公开(公告)号：CN101276157B

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：CN200810088524.5

申请日：2008-03-27

申请人： 株式会社ORC制作所

发明人： 李德 ,  山下大辅 ,  松田政昭 ,  石川淳

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC分类号： G02B13/143 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

公开(公告)号：CN101276157A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810088524.5

申请日：2008-03-27

申请人： 株式会社ORC制作所

发明人： 李德 ,  山下大辅 ,  松田政昭 ,  石川淳

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC分类号： G02B13/143 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。