公开(公告)号：CN104813746A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201380055979.6

申请日：2013-09-12

Applicant: 株式会社JCU

Inventor： 深泽信司 ,  浅野敬祐 ,  上山浩幸

IPC: H05H1/46 ,  B08B7/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01J37/32532 ,  H01J37/32036 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32568

Abstract: 提供均匀地进行针对被处理物的基于等离子体的表面处理的等离子体处理装置以及方法。将基板(11)保持在保持部(33)而收容在处理室内。对置于基板(11)的表面而配置有电极组(31，32)，各电极组(31，32)通过排列有高频电极(25)以及接地电极(26)的第1电极部(31a，32a)和第2电极部(31b，32b)构成。使从导入口释放的过程气体在各电极(25，26)之间穿过而产生等离子体。通过所产生的等离子体，将基板(11)的表面的污染物质去除。