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公开(公告)号：CN104380202B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201380016215.6
申请日：2013-02-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B26/0833 , G03F7/00 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/70291
Abstract: 一种光学部件(40)，包含：反射镜阵列(22)，该反射镜阵列具有多个反射镜元件(23)，多个反射镜元件各连接到用于位移的至少一个致动器(131)；用于致动器到外部的信号传输连接的多个信号线(47)；用于预定单独反射镜元件(23)的绝对位置的全局控制/调节装置(134)；及用于调节反射镜元件(23)的定位的多个本地调节装置(136)，其中，所述调节装置(136)在各个情况中均完全集成在所述部件(40；40a)中。
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公开(公告)号：CN106133875A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580009495.7
申请日：2015-03-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯多弗·本彻
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明公开了在写入大型基板时运用偏移修正的多光束图案产生器以及相关方法。多光束图案产生器可包括空间光调制器(SLM)，空间光调制器具有独立可控制的反射镜以将光反射至基板上，以写入图案。图案可在写入周期中写入，其中基板移动至写入周期区域位置。通过在作用位置中的SLM的反射镜，SLM将光反射至基板上，以写入图案于基板上。通过确定在每一个写入周期中基板相对于SLM的位置与偏移，SLM的一些反射镜可数字地受控制至非作用位置或作用位置，以补偿基板的偏移。以此方式，利用偏移补偿，写入在基板上的图案可准确地写入。
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公开(公告)号：CN103424996B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310395256.2
申请日：2013-09-03
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291
Abstract: 一种光学加工系统和方法，该系统包括光学系统、载台、驱动系统，以及控制系统，该光学系统包括一空间光调制器作为该光学系统图形发生装置，所述空间光调制器具有若干像素单元，每个像素单元为反射镜，所述空间光调制器在进行图形生成时，参与构建图形的像素单元的反射镜统一翻转相同的角度γ，使得该空间光调制器构成一个以γ为闪耀角的光栅结构，所述光栅结构对入射光进行衍射分光，使光学系统获得至少两束能够形成干涉的相干光，所述光学系统利用上述相干光完成干涉直写复合光刻，从而使普通的激光直写技术的分辨率大大提高。
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公开(公告)号：CN103645615B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201310693649.1
申请日：2006-07-25
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： 斯泰恩·威廉·赫尔曼·卡雷尔·斯腾布林克 , 彼得·克勒伊特 , 马尔科·扬-哈科·威兰
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70291 , G03F7/70425 , H01J2237/31757
Abstract: 本发明涉及一种具有改善的可靠性的无掩模光刻系统。本发明的用于将图案转移到目标表面上的无掩模光刻系统包括：至少一个细光束光学单元，用于产生多个细光束；至少一个测量单元，用于测量每个细光束的性能；至少一个控制单元，用于产生图案数据并将图案数据递送到所述细光束光学单元，所述控制单元操作性耦合至所述测量单元，用于确定具有在所述性能的预定数值范围之外的测量性能值的无效细光束；至少一个致动器，用于引起所述细光束光学单元和所述目标彼此相对地移动，其中所述致动器与所述控制单元操作性耦合，所述控制单元确定所述移动，将有效细光束定位在所述无效细光束的位置，因而用有效细光束代替所述无效细光束。
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公开(公告)号：CN102844715B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180019471.1
申请日：2011-03-04
Applicant: 麦克罗尼克迈达塔有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2051 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70541 , G06F17/50
Abstract: 本发明涉及定制专用工件，比如芯片、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本发明涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本发明所公开的技术。
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公开(公告)号：CN105074573A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480009463.2
申请日：2014-02-19
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 小森一树
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70308
Abstract: 提供一种具备校正成像光学系统的像差的微透镜阵列的曝光光学系统、曝光头以及曝光装置。曝光光学系统(100)包括：排列有对来自光源的光(B)进行调制的像素部(74)的空间光调制元件(34)、在平面上排列有对由所述空间光调制元件(34)调制过的光进行聚光的微透镜(64a)的微透镜阵列(64)、将通过所述空间光调制元件(34)调制过的光(B)在所述微透镜阵列(64)上成像的第1成像光学系统(52)以及将由所述微透镜阵列(64)聚光的光(B)在感光材料P上成像的第2成像光学系统(58)，所述微透镜阵列(64)根据与所述第2成像光学系统(58)的光轴(58C)的距离，排列有形状不同的多个种类的微透镜(64a)。
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公开(公告)号：CN103168275B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201180049634.0
申请日：2011-11-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/203 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/7045 , G03F7/70541 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2201/09936
Abstract: 本发明提供能够一边适当地变更信息数据一边曝光电路图案的曝光装置。该曝光装置具备：第1光源(20)，其放射包含紫外线的第1光；投影曝光单元(70)，其使用第1光，将描绘于光掩膜上的电路图案曝光到基板上；基板工作台(60)，其载置基板；架台(11)，其配置基板工作台；与第1光源不同地配置的第2光源(41)，其放射包含紫外线的第2光；空间光调制单元(40)，其使用第2光，将以电子方式制作的信息数据曝光到基板上；以及空间光调制单元移动部(50)，其配置在壳体(11)上，使空间光调制单元在与基板工作台的移动方向平行的方向上移动。
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公开(公告)号：CN104536271A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201510003073.0
申请日：2009-09-17
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B17/002 , G02B26/0833 , G03F7/70116 , G03F7/70291 , G03F7/70891
Abstract: 微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连接到基体的反射镜支撑体的相对表面被设计为滑动支撑的相应滑动表面。
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公开(公告)号：CN104360583A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201410758476.1
申请日：2010-09-29
Applicant: 首尔大学校产学协力团
CPC classification number: C23C16/52 , G03F7/16 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/7085 , G03F9/00 , H01L21/561
Abstract: 本发明公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
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公开(公告)号：CN102171615B
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN200980138461.2
申请日：2009-09-17
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B17/002 , G02B26/0833 , G03F7/70116 , G03F7/70291 , G03F7/70891
Abstract: 微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连接到基体的反射镜支撑体的相对表面被设计为滑动支撑的相应滑动表面。
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