运算装置，上述运算装置根据基于对上述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度位置的第2部分之间的偏移以及上述图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示上述图案的尺寸与上述偏移之间的关系的关系信息，修正上述图案的尺寸值。

公开(公告)号：CN115668429A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202080101288.5

申请日：2020-06-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 糟谷圭吾 ,  石川修平 ,  谷本宪史 ,  土肥隆 ,  松永宗一郎 ,  森田裕 ,  米须大吾 ,  宫田健治

IPC: H01J37/063

Abstract: 一种电子源，具备在沿着中心轴的方向上的一侧端部具有开口部的抑制电极以及前端从开口部突出的电子发射材料，其中，抑制电极在比开口部靠外周方向的位置还具备后退部，该后退部在沿着中心轴的方向上后退至比开口部远离电子发射材料的前端的位置，后退部的至少一部分具备配置为距开口部的中心为直径2810μm以内等的构造。由此，实现降低了因电子发射材料与抑制电极的轴偏离引起的装置性能的机械差异的电子源、电子枪、以及使用了该电子枪的电子显微镜等带电粒子束装置。

公开(公告)号：CN111094891A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201780094300.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 山本琢磨 ,  太田洋也 ,  谷本宪史 ,  安部悠介 ,  田盛友浩 ,  野尻正明

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/2251 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种图案测量装置，具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。