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发明公开
均匀的HIPIMS涂敷方法有权

公开(公告)号：CN104160470A

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201280063780.3

申请日：2012-11-23

申请人： 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)

发明人： S·克拉斯尼策尔 , H·鲁蒂吉尔

IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34

CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/3464 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/542 , H01J37/3417 , H01J37/3467

摘要： 本发明涉及一种HIPIMS方法，通过该方法能够在涂敷室的高度上沉积均匀的层。在此使用两个分阴极。根据本发明，单独选择对这些分阴极施加的各个功率脉冲区间的长度，并且这样在涂敷室的高度上实现希望的涂层厚度轮廓。