公开(公告)号：CN1670924A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN200410095441.0

申请日：2004-12-20

申请人： 株式会社荏原制作所 ,  株式会社东芝

发明人： 中尾秀高 ,  川端康充 ,  胜间田好文 ,  小泽直树 ,  佐佐木达也 ,  重田厚

IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/04 ,  B24B49/00 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B37/013 ,  B24B49/03 ,  B24B49/12

摘要： 提供一种衬底抛光装置来防止抛光过度和抛光不充分，并能够定量设置附加抛光时间。该衬底抛光装置包括用来将待抛光衬底抛光的机械装置；用来测量沉积在该衬底上的薄膜厚度的膜厚度测量装置；用来输入被抛光薄膜目标厚度的界面；用来保存先前抛光结果的存储区；以及用于计算抛光时间和抛光速度的处理单元。该衬底抛光装置建立一个附加抛光数据库，用于将从附加抛光结果中获得的数据存储在该存储区中。

公开(公告)号：CN100481340C

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200410095441.0

申请日：2004-12-20

申请人： 株式会社荏原制作所 ,  株式会社东芝

发明人： 中尾秀高 ,  川端康充 ,  胜间田好文 ,  小泽直树 ,  佐佐木达也 ,  重田厚

IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/04 ,  B24B49/00 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B37/013 ,  B24B49/03 ,  B24B49/12

摘要： 提供一种衬底抛光装置来防止抛光过度和抛光不充分，并能够定量设置附加抛光时间。该衬底抛光装置包括用来将待抛光衬底抛光的机械装置；用来测量沉积在该衬底上的薄膜厚度的膜厚度测量装置；用来输入被抛光薄膜目标厚度的界面；用来保存先前抛光结果的存储区；以及用于计算抛光时间和抛光速度的处理单元。该衬底抛光装置建立一个附加抛光数据库，用于将从附加抛光结果中获得的数据存储在该存储区中。