公开(公告)号：CN108695210B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201810298844.7

申请日：2018-04-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 蓑岛大介 ,  今井正芳

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种具有较高的清洗性能的基板清洗装置、基板清洗方法以及这样的基板清洗装置的控制方法。提供一种基板清洗装置，具备：基板保持旋转部，该基板保持旋转部保持基板并使该基板旋转；长条状的清洗部件，该长条状的清洗部件与旋转的所述基板接触而清洗所述基板；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和该第二喷嘴相对于所述清洗部件的长度方向配置于同一侧，与所述第二喷嘴相比，所述第一喷嘴更有力地向第一区域供给液体，该第一区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第一喷嘴侧，所述第二喷嘴向第二区域供给液体，该第二区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第二喷嘴侧，且比包括至少基板的周缘部外侧的区域的所述第一区域宽。

公开(公告)号：CN108695210A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810298844.7

申请日：2018-04-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 蓑岛大介 ,  今井正芳

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/02057

Abstract: 提供一种具有较高的清洗性能的基板清洗装置、基板清洗方法以及这样的基板清洗装置的控制方法。提供一种基板清洗装置，具备：基板保持旋转部，该基板保持旋转部保持基板并使该基板旋转；长条状的清洗部件，该长条状的清洗部件与旋转的所述基板接触而清洗所述基板；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和该第二喷嘴相对于所述清洗部件的长度方向配置于同一侧，与所述第二喷嘴相比，所述第一喷嘴更有力地向第一区域供给液体，该第一区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第一喷嘴侧，所述第二喷嘴向第二区域供给液体，该第二区域位于所述基板中的所述清洗部件的所述第二喷嘴侧，且比包括至少基板的周缘部外侧的区域的所述第一区域宽。