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公开(公告)号：CN104968826B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201480007860.6
申请日：2014-01-09
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/02
CPC classification number: C23C16/0245 , C23C14/022 , C23C16/0227 , C23C16/44 , C23C16/4584 , C23C16/486 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J2237/3321 , H01J2237/335
Abstract: 本发明提供一种用于对基材的表面稳定地进行清洁的离子轰击装置（1）。该装置具备：真空腔（2）、被设置在其内壁面并且放出电子的至少一个电极（3）、接受来自所述电极（3）的电子的多个正极（4）即被配置为以隔着所述基材与所述电极相向的方式相向的多个正极、以及与各正极（4）对应的多个放电电源（5）。各放电电源（5）与所述真空腔（2）绝缘，对与该放电电源（5）对应的正极（4）供给能够彼此独立地设定的电流或电压，由此，在该正极（4）与所述电极（3）之间产生辉光放电。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103132013A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210481360.9
申请日：2012-11-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/32018 , C23C14/022 , C23C14/325 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/32403 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的离子轰击装置，在真空腔的一个内侧面配置有用丝极构成的加热式的热电子释放电极，在真空腔的其它内侧面配置有接受来自热电子释放电极的热电子的阳极，在热电子释放电极和阳极之间配置有基体材料。进而具有：在热电子释放电极及阳极之间给予电位差，使其产生辉光放电的放电电源；加热热电子释放电极而使其释放热电子的加热电源；以及将对于真空腔而言负的脉冲状偏置电位给予基体材料的偏置电源。
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公开(公告)号：CN103132013B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210481360.9
申请日：2012-11-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/32018 , C23C14/022 , C23C14/325 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/32403 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的离子轰击装置，在真空腔的一个内侧面配置有用丝极构成的加热式的热电子释放电极，在真空腔的其它内侧面配置有接受来自热电子释放电极的热电子的阳极，在热电子释放电极和阳极之间配置有基体材料。进而具有：在热电子释放电极及阳极之间给予电位差，使其产生辉光放电的放电电源；加热热电子释放电极而使其释放热电子的加热电源；以及将对于真空腔而言负的脉冲状偏置电位给予基体材料的偏置电源。
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公开(公告)号：CN102933738B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201180027644.4
申请日：2011-06-15
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B23K9/00 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3402
Abstract: 本发明提供一种成膜速度快的电弧式蒸发源。本发明的电弧式蒸发源(1)具备：至少一个外周磁铁(3)，其包围标靶(2)的外周，并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第一永磁铁(4A)，其配置于标靶(2)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向极性且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第二永磁铁(4B)，其在与所述第一永磁铁(4A)隔开间隔的状态下，配置于第一永磁铁(4A)与标靶(2)之间、或配置于第一永磁铁(4A)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向的极性并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；以及磁性体(5)，其配置在第一永磁铁(4A)与第二永磁铁(4B)之间。
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公开(公告)号：CN104968826A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007860.6
申请日：2014-01-09
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/02
CPC classification number: C23C16/0245 , C23C14/022 , C23C16/0227 , C23C16/44 , C23C16/4584 , C23C16/486 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J2237/3321 , H01J2237/335
Abstract: 本发明提供一种用于对基材的表面稳定地进行清洁的离子轰击装置（1）。该装置具备：真空腔（2）、被设置在其内壁面并且放出电子的至少一个电极（3）、接受来自所述电极（3）的电子的多个正极（4）即被配置为以隔着所述基材与所述电极相向的方式相向的多个正极、以及与各正极（4）对应的多个放电电源（5）。各放电电源（5）与所述真空腔（2）绝缘，对与该放电电源（5）对应的正极（4）供给能够彼此独立地设定的电流或电压，由此，在该正极（4）与所述电极（3）之间产生辉光放电。
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公开(公告)号：CN102933738A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201180027644.4
申请日：2011-06-15
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B23K9/00 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3402
Abstract: 提供一种成膜速度快的电弧式蒸发源。本发明的电弧式蒸发源(1)具备：至少一个外周磁铁(3)，其包围标靶(2)的外周，并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第一永磁铁(4A)，其配置于标靶(2)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向极性且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第二永磁铁(4B)，其在与所述第一永磁铁(4A)隔开间隔的状态下，配置于第一永磁铁(4A)与标靶(2)之间、或配置于第一永磁铁(4A)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向的极性并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；以及磁性体(5)，其配置在第一永磁铁(4A)与第二永磁铁(4B)之间。
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