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公开(公告)号：CN114902390A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080091062.1
申请日：2020-01-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01L21/66
Abstract: 根据基准波形(112)以及表示从背散射电子图像中提取出的沿第一方向的来自图案的背散射电子信号强度的BSE信号波形(211)，生成表示取得相同的背散射电子信号强度的BSE信号波形的坐标与基准波形的坐标的差值与背散射电子信号强度之间的关系的差值波形，并基于差值波形来判定在图案的侧壁有无一次电子束未照射到的遮挡区域(203)。在此，基准波形表示在基准图案上扫描了一次电子束时的沿第一方向的来自基准图案的背散射电子信号强度，其中，基准图案是相对于图案的表面以及底面垂直地形成了侧壁的图案。
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公开(公告)号：CN111933505B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202010193732.2
申请日：2020-03-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
Inventor： 山本琢磨
Abstract: 提供一种带电粒子束装置，即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下，也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。该带电粒子束装置具备：带电粒子束照射部，向试料照射带电粒子束；第一检测器，对来自所述试料的二次电子进行检测；第二检测器，对来自所述试料的反射电子进行检测；和图像处理部，基于所述第一检测器的输出，生成包括位于所述试料的表面的第一图案的图像的第一图像，且基于所述第二检测器的输出，生成包括位于比所述试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像。控制部基于针对所述第一图像的第一模板图像，调整所述第一图像中的测定区的位置，且基于针对所述第二图像的第二模板图像，调整所述第二图像中的测定区的位置。
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公开(公告)号：CN104718428A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201380052997.9
申请日：2013-10-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01B15/04 , G01N21/956 , G01N23/225 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC classification number: G06T7/001 , G01B2210/56 , G06K9/4604 , G06K9/52 , G06T7/0002 , G06T7/13 , G06T2207/30168 , H01J37/244 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明提供一种图案的检查、测量装置，对检查或测量对象图案进行拍摄，使用从所得到的图像数据提取的边缘位置来进行检查或测量，能够降低噪声等的影响，提高检查或测量结果的可靠性。为此，图案的检查、测量装置的特征在于，对检查或测量对象图案进行拍摄，从所得到的图像数据利用边缘提取参数来提取边缘位置，利用该边缘位置来进行检查或测量对象图案的检查或测量，使用表示作为检查或测量的基准的形状的基准图案和所述图像数据来生成所述边缘提取参数。
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公开(公告)号：CN111094891B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201780094300.2
申请日：2017-10-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01B15/00 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 提供一种图案测量装置，具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。
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公开(公告)号：CN114223047A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201980099380.X
申请日：2019-08-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Inventor： 山本琢磨
IPC: H01J37/22
Abstract: 在短时间内测量重合偏差量的测定。图像生成部根据检测器的信号生成图像。匹配处理部在由图像生成部生成的图像中，通过与模板图像的匹配处理，确定重合测量用图案的位置。线轮廓生成部对重合图案进行扫描，生成针对二次电子信号的第一线轮廓，并且生成针对反射电子信号的第二线轮廓。重合偏差量测定部根据第一线轮廓确定重合测量用图案中的第一图案的位置，并且根据第二线轮廓确定重合测量用图案中的第二图案的位置，根据第一图案的位置以及第二图案的位置，测定试样中的重合偏差量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108700412A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082888.5
申请日：2016-04-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01B15/00 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/244
Abstract: 本发明的目的在于提供一种与深槽、深孔的形成精度无关，能够高精度地测定槽底、孔底等的图案测量装置。因此，在本发明中，提供一种图案测量装置，其具备基于由带电粒子束装置得到的信号，测定在试样上形成的图案的尺寸的运算装置，上述运算装置根据基于对上述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度位置的第2部分之间的偏移以及上述图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示上述图案的尺寸与上述偏移之间的关系的关系信息，修正上述图案的尺寸值。
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公开(公告)号：CN116936322A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202311143435.7
申请日：2020-03-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
Inventor： 山本琢磨
Abstract: 一种重叠偏移量算出系统及方法，即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下，也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。重叠偏移量算出系统具备控制部，根据通过向试料照射带电粒子束而得到的图像算出图案间的重叠偏移量，基于与第一模板图像的匹配，根据包括位于试料的表面的第一图案的图像的第一图像，决定第一图案的第一位置，基于与第二模板图像的匹配，根据包括位于比试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像，决定第二图案的第二位置，基于所决定的第一位置调整第一图像中的第一测定区的位置，基于所决定的第二位置调整第二图像中的第二测定区的位置，按照第一、第二测定区的位置调整结果，算出第一、第二图案间的重叠偏移量。
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公开(公告)号：CN115507782A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202211231117.1
申请日：2017-10-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01B15/00 , G01N23/2251
Abstract: 提供一种图案测量装置和图案测量方法，图案测量装置具备运算装置，该运算装置基于由带电粒子束装置得到的信号，对形成在试料上的图案的尺寸进行测定，所述运算装置具有：位置偏移量算出部，其根据以任意的射束倾转角获取到的图像，算出不同高度的两个图案之间的与晶片表面平行的方向的位置偏移量；图案倾斜量算出部，其通过预先求出的所述位置偏移量与所述图案的倾斜量的关系式，根据所述位置偏移量来算出所述图案的倾斜量；以及射束倾转控制量算出部，其控制射束倾转角，使得与所述图案的倾斜量一致，设定为算出的射束倾转角，再次获取图像而进行图案的测量。
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公开(公告)号：CN113785170A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN201980095995.5
申请日：2019-05-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 为了测量形成于层叠多个不同的材料而得到的样品的图案的立体形状，对构成图案的材料分别预先存储表征该材料中的在单位距离内该材料和电子引起散射的概率的衰减率μ，提取BSE图像中的图案的上表面位置、底面位置以及不同的材料彼此相接的界面位置，使用相对于BSE图像中的图案的上表面位置与底面位置的对比度的所述图案的任意位置与底面位置的对比度的比率nIh、和图案的底面位置的材料的衰减率以及图案的该任意位置的材料的衰减率，来算出图案的该任意位置的距上表面位置的深度。
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公开(公告)号：CN111933505A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN202010193732.2
申请日：2020-03-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
Inventor： 山本琢磨
Abstract: 提供一种带电粒子束装置，即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下，也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。该带电粒子束装置具备：带电粒子束照射部，向试料照射带电粒子束；第一检测器，对来自所述试料的二次电子进行检测；第二检测器，对来自所述试料的反射电子进行检测；和图像处理部，基于所述第一检测器的输出，生成包括位于所述试料的表面的第一图案的图像的第一图像，且基于所述第二检测器的输出，生成包括位于比所述试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像。控制部基于针对所述第一图像的第一模板图像，调整所述第一图像中的测定区的位置，且基于针对所述第二图像的第二模板图像，调整所述第二图像中的测定区的位置。
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