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公开(公告)号:CN105849865A
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201480070511.9
申请日:2014-12-10
申请人: 株式会社EUGENE科技
IPC分类号: H01L21/205 , H01L21/683
CPC分类号: C23C16/46 , C23C16/4412 , C23C16/45508 , C23C16/45565 , C23C16/52 , C23C16/54 , H01L21/6719 , H01L21/67709 , H01L21/68785
摘要: 根据本发明的一实施例,基板处理装置包括:腔,提供对基板实施工序的内部空间;基座,设置在上述内部空间,且在上部放置上述基板;固定板,设置在沿着上述基座的周边在上述腔的侧壁形成的排气口上,并具有多个贯通孔;及一个以上的滑动板,设置在上述固定板的上部或下部,能够以上述基座的中心为基准旋转,选择性地开闭上述多个贯通孔。
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公开(公告)号:CN105849865B
公开(公告)日:2019-07-05
申请号:CN201480070511.9
申请日:2014-12-10
申请人: 株式会社EUGENE科技
IPC分类号: H01L21/205 , H01L21/683
CPC分类号: C23C16/46 , C23C16/4412 , C23C16/45508 , C23C16/45565 , C23C16/52 , C23C16/54 , H01L21/6719 , H01L21/67709 , H01L21/68785
摘要: 根据本发明的一实施例,基板处理装置包括:腔,提供对基板实施工序的内部空间;基座,设置在上述内部空间,且在上部放置上述基板;固定板,设置在沿着上述基座的周边在上述腔的侧壁形成的排气口上,并具有多个贯通孔;及一个以上的滑动板,设置在上述固定板的上部或下部,能够以上述基座的中心为基准旋转,选择性地开闭上述多个贯通孔。
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