曝光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107450276A

    公开(公告)日:2017-12-08

    申请号:CN201710395242.9

    申请日:2017-05-27

    Inventor: 桥本典夫

    CPC classification number: G03F7/2051 G03F9/00 H05K3/0008

    Abstract: 本发明提供曝光装置,该曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量,并且在确保了基板的平面性的状态下在基板的两面上描绘图案。曝光装置具有:第1曝光单元,其包含光调制元件阵列;第1基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;第1相对移动单元,其使第1曝光单元与第1基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动;折返单元,其使长条基板的输送路径折返;第2曝光单元,其包含光调制元件阵列;第2基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;以及第2相对移动单元,其使第2曝光单元与第2基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动。

    直接曝光装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105467773B

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201510617271.6

    申请日:2015-09-24

    Abstract: 直接曝光装置,在将图案曝光于从供给卷轴送出并被卷绕到卷绕卷轴上的长条状工件的直接曝光装置中,能够在抑制曝光辊直径增大的同时,扩大曝光图像的焦点对准区,并使描绘图案的线条变细。该直接曝光装置具有:圆筒部件,其在上述供给卷轴与卷绕卷轴之间,在其周面的一定范围内保持长条状工件的同时进行旋转;引导构件,其在长条状工件从上述圆筒部件脱离的脱离位置处,沿与上述圆筒部件的轴垂直截面中的径向垂直的切线方向引导长条状工件;以及曝光构件,其在包含上述脱离位置的输送方向的前后一定范围内,对从上述圆筒部件脱离并沿上述切线方向延伸的长条状工件描绘图案。

    曝光装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107450276B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201710395242.9

    申请日:2017-05-27

    Inventor: 桥本典夫

    Abstract: 本发明提供曝光装置,该曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量,并且在确保了基板的平面性的状态下在基板的两面上描绘图案。曝光装置具有:第1曝光单元,其包含光调制元件阵列;第1基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;第1相对移动单元,其使第1曝光单元与第1基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动;折返单元,其使长条基板的输送路径折返;第2曝光单元,其包含光调制元件阵列;第2基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;以及第2相对移动单元,其使第2曝光单元与第2基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动。

    直接曝光装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105467773A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201510617271.6

    申请日:2015-09-24

    Abstract: 直接曝光装置,在将图案曝光于从供给卷轴送出并被卷绕到卷绕卷轴上的长条状工件的直接曝光装置中,能够在抑制曝光辊直径增大的同时,扩大曝光图像的焦点对准区,并使描绘图案的线条变细。该直接曝光装置具有:圆筒部件,其在上述供给卷轴与卷绕卷轴之间,在其周面的一定范围内保持长条状工件的同时进行旋转;引导构件,其在长条状工件从上述圆筒部件脱离的脱离位置处,沿与上述圆筒部件的轴垂直截面中的径向垂直的切线方向引导长条状工件;以及曝光构件,其在包含上述脱离位置的输送方向的前后一定范围内,对从上述圆筒部件脱离并沿上述切线方向延伸的长条状工件描绘图案。

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