公开(公告)号：CN115147690A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210383534.1

申请日：2022-03-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 纳齐格塔·查汗 ,  八木圭太 ,  中村显 ,  卡维德·罗赫特

IPC: G06V10/80 ,  G06V10/774 ,  G06V10/764 ,  G06V10/74 ,  G06N20/00 ,  B24B37/005 ,  B24B49/12 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种膜厚推定模型的创建方法、膜厚推定方法及存储介质，该模型能够降低来自晶片等工件的反射光的谱图的偏差的影响，并决定准确的膜厚。本方法包括下述的工序：决定分别表示来自具有膜的样本的反射光的多个样本谱图的特征的多个样本特征量，通过计算出所述多个样本谱图中的每一个与代表谱图之间的相似度而取得多个相似度，使用训练数据执行机器学习来创建膜厚推定模型，该训练数据包含所述多个样本特征量、所述多个相似度以及与所述多个样本谱图分别对应的多个膜厚。