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发明公开
中间掩模检查装置和投影曝光装置审中-公开

公开(公告)号：CN119472159A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202410213729.0

申请日：2024-02-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 石田肇 , 中本裕见 , 田中浩 , 川久保哲郎 , 山部耕平 , 松沢贤司 , 千叶纯 , 日吉诚人

IPC: G03F1/84 , G03F7/20

Abstract: 本发明提供中间掩模检查装置和投影曝光装置。在检查矩形的中间掩模的异物的情况下，抑制或者防止无法检查范围。一种中间掩模检查装置，其具有：照明部，其向矩形的中间掩模照射光；拍摄部，其拍摄中间掩模；以及检查部，其通过检查拍摄到的图像来检测异物，其中，照明部以中间掩模的检查面的整个面作为光的照射范围，拍摄部以检查面的整个面作为视野范围。

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