-
公开(公告)号：CN114746278B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080084378.8
申请日：2020-12-11
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种基材，具有第一图案，该第一图案形成在基材的表面上或内部，或者形成在基材的表面上和内部，其中第一图案由第二图案的集合体构成。
-
公开(公告)号：CN104181695B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201410215867.9
申请日：2014-05-16
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B3/04 , G02B5/10 , G02B13/16 , G02B17/0852 , G02B17/0896 , G03B21/14 , G03B21/28
Abstract: 本发明涉及投影光学系统和图像显示装置，其目的在于提供投影距离十分短的小型投影光学系统。投影光学系统中，最靠近放大端的透镜的放大端一侧镜面与光轴的交点到反射镜(102)与光轴的交点间距离为最小时的距离L、折射光学系统(101)的焦距f、以光轴方向为Z轴向并以平面镜(102)和曲面镜(103)的排列方向为Y轴时该Y轴向上光轴与图像形成部(10)的端部间距离最大值Ymax在YZ平面上满足 及其中，D1是从光线与最靠近放大端的透镜的放大端一侧镜面的交点到光轴的距离最大值，ds1是D1所涵盖的镜面部分的凹陷量，θ1是连接光线与曲面镜(103)的交点中离开光轴距离最大的点和最小的点的线与光轴间的夹角。
-
公开(公告)号：CN104181695A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410215867.9
申请日：2014-05-16
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B3/04 , G02B5/10 , G02B13/16 , G02B17/0852 , G02B17/0896 , G03B21/14 , G03B21/28
Abstract: 本发明涉及投影光学系统和图像显示装置，其目的在于提供投影距离十分短的小型投影光学系统。投影光学系统中，最靠近放大端的透镜的放大端一侧镜面与光轴的交点到反射镜(102)与光轴的交点间距离为最小时的距离L、折射光学系统(101)的焦距f、以光轴方向为Z轴向并以平面镜(102)和曲面镜(103)的排列方向为Y轴时该Y轴向上光轴与图像形成部(10)的端部间距离最大值Ymax在YZ平面上满足及其中，D1是从光线与最靠近放大端的透镜的放大端一侧镜面的交点到光轴的距离最大值，ds1是D1所涵盖的镜面部分的凹陷量，θ1是连接光线与曲面镜(103)的交点中离开光轴距离最大的点和最小的点的线与光轴间的夹角。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115107391B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202210246896.6
申请日：2022-03-14
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供了一种热敏记录介质，其包括基础材料、热敏记录层和印刷层。印刷层相对于具有400nm或更长但700nm或更短的波长的可见光的平均吸光度A1(％)，热敏记录层相对于可见光的平均吸光度A2(％)，以及印刷层相对于在通过激光印刷期间的激光照射波长的平均吸光度B1(％)满足下式：A1>A2，和下式：A1>B1。
-
公开(公告)号：CN115107391A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210246896.6
申请日：2022-03-14
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供了一种热敏记录介质，其包括基础材料、热敏记录层和印刷层。印刷层相对于具有400nm或更长但700nm或更短的波长的可见光的平均吸光度A1(％)，热敏记录层相对于可见光的平均吸光度A2(％)，以及印刷层相对于在通过激光印刷期间的激光照射波长的平均吸光度B1(％)满足下式：A1>A2，和下式：A1>B1。
-
公开(公告)号：CN114746278A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202080084378.8
申请日：2020-12-11
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种基材，具有第一图案，该第一图案形成在基材的表面上或内部，或者形成在基材的表面上和内部，其中第一图案由第二图案的集合体构成。
-
公开(公告)号：CN103217790B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201310027668.0
申请日：2013-01-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B26/124 , B41J2/44 , B41J2/442 , G02B7/02 , G02B7/021 , G02B26/123
Abstract: 本发明涉及光扫描装置以及图像形成装置，其目的在于提供一种既有助于小型化又能够抑制扫描曲线弯曲以及波前像差的恶化的光扫描装置。在本发明的光扫描装置中，两个光源(2200a、2200b)在Z方向上分开设置，从两个光源发射的两束光沿着相对于多面镜(2104A)的转动轴的正交面倾斜的方向入射偏转反射面，进而，用保持部件(10)保持两个光源以及两个耦合透镜(2201a、2201b)，该保持部件(10)在从光源到对应的耦合透镜的方向上的两个不同位置(承受部A、承受部B)上受到光学框架2300A的支持。
-
公开(公告)号：CN103217790A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310027668.0
申请日：2013-01-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B26/124 , B41J2/44 , B41J2/442 , G02B7/02 , G02B7/021 , G02B26/123
Abstract: 本发明涉及光扫描装置以及图像形成装置，其目的在于提供一种既有助于小型化又能够抑制扫描曲线弯曲以及波前像差的恶化的光扫描装置。在本发明的光扫描装置中，两个光源(2200a、2200b)在Z方向上分开设置，从两个光源发射的两束光沿着相对于多面镜(2104A)的转动轴的正交面倾斜的方向入射偏转反射面，进而，用保持部件(10)保持两个光源以及两个耦合透镜(2201a、2201b)，该保持部件(10)在从光源到对应的耦合透镜的方向上的两个不同位置(承受部A、承受部B)上受到光学框架2300A的支持。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.023 seconds)
