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公开(公告)号：CN101286012A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810086963.2
申请日：2008-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及一种在基板上形成预定图案的投影曝光装置。用于在基板上形成图案的该投影曝光装置包括：掩模台，该掩模台用于保持其上具有预定图案的光掩模；光源，该光源用于发射包含包括g线、h线、i线及j线在内的光谱线的光线；波长选择器，该波长选择器用于从所述光源发射的光线中选择包含预定光谱线的光线；照明光学系统，该照明光学系统用于用所选光线照射所述光掩模；Offner式投影系统，该Offner式投影系统用于将穿过所述光掩模的光投影至所述基板上；基板台，该基板台包括用于保持所述基板的真空部，该基板台用于定位所述基板；以及遮光体，该遮光体用于部分地阻挡照射到所述基板上的光。
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公开(公告)号：CN103098171B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180043551.0
申请日：2011-06-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 中本裕见
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7055 , G01B11/14 , G01B11/27 , G03F9/7011 , G03F9/7015
Abstract: 提供一种投影曝光装置，其具有遮光单元，该遮光单元使伴随基板的运入运出的遮光部件的安装和卸下的所需时间变短。投影曝光装置具有：投影光学系统，其将包含紫外线的光线照射在光掩模上，将通过了光掩模的光线投影在涂布了光致抗蚀剂的基板上；基板台，其载置基板；以及遮光单元，其遮盖基板的周边部而遮住光线。而且，遮光单元（80）具有：第1遮光部件和第2遮光部件（84、86），它们分别具有大致半圆形的开口部；以及移动单元（82、83），它们移动第1遮光部件和第2遮光部件，使两者相互接近或远离。因此，当第1遮光部件和第2遮光部件相互接近时，第1遮光部件和第2遮光部件形成环状，来遮盖基板（CB）的周边部。
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公开(公告)号：CN111992893A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010277835.7
申请日：2020-04-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 提供激光加工装置。即使在装置发生了摆动的情况下，也能够保持精度，即使处于摆动状态，也能够实施激光加工，所以提高生产力。一种激光加工装置，其具有：照明光学系统，其将线状的加工用激光照射到掩模，并且利用扫描机构对掩模进行扫描；投影光学系统，其将通过掩模后的加工用激光照射到被加工物；被加工物载置台，其载置被加工物，并且使被加工物在x-y方向上移动；支承体，照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台固定于该支承体，使得照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台一体地位移；以及减振装置，其抑制支承体的振动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101546132B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN200910117907.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。
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公开(公告)号：CN101546132A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910117907.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。
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公开(公告)号：CN119472159A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202410213729.0
申请日：2024-02-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供中间掩模检查装置和投影曝光装置。在检查矩形的中间掩模的异物的情况下，抑制或者防止无法检查范围。一种中间掩模检查装置，其具有：照明部，其向矩形的中间掩模照射光；拍摄部，其拍摄中间掩模；以及检查部，其通过检查拍摄到的图像来检测异物，其中，照明部以中间掩模的检查面的整个面作为光的照射范围，拍摄部以检查面的整个面作为视野范围。
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公开(公告)号：CN111992893B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202010277835.7
申请日：2020-04-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 提供激光加工装置。即使在装置发生了摆动的情况下，也能够保持精度，即使处于摆动状态，也能够实施激光加工，所以提高生产力。一种激光加工装置，其具有：照明光学系统，其将线状的加工用激光照射到掩模，并且利用扫描机构对掩模进行扫描；投影光学系统，其将通过掩模后的加工用激光照射到被加工物；被加工物载置台，其载置被加工物，并且使被加工物在x‑y方向上移动；支承体，照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台固定于该支承体，使得照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台一体地位移；以及减振装置，其抑制支承体的振动。
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公开(公告)号：CN103098171A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180043551.0
申请日：2011-06-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 中本裕见
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7055 , G01B11/14 , G01B11/27 , G03F9/7011 , G03F9/7015
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，其具有遮光单元，该遮光单元使伴随基板的运入运出的遮光部件的安装和卸下的所需时间变短。投影曝光装置具有：投影光学系统，其将包含紫外线的光线照射在光掩模上，将通过了光掩模的光线投影在涂布了光致抗蚀剂的基板上；基板台，其载置基板；以及遮光单元，其遮盖基板的周边部而遮住光线。而且，遮光单元（80）具有：第1遮光部件和第2遮光部件（84、86），它们分别具有大致半圆形的开口部；以及移动单元（82、83），它们移动第1遮光部件和第2遮光部件，使两者相互接近或远离。因此，当第1遮光部件和第2遮光部件相互接近时，第1遮光部件和第2遮光部件形成环状，来遮盖基板（CB）的周边部。
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