基板清洗装置及其修正方法

    公开(公告)号:CN101452822A

    公开(公告)日:2009-06-10

    申请号:CN200810111353.3

    申请日:2008-05-27

    发明人: 尹泰烈 李晟熙

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/304 B08B1/04

    摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。

    基板清洗装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101130188A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710106113.X

    申请日:2007-05-25

    发明人: 李晟熙 李铉雨

    IPC分类号: B08B3/00 B08B3/10 B08B3/02

    摘要: 本发明的课题是提供一种提高生产率的基板清洗装置。解决方法是一种基板清洗装置,其包含将气体和药液混合后形成薄雾、再将薄雾喷射到基板上的喷头,向喷头供给药液的药液供给部,向喷头供给气体的气体供给部,以及与气体供给部相连接的、使气体的温度上升的加热部。

    基板清洗装置及其修正方法

    公开(公告)号:CN101452822B

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:CN200810111353.3

    申请日:2008-05-27

    发明人: 尹泰烈 李晟熙

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/304 B08B1/04

    摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。