硬质碳层的脱层方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103717788B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201280038683.9

    申请日:2012-05-31

    IPC分类号: C23G5/00

    CPC分类号: C23G5/00

    摘要: 基材表面的碳层、尤其是工具和部件的ta-C层的脱层方法。与此相应地,将待脱层的基材布置在真空室中的基材夹具上,该真空室进料有至少一种辅助带走气态碳的反应性气体,并且在该真空室中产生低压等离子放电用于激发反应性气体和支持被涂覆基材的脱层所需的一种或多种化学反应。在此,该低压等离子放电是直流-低压电弧放电,待脱层的基材表面基本上仅被电子轰击并且使用氧、氮和氢作为所述反应性气体。