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公开(公告)号：CN111771260B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN201980014614.6
申请日：2019-02-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。
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公开(公告)号：CN107078046B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201580058746.0
申请日：2015-10-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种可清洗基板的最边缘部的基板清洗辊以及使用其的基板清洗装置。基板清洗装置(10)具备：主轴(11)，保持基板(S)；下部基板清洗辊(13)，具有圆柱形状，以长度方向与基板(S)的表面平行的方式接触基板(S)，并绕长度方向的旋转轴旋转，用于擦洗清洗基板(S)的表面；上下驱动机构，将下部基板清洗辊(13)按压于基板(S)的下侧表面使得长度方向与基板(S)的表面成水平；以及旋转驱动机构，使被上下驱动机构按压于基板(S)的下侧表面的下部基板清洗辊(13)绕旋转轴旋转。下部基板清洗辊(13)在长度方向的至少一端侧具备边缘结(135)，该边缘结(135)具有倾斜面(1351)，在下部基板清洗辊(13)接触基板(S)时，倾斜面(1351)与基板(S)的周缘的斜面部B的最边缘部(侧部R)抵接触碰。
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公开(公告)号：CN111771260A
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201980014614.6
申请日：2019-02-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/304
Abstract: 提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。
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公开(公告)号：CN104971916B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201510151490.X
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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公开(公告)号：CN107393846A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710316200.1
申请日：2017-05-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/02 , B08B3/024 , H01L21/02052 , H01L21/67017 , H01L21/6708
Abstract: 基板清洗装置包括：基板保持机构(70)，所述基板保持机构(70)对基板(W)进行保持；基板旋转机构(72)，所述基板旋转机构(72)使保持于基板保持机构(70)的基板(W)旋转；以及双流体喷嘴(46)，所述双流体喷嘴(46)使双流体喷流向旋转着的所述基板(W)的表面喷出。双流体喷嘴(46)由导电性材料构成。由此，能够对从双流体喷嘴(46)作为双流体喷流而喷出的液滴的带电量进行抑制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104275317A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410317584.5
申请日：2014-07-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 本发明提供一种快速地从基板上去除用于辊形清洗件进行的清洗的清洗液的基板清洗装置。其具有：对基板(W)进行保持并使其旋转的基板保持部(71～74、75)；将清洗液供给到基板(W)的第1区域(R1)的清洗液供给喷管(87)；在清洗液的存在下通过与基板(W)滑动接触而对基板(W)进行清洗的辊形清洗件(77)；以及将由纯水或者药液构成的流体供给到基板(W)的第2区域(R2)的流体供给喷管(88)。第2区域(R2)相对于辊形清洗件(77)位置第1区域(R1)的相反侧，流体的供给方向是从基板(W)的中心侧朝向外周侧的方向。
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公开(公告)号：CN115540513A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202210744150.8
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 本发明提供一种能够抑制微小尺寸的缺陷(例如缺陷尺寸为20nm以下的缺陷)的产生的基板干燥装置及基板干燥方法。基板干燥装置(1)具备：基板保持部(11)，该基板保持部保持基板(W)；气体发生器(60)，该气体发生器生成干燥气体(G)，该干燥气体至少包含IPA蒸气且用于使基板(W)干燥；以及干燥气体喷嘴(30)，该干燥气体喷嘴将干燥气体(G)供给到基板(W)的表面(WA)。在气体发生器(60)设置有用于过滤干燥气体(G)的过滤器(67)，在基板(W)的干燥后的缺陷检查中容许的缺陷尺寸D被设定为20nm以下，并且，缺陷尺寸D与过滤器(67)的过滤尺寸F之比D/F被设定为4以上。
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公开(公告)号：CN109647769B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201811309797.8
申请日：2015-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。
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公开(公告)号：CN105575851B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201510724374.2
申请日：2015-10-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。
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公开(公告)号：CN111048442A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201910964641.1
申请日：2019-10-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 石桥知淳
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种清洗力高的基板清洗装置和基板清洗部件，所述基板清洗装置具备：基板保持旋转机构，该基板保持旋转机构对基板进行保持并使其旋转；以及辊型的第一清洗部件，该第一清洗部件通过一边与所述基板的第一面的斜端及/或边缘接触一边旋转来对所述第一面进行清洗，所述第一清洗部件的旋转轴与所述基板平行，所述第一清洗部件具有大径部及小径部。
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