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公开(公告)号：CN103964621A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310045522.9
申请日：2013-02-06
Applicant: 武汉理工大学
IPC: C02F9/10
Abstract: 本发明提供的一种煮炼废水的处理与资源回收再利用系统及方法，其处理对象为纺织、造纸、印染等行业的煮炼废水，该方法的主要原理是采用“废水预处理、蒸发浓缩、絮凝提取、回收再利用”一体化新工艺，其特征是：首先对煮炼废水进行预处理（Ⅰ），主要实现对煮炼废水的沉淀、初步过滤以及皂化处理；其次对经过预处理的废水进行蒸发浓缩（Ⅱ）,回收废水中的热能并提高废水中的固体含量；再次对经蒸发浓缩后的废水进行絮凝提取（Ⅲ），分离出其中的果胶、半纤维素等有机物并进一步提高废水中碱液的浓度；最后分别对分离出的有机物和碱液进行回收再利用（Ⅳ）。该方法可应用在煮炼废水的处理与资源再利用装备中，便于工程实现，性价比高。
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公开(公告)号：CN102175079A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110043242.5
申请日：2011-02-23
Applicant: 武汉理工大学
IPC: F27B9/40
Abstract: 本发明提供的基于热平衡的陶瓷辊道窑炉温度解耦控制方法，是利用一种由多个PID控制器和1个解耦补偿器及窑炉炉体组成的控制系统对陶瓷辊道窑炉温度进行解耦控制，具体是：第一步，在窑炉开始升温阶段，先根据产品烧成曲线确定窑炉内每个烧嘴对应温区的目标控制温度，然后整定PID控制器的参数；第二步，当实际检测到的温度升至目标控制温度附近时，计算各烧嘴之间温度耦合系数，得到温度解耦补偿器输出解耦量，通过解耦量对各自回路的PID控制器输出量进行补偿；第三步，得到补偿之后的控制量通过执行器实时调整对应烧嘴的燃气量。本发明具有实时性好，控制精度和效率大大提高，工作稳定可靠，以及PID控制器参数整定过程简单等优点。
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公开(公告)号：CN106772739B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201710122717.7
申请日：2017-03-03
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种弱光栅阵列制备控制系统，它包括：光电编码器，设置在拉丝塔中主动轮上用于测量光纤拉丝速度，光电编码器的线数N满足2πR/N≤1mm，R为主动轮的半径；计数器，光电编码器每发射一个脉冲则计数器示数加1，且当计数器的示数m满足NL/2πR‑1＜m≤NL/2πR时，计数器清零；L为光栅的间距；控制器，用于每当计数器清零时发出一个信号；准分子激光器，用于在接收到控制器的信号时，发射一个激光脉冲刻写一个光栅。采用本发明控制系统及方法，得到的相邻弱光栅的间距不受拉丝速度影响，避免拉丝系统对光栅间距的累计误差限制，得到光栅间距高精度的弱光栅阵列，大大降低了传感阵列的解调难度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106772739A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710122717.7
申请日：2017-03-03
Applicant: 武汉理工大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G01D5/353 , G01H9/004
Abstract: 本发明提供一种弱光栅阵列制备控制系统，它包括：光电编码器，设置在拉丝塔中主动轮上用于测量光纤拉丝速度，光电编码器的线数N满足2πR/N≤1mm，R为主动轮的半径；计数器，光电编码器每发射一个脉冲则计数器示数加1，且当计数器的示数m满足NL/2πR‑1＜m≤NL/2πR时，计数器清零；L为光栅的间距；控制器，用于每当计数器清零时发出一个信号；准分子激光器，用于在接收到控制器的信号时，发射一个激光脉冲刻写一个光栅。采用本发明控制系统及方法，得到的相邻弱光栅的间距不受拉丝速度影响，避免拉丝系统对光栅间距的累计误差限制，得到光栅间距高精度的弱光栅阵列，大大降低了传感阵列的解调难度。
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公开(公告)号：CN106203824A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610532887.8
申请日：2016-07-07
Applicant: 武汉理工大学
CPC classification number: G06Q10/0635 , G06Q50/30
Abstract: 本发明公开了一种水上交通安全评价方法，包括：选取水上交通安全的评价指标；确定每一评价指标的权重和安全度；根据每一评价指标的权重和安全度确定水上交通安全度其中，Ei表示每一评价指标的安全度，Wi表示每一评价指标的权重，n表示评价指标的数量，i＝1，2，3，…，n。本发明还公开了一种水上交通安全评价系统。本发明的水上交通安全评价方法和系统，可以合理评价水上交通安全。
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公开(公告)号：CN102275371A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201110216418.2
申请日：2011-07-29
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供的一种薄膜双面自动定位模切贴合的方法，是对具有双面保护膜的第一贴敷膜（1）、第二贴敷膜（2）以及基底薄膜（3）进行贴合，具体是：首先对第一贴敷膜（1）和第二贴敷膜（2）冲切窗口，然后除去第一贴敷膜（1）和第二贴敷膜（2）窗口所在侧的保护膜，最后分别贴合到已除去保护膜的基底薄膜（3）的两面，得到以基底薄膜为中间层且两面带有定位冲切窗口的贴敷膜的复合膜。本发明与现有多层膜复合成型工艺方法相比，具有工艺过程简单，定位模切贴合的精度高，适用性强，可实现多层膜复合的连续化加工等优点。
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公开(公告)号：CN102275371B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201110216418.2
申请日：2011-07-29
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供的一种薄膜双面自动定位模切贴合的方法，是对具有双面保护膜的第一贴敷膜（1）、第二贴敷膜（2）以及基底薄膜（3）进行贴合，具体是：首先对第一贴敷膜（1）和第二贴敷膜（2）冲切窗口，然后除去第一贴敷膜（1）和第二贴敷膜（2）窗口所在侧的保护膜，最后分别贴合到已除去保护膜的基底薄膜（3）的两面，得到以基底薄膜为中间层且两面带有定位冲切窗口的贴敷膜的复合膜。本发明与现有多层膜复合成型工艺方法相比，具有工艺过程简单，定位模切贴合的精度高，适用性强，可实现多层膜复合的连续化加工等优点。
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公开(公告)号：CN102175079B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201110043242.5
申请日：2011-02-23
Applicant: 武汉理工大学
IPC: F27B9/40
Abstract: 本发明提供的基于热平衡的陶瓷辊道窑炉温度解耦控制方法，是利用一种由多个PID控制器和1个解耦补偿器及窑炉炉体组成的控制系统对陶瓷辊道窑炉温度进行解耦控制，具体是：第一步，在窑炉开始升温阶段，先根据产品烧成曲线确定窑炉内每个烧嘴对应温区的目标控制温度，然后整定PID控制器的参数；第二步，当实际检测到的温度升至目标控制温度附近时，计算各烧嘴之间温度耦合系数，得到温度解耦补偿器输出解耦量，通过解耦量对各自回路的PID控制器输出量进行补偿；第三步，得到补偿之后的控制量通过执行器实时调整对应烧嘴的燃气量。本发明具有实时性好，控制精度和效率大大提高，工作稳定可靠，以及PID控制器参数整定过程简单等优点。
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