-
公开(公告)号:CN101452822A
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:CN200810111353.3
申请日:2008-05-27
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/04
摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。
-
公开(公告)号:CN100595900C
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200710107577.2
申请日:2007-05-21
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/677
CPC分类号: B65G47/514 , H01L21/67742 , H01L21/67751 , H01L21/67769 , Y10S414/135 , Y10T29/49829
摘要: 本发明提供了一种用于调整先进先出的缓冲系统,具体说是一种暂时存储多个基板并能够调整先进先出的缓冲系统。该缓冲系统包括一个或多个具有轴和安装固定在轴上的辊筒的缓冲层,用以暂时存储或传递基板,使缓冲层上下移动的垂直移动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层与驱动单元连接,驱动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层的轴旋转,从而传递基板。
-
公开(公告)号:CN101088636A
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200710098261.1
申请日:2007-04-25
申请人: 株式会社细美事
CPC分类号: B08B1/04 , H01L21/67046
摘要: 本发明提供一种用于清洁平板显示器的装置及其所使用的滚刷。该装置包括内壁,中空圆柱形结合部,每一个该结合部与该内壁连接且在其上具有开口,滚刷,每一个该滚刷都包括穿过中空圆柱形结合部开口的旋转轴,与旋转轴结合为一体并具有比结合部外径大的内径的中空圆柱形挡液部件,以及刷体。
-
-
公开(公告)号:CN101093810A
公开(公告)日:2007-12-26
申请号:CN200710107577.2
申请日:2007-05-21
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/677
CPC分类号: B65G47/514 , H01L21/67742 , H01L21/67751 , H01L21/67769 , Y10S414/135 , Y10T29/49829
摘要: 本发明提供了一种用于调整先进先出的缓冲系统,具体说是一种暂时存储多个基板并能够调整先进先出的缓冲系统。该缓冲系统包括一个或多个具有轴和安装固定在轴上的辊筒的缓冲层,用以暂时存储或传递基板,使缓冲层上下移动的垂直移动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层与驱动单元连接,驱动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层的轴旋转,从而传递基板。
-
公开(公告)号:CN101452822B
公开(公告)日:2010-12-15
申请号:CN200810111353.3
申请日:2008-05-27
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/04
摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。
-
公开(公告)号:CN100594995C
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200710098261.1
申请日:2007-04-25
申请人: 株式会社细美事
CPC分类号: B08B1/04 , H01L21/67046
摘要: 本发明提供一种用于清洁平板显示器的装置及其所使用的滚刷。该装置包括内壁,中空圆柱形结合部,每一个该结合部与该内壁连接且在其上具有开口,滚刷,每一个该滚刷都包括穿过中空圆柱形结合部开口的旋转轴,与旋转轴结合为一体并具有比结合部外径大的内径的中空圆柱形挡液部件,以及刷体。
-
-
-
-
-
-