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    Al基合金溅射靶
    1.
    发明公开
    Al基合金溅射靶 失效

    公开(公告)号：CN102102183A

    公开(公告)日：2011-06-22

    申请号：CN201010597854.4

    申请日：2010-12-16

    申请人： 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

    发明人： 高木敏晃 ,  松本克史 ,  岩崎祐纪 ,  长尾护 ,  莳野秀忠

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/14

    摘要： 提供一种Al基合金溅射靶，其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升)，可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其中，以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时，算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下，以及最大高度Rz为10μm以下，并且，将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q，跨越基准长度100mm，依次计数P和Q时，P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。

    Al基合金溅射靶
    5.
    发明授权
    Al基合金溅射靶 失效

    公开(公告)号：CN102102183B

    公开(公告)日：2013-10-09

    申请号：CN201010597854.4

    申请日：2010-12-16

    申请人： 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

    发明人： 高木敏晃 ,  松本克史 ,  岩崎祐纪 ,  长尾护 ,  莳野秀忠

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/14

    摘要： 提供一种Al基合金溅射靶，其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升)，可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其中，以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时，算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下，以及最大高度Rz为10μm以下，并且，将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q，跨越基准长度100mm，依次计数P和Q时，P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。

    Al基合金溅射靶
    7.
    发明公开
    Al基合金溅射靶 无效

    公开(公告)号：CN102770576A

    公开(公告)日：2012-11-07

    申请号：CN201180010694.1

    申请日：2011-02-25

    申请人： 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

    发明人： 岩崎祐纪 ,  松本克史 ,  高木敏晃 ,  长尾护 ,  莳野秀忠

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C22C21/00

    CPC分类号： C23C14/3414 ,  C22C21/00

    摘要： 本发明提供一种技术，其在使用Al基合金溅射靶时，即使进行高速成膜也能够抑制飞溅的发生。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其含有Ni和稀土元素，在利用背散射电子衍射像法对上述Al基合金溅射靶的表层部、1/4×t(t：Al基合金溅射靶的厚度)部、1/2×t部的各溅射面的法线方向的结晶方位 、 、 、 及 进行观察时，满足以下要件：(1)在将上述 ±15°、上述 ±15°及上述 ±15°的总面积率设为R(各处的R中，上述表层部为Ra，上述1/4×t部为Rb，上述1/2×t部为Rc)时，R为0.35以上且0.80以下，并且，(2)上述Ra、上述Rb及上述Rc在R平均值[Rave＝(Ra+Rb+Rc)/3]的±20％的范围内。