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公开(公告)号：CN105745577B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201480061165.8
申请日：2014-09-08
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
CPC分类号： H01J37/023 , B01J19/12 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70891 , G03F7/709 , G03F7/70975 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/3007 , H01J37/3177
摘要： 本发明涉及一种用于使射束指向目标的投影透镜组件。该组件包括透镜支撑体(52)，其跨过平面(P)并具有连接区域(58)和侧边(56)。透镜支撑体被布置成用于沿着插入方向(X)与平面(P)平行地插入处理单元的载物架(42)中。投影透镜组件包括从连接区域发出的管线(60‑64)，以及用于容纳上述管线的管线导向体(70‑81)。该导向体包括第一导向部(72)，用于引导管线从连接区域，沿着平面到达超出侧边的外侧区域(B)。导向体还包括第二导向部(78)，用于将管线从外侧区域(B)朝向管线导向体的倾斜边(79)引导。
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公开(公告)号：CN105372944B
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201410829755.2
申请日：2014-12-26
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J37/12 , H01J37/20 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205
摘要： 本发明公开了用于带电粒子多束光刻系统的装置。该装置包括多个带电粒子双合透镜，每个双合透镜均具有第一孔径并且均配置为缩小入射在第一孔径上的细光束，从而产生缩小的细光束。该装置还包括多个带电粒子透镜，每个带电粒子透镜均与带电粒子双合透镜中的一个相关，每个带电粒子透镜均具有第二孔径，并且每个带电粒子透镜均配置为从相关的带电粒子双合透镜接受缩小的细光束并且实现以下两种状态中的一种：开启状态，其中允许缩小的细光束沿着期望的路径传输，以及关闭状态，其中阻止缩小的细光束沿着期望的路径传输。在实施例中，第一孔径大于第二孔径，从而改进带电粒子多束光刻系统中的粒子束效率。
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公开(公告)号：CN104795303B
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201510083714.8
申请日：2010-05-19
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70475 , G06T1/20 , G06T1/60 , H01J37/045 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31761 , H01J2237/31764 , H04N1/405
摘要： 本发明提出一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法，其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束，该方法包括：提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射；栅格化所述图案数据，所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据；将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器；和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断；其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整，以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。
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公开(公告)号：CN106933063A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710159862.2
申请日：2013-03-20
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/32 , B82Y10/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
摘要： 一种电子射束光刻系统，包括：子束发生器，用于生成多个电子子束；子束操纵器，其包括孔径阵列，用于操纵所述多个电子子束；对准框架，其被布置成支撑所述子束操纵器；被布置成支撑所述对准框架的框架；用于产生等离子体的等离子体发生器，其中所述等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室，其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基，并且其中所述等离子体发生器的室被集成到所述对准框架中。
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公开(公告)号：CN104321701B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201380025372.3
申请日：2013-03-20
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/32 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
摘要： 本发明涉及用于运输自由基的装置。该装置包括等离子体发生器和导向体。等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室(2)。该室具有用于接收输入气体的进口(5)，和用于排除在室中产生的等离子体和自由基中的至少一者的一个或多个出口(6)。该导向体是中空的，且布置成朝向要除去的污染沉积物所在的区域或空间引导在等离子体中形成的自由基。该室进口连接到压力装置(40)，该压力装置用于向室中提供脉动的压力，以便在导向体中产生流。
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公开(公告)号：CN106537556A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201480080745.1
申请日：2014-12-22
申请人： 英特尔公司
发明人： Y·A·波罗多维斯基
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2037 , H01J37/045 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/303 , H01J2237/30422 , H01J2237/30438 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01J2237/31769 , H01L21/0277 , H01L21/0337 , H01L21/308 , H01L21/31144 , H01L21/32139 , H01L21/76816
摘要： 描述了适合于互补型电子束光刻(CEBL)的光刻装置和涉及互补型电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中，用于电子束直接写入光刻工具的列包括第一阻断器孔阵列(BAA)，该第一阻断器孔阵列(BAA)包括沿着阵列方向具有节距的开口的交错阵列。阵列方向与扫描方向正交。每个开口在阵列方向上都具有第一尺寸。列还包括第二BAA，该第二BAA包括沿着阵列方向具有节距的开口的交错阵列。每个开口在阵列方向上都具有第二尺寸，第二尺寸大于第一尺寸。
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公开(公告)号：CN106463348A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201480078801.8
申请日：2014-12-19
申请人： 英特尔公司
发明人： D·W·纳尔逊 , Y·A·波罗多维斯基 , M·C·菲利普斯 , R·M·比格伍德
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/31144 , G03F7/2059 , G03F7/7045 , H01J37/045 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/303 , H01J2237/30422 , H01J2237/30438 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01L21/0277
摘要： 描述了适合于互补型电子束光刻(CEBL)的光刻装置和涉及互补型电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中，一种用于电子束工具简化的数据压缩或数据缩减的方法涉及提供数据量以写入列区域并且针对晶圆上的区域边缘位置误差调整所述列区域，其中，所述数据量局限于用于对大约10％或更少的所述列区域进行图案化的数据。所述方法还涉及使用所述数据量在晶圆上执行电子束写入。
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公开(公告)号：CN103946749B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201280051562.8
申请日：2012-09-12
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： J·J·M·佩斯特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H01J37/20 , H01J37/3177 , H01J2237/0266 , H01J2237/16 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221 , H01J2237/20285 , H02K41/02
摘要： 一种目标定位装置，尤其用于光刻系统，其包括用于承载目标的载体(300)，以及用于承载载体并沿着第一方向(X)移动该载体的支撑台。该支撑台包括两个X‑支撑台基座(401、402)，二者皆布置在公共基板(403)的顶部上，每一个X‑支撑台基座承载一X‑支撑台托架(404、405)，以及一Y‑梁(406)，所述Y‑梁包括用以承载所述载体并在第二方向(Y)上移动该载体的Y‑支撑台(407)。所述Y‑梁跨接该X‑支撑台托架之间的空间并经由一柔性连接器(408、409)而被连接到该X‑支撑台托架上。该装置还包括两个电机(M1、M2)，每一个用以沿着相应的X‑支撑台基座驱动相应的X‑支撑台托架。该两个电机至少大致被设置在该支撑台下方。所述两个电机中的每一个被连接至一偏心凸轮或曲柄(410、411)，后者经由一曲柄轴(412、413)而被连接至该相对应的X‑支撑台托架。
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公开(公告)号：CN105874560A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480071806.8
申请日：2014-11-14
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/065
CPC分类号： G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
摘要： 本发明涉及一种准直器电极，其包括设置有中心电极孔(82)的电极主体(81)，其中所述电极主体限定介于两个相反的主要表面之间的电极高度，并且其中所述电极主体在所述电极主体内部容纳用于传送冷却液体(102)的冷却导管(105)。所述电极主体优选地具有圆盘形状或扁圆环形状。本发明还涉及一种适用于带电粒子束产生器的准直器电极堆叠，其包括：第一准直器电极和第二准直器电极，其各自设置有用于传送所述冷却液体(102)的冷却导管(105)；以及连接导管(110)，其用于所述第一及第二准直器电极的所述冷却导管之间的液体连接。
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公开(公告)号：CN105849854A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480070999.5
申请日：2014-12-22
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： P·I·谢弗斯
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/22 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3177 , H01J2237/10 , H01J2237/202 , H01J2237/2443 , H01J2237/24507
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标上的带电粒子光刻系统，所述系统包括：目标定位设备，该目标定位设备包括具有用于支托目标的第一侧的目标支托架；带电粒子光学单元，该带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向目标支托架的第一侧；以及传感器组装件，该传感器组装件包括：转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中转换器元件被布置在所述目标定位设备上；光传感器，所述光传感器用于检测光，其中光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，所述光学透镜被布置在转换器元件和光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器。
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