公开(公告)号：CN100454145C

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：CN200410083264.4

申请日：2004-09-29

Applicant: 株式会社日立高新技术 ,  佳能株式会社

Inventor： 谷本明佳 ,  早田康成 ,  中山义则 ,  上村理 ,  依田晴夫 ,  细田真希

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/04 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供即便是归因于多射束形成元件的故障等在带电粒子中产生了不良的情况下，也可以进行描绘处理而无须交换多射束形成元件，且不会使描绘精度下降的带电粒子束描绘技术。具有：形成以规定的间隔排列起来的多个带电粒子束的装置，对于多个带电粒子束独立地发挥作用的多个消隐器；对全部上述带电粒子束发挥作用的公用消隐器；在已给公用消隐器施加上了信号的状态下使已借助于多个消隐器赋予了规定的偏转作用的带电粒子束到达被曝光物上边，用来对于样品遮断未借助于多个消隐器赋予规定的偏转作用的带电粒子束的光阑装置，对于样品遮断特性不良的射束，仅仅用特性良好的射束进行描绘。

公开(公告)号：CN1607640A

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN200410083264.4

申请日：2004-09-29

Applicant: 株式会社日立高新技术 ,  佳能株式会社

Inventor： 谷本明佳 ,  早田康成 ,  中山义则 ,  上村理 ,  依田晴夫 ,  细田真希

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/04 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供即便是归因于多射束形成元件的故障等在带电粒子中产生了不良的情况下，也可以进行描绘处理而无须交换多射束形成元件，且不会使描绘精度下降的带电粒子束描绘技术。具有：形成以规定的间隔排列起来的多个带电粒子束的装置，对于多个带电粒子束独立地发挥作用的多个消隐器；对全部上述带电粒子束发挥作用的公用消隐器；在已给公用消隐器施加上了信号的状态下使已借助于多个消隐器赋予了规定的偏转作用的带电粒子束到达被曝光物上边，用来对于样品遮断未借助于多个消隐器赋予规定的偏转作用的带电粒子束的光阑装置，对于样品遮断特性不良的射束，仅仅用特性良好的射束进行描绘。