公开(公告)号：CN113584480B

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202110465540.7

申请日：2021-04-28

Applicant: 株式会社爱信 ,  株式会社东研热科技

Inventor： 金成姬 ,  铃木奉努 ,  梶野正树 ,  北村和也 ,  大森直之

IPC: C23C28/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/50

Abstract: 低摩擦磨损膜(10)包括：铬层(11)，形成于金属基材(1)表面；碳化钨倾斜层(14)，形成在所述铬层(11)的表面上；以及作为顶层的类金刚石碳层(15)，形成在所述碳化钨倾斜层(14)的表面上。所述碳化钨倾斜层(14)包含铬－碳化钨倾斜层(12)和碳化钨均匀层(13)。上述铬－碳化钨倾斜层(14)在上述铬－碳化钨倾斜层(12)与上述碳化钨均匀层(13)的边界不形成存在钨单质的钨浓缩层。

公开(公告)号：CN113584480A

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202110465540.7

申请日：2021-04-28

Applicant: 株式会社爱信 ,  株式会社东研热科技

Inventor： 金成姬 ,  铃木奉努 ,  梶野正树 ,  北村和也 ,  大森直之

IPC: C23C28/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/50

Abstract: 低摩擦磨损膜(10)包括：铬层(11)，形成于金属基材(1)表面；碳化钨倾斜层(14)，形成在所述铬层(11)的表面上；以及作为顶层的类金刚石碳层(15)，形成在所述碳化钨倾斜层(14)的表面上。所述碳化钨倾斜层(14)包含铬－碳化钨倾斜层(12)和碳化钨均匀层(13)。上述铬－碳化钨倾斜层(14)在上述铬－碳化钨倾斜层(12)与上述碳化钨均匀层(13)的边界不形成存在钨单质的钨浓缩层。