整体式水冷铜坩埚
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105758178B

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201610310153.5

    申请日:2016-05-12

    发明人: 高学林 王洪强

    IPC分类号: F27B14/14 F27B14/10 C23C14/30

    摘要: 本发明公开了一种整体式水冷铜坩埚,包括由侧壁、底壁组成的坩埚体,所述底壁中的Ⅰ号进水孔与Ⅰ号进水接头连通,Ⅰ号出水孔与Ⅰ号出水接头连通,Ⅱ号进水孔与Ⅱ号进水接头连通,Ⅱ号出水孔与Ⅱ号出水接头连通,所述Ⅰ号进水孔与Ⅰ号散热管路连通,所述Ⅱ号进水孔与Ⅱ号散热管路连通,所述Ⅰ号散热管路通过Ⅰ号连接管与侧壁中L形的Ⅰ号出水管路连通,所述Ⅱ号散热管路通过Ⅱ号连接管与侧壁中L形的Ⅱ号出水管路连通,所述Ⅰ号出水管路与Ⅰ号出水孔连通,所述Ⅱ号出水管路与Ⅱ号出水孔连通。本发明中散热管路、出水管路有利于整体式水冷铜坩埚的加工制做,双路或多路循环水路结构,可满足更大功率电子枪的运行需求,避免其高温损坏。

    一种坩埚冷却供水闭式循环系统及其运行方法

    公开(公告)号:CN114061309A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202011217871.0

    申请日:2020-11-04

    摘要: 本发明公开了一种坩埚冷却供水闭式循环系统及其运行方法,坩埚冷却供水闭式循环系统包括外循环供水系统、内循环冷却水系统以及补水箱D,用于冷却坩埚的内循环冷却水系统为闭式循环系统,所述外循环供水系统和所述内循环冷却水系统通过换热器E换热;所述外循环供水系统给所述补水箱D补水,所述补水箱D给所述内循环冷却水系统补水,所述补水箱D通过溢流口连接至排水口;所述外循环供水系统、所述内循环冷却水系统以及内循环冷却水系统的水泵出气口均通过管路连接至所述排水口。本系统运行稳定性高,安全性高。

    用于控制强流电子束高频交变磁场的真空装置

    公开(公告)号:CN103198996A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201310084730.X

    申请日:2013-03-18

    IPC分类号: H01J37/30 H01J37/305

    摘要: 本发明公开了一种用于控制强流电子束高频交变磁场的真空装置,包括内管和外管,内管和外管之间形成一定的间隙,在间隙内通有循环冷却水,在内管和外管的两端部之间分别设置有内连接接口,在外管的两端的外部分别设置有外连接接口,在内管和内连接接口两端部之间分别设置有内接口密封垫圈,在外管和外连接接口两端部之间分别设置有外接口密封垫圈,环绕外管设置有扫描线圈。在内管和外管之间设置有内分水器。本发明避免了金属蒸气的直接蒸镀污染,使高频交变磁场不会受到抑制,避免内外管受高温损坏。

    穿真空式高压快插装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111769398B

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN201910237478.9

    申请日:2019-03-27

    摘要: 本发明公开了一种穿真空式高压快插装置,其中所述穿真空式高压快插装置包括壳体、壳体内隔板间隔成的真空腔室和气体保护腔室、所述隔板的插口上的导电及绝缘组件、连接在所述气体保护腔室的端部开口上的电缆连接端、固定在所述真空腔室上的第一插接端和固定在真空环境高压设备面板上的第二插接端,所述第一插接端包括第一绝缘陶瓷环和固定在环上的小导体轴,所述第二插接端包括可插入到所述第一绝缘陶瓷环内的第二绝缘陶瓷环和穿套所述小导体轴的小导体套,所述小导体轴与所述导电及绝缘组件内的水平导体轴电连接,所述水平导体与所述电缆电连接。本发明具备稳定的电气传输与高压绝缘能力,可以进行长时间工艺运行,操作简便,安全可靠。

    一种电子枪高压参数测量装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117528996A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311484422.6

    申请日:2023-11-08

    IPC分类号: H05K7/02 G01R15/14 G01R31/00

    摘要: 本申请提供了一种电子枪高压参数测量装置,属于高压及电流测量设备技术领域,具体包括高压分压器组件和用于采集电子枪的电子束参数的信号采集插箱,高压分压器组件包括高压采样点和高压分压器本体,高压分压器本体的一端为高压分压器高压端,高压分压器本体的另一端为高压分压器低压端,高压采样点通过电子枪高压线分别与电子枪、电子枪电源和高压分压器高压端连接,高压分压器低压端与信号采集插箱连接,信号采集插箱还分别与电子枪电源、电子枪、光阑和坩埚连接。通过本申请的处理方案,解决了电子束高压无法独立直接测量的问题,提高了对电子束参数测量的精确度。

    穿真空式高压快插装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111769398A

    公开(公告)日:2020-10-13

    申请号:CN201910237478.9

    申请日:2019-03-27

    摘要: 本发明公开了一种穿真空式高压快插装置,其中所述穿真空式高压快插装置包括壳体、壳体内隔板间隔成的真空腔室和气体保护腔室、所述隔板的插口上的导电及绝缘组件、连接在所述气体保护腔室的端部开口上的电缆连接端、固定在所述真空腔室上的第一插接端和固定在真空环境高压设备面板上的第二插接端,所述第一插接端包括第一绝缘陶瓷环和固定在环上的小导体轴,所述第二插接端包括可插入到所述第一绝缘陶瓷环内的第二绝缘陶瓷环和穿套所述小导体轴的小导体套,所述小导体轴与所述导电及绝缘组件内的水平导体轴电连接,所述水平导体与所述电缆电连接。本发明具备稳定的电气传输与高压绝缘能力,可以进行长时间工艺运行,操作简便,安全可靠。

    电子束扫描轨迹的精确测量方法

    公开(公告)号:CN106918834A

    公开(公告)日:2017-07-04

    申请号:CN201710192009.0

    申请日:2017-03-28

    IPC分类号: G01T5/10

    CPC分类号: G01T5/10

    摘要: 本发明公开了一种电子束扫描轨迹的精确测量方法,包括以下步骤:(ⅰ)靶材的制备;(ⅱ)电子束扫描轨迹测量;(ⅲ)测量轨迹长度,建立数学关系;(ⅳ)应用验证。本发明通过对电子束扫描轨迹X轴向、Y轴向的分别测定,实现了二维平面任意扫描形状的精确控制,所提供的电子束扫描轨迹直接测量法,测量方法及测量工具简单实用,且测量精准度高,测量相对偏差小于2%。

    整体式水冷铜坩埚
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105758178A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610310153.5

    申请日:2016-05-12

    发明人: 高学林 王洪强

    IPC分类号: F27B14/14 F27B14/10 C23C14/30

    摘要: 本发明公开了一种整体式水冷铜坩埚,包括由侧壁、底壁组成的坩埚体,所述底壁中的Ⅰ号进水孔与Ⅰ号进水接头连通,Ⅰ号出水孔与Ⅰ号出水接头连通,Ⅱ号进水孔与Ⅱ号进水接头连通,Ⅱ号出水孔与Ⅱ号出水接头连通,所述Ⅰ号进水孔与Ⅰ号散热管路连通,所述Ⅱ号进水孔与Ⅱ号散热管路连通,所述Ⅰ号散热管路通过Ⅰ号连接管与侧壁中L形的Ⅰ号出水管路连通,所述Ⅱ号散热管路通过Ⅱ号连接管与侧壁中L形的Ⅱ号出水管路连通,所述Ⅰ号出水管路与Ⅰ号出水孔连通,所述Ⅱ号出水管路与Ⅱ号出水孔连通。本发明中散热管路、出水管路有利于整体式水冷铜坩埚的加工制做,双路或多路循环水路结构,可满足更大功率电子枪的运行需求,避免其高温损坏。