-
公开(公告)号：CN118936852A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411151833.8
申请日：2024-08-21
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本申请属于NED设备测试领域，具体公开了一种NED设备测试装置及方法，NED设备包括：NED显示屏和NED光学系统，NED光学系统设置在NED显示屏后侧，测试装置包括：光学镜头和光谱扫描单元；所述光学镜头的光阑前置，其设置在所述NED光学系统后侧，用于将所述NED设备的显示图像成像至所述光学镜头的像平面上；光谱扫描单元设置在所述光学镜头后侧，用于在所述像面上进行光谱扫描，获取所述显示图像的光谱数据。通过本申请，采用光阑前置的NED测试镜头搭配线扫光谱仪，可以实现对NED设备虚像整个视场内的亮色度与光谱测量，相比于现有的成像式亮色度计和旋转点式亮色度计，能够提供更高的测量精度，保证了测量结果的准确性。
-
公开(公告)号：CN118918801A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410944228.X
申请日：2024-07-15
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉加特林光学仪器有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本申请属于缺陷检测技术领域，具体公开了一种Micro LED显示器缺陷检测方法及装置，其中方法包括：获取待测Micro LED显示器目标区域内包含疑似缺陷的感兴趣区域的区域信息，感兴趣区域的区域信息基于初检设备对目标区域拍摄的第一图像确定，包括感兴趣区域在目标区域内的位置信息和感兴趣区域的大小，初检设备为对待测Micro LED显示器的亮度和/或色度进行检测的设备；基于感兴趣区域的区域信息，确定感兴趣区域的高光谱数据；将感兴趣区域的高光谱数据发送至上位机进行目标区域的缺陷检测。本申请中上位机接收到的高光谱数据量大大减少，提高检测效率的同时降低了处理高光谱数据的硬件要求。
-
公开(公告)号：CN114441040B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202210086977.4
申请日：2022-01-25
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种色度测量装置及测量方法。该测量装置包括微反射镜模块、图像采集模块和控制模块，所述图像采集模块包括多个图像采集单元，每个图像采集单元包括滤光元件和传感器，所述控制模块控制所述微反射镜模块具有多种镜面偏转角度，使得测量目标发射的光线入射到所述微反射镜模块时具有多种不同的反射路线，在每个反射路线上设置有一个图像采集单元，反射光线经过滤光元件后进入传感器。本发明具有测量时间短、结构简单的优点。
-
公开(公告)号：CN116777910B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202311045382.5
申请日：2023-08-18
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本发明提供一种显示屏子像素亮度提取精度评估方法、系统及电子设备，属于显示屏检测领域，方法包括以下步骤：确定MTF测试图案；MTF测试图案包括多个颜色的二维MTF测试图案；获取待测显示屏显示所述MTF测试图案的拍摄图像；基于拍摄图像提取至少一个原色的子像素亮度图，和/或基于所提取的原色子像素亮度图得到多个颜色的子像素亮度图，以根据子像素亮度图评估子像素亮度提取精度。本发明提供的评估方法通过将MTF测试图案设计成彩色，并提取对应原色的子像素亮度图和/或彩色子像素亮度图可以实现对子像素亮度提取精度的快速准确评估，对于Demura和AOI设备实现更好的修复。
-
公开(公告)号：CN111382785B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202010141915.X
申请日：2020-03-04
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
IPC分类号： G06V10/764 , G06V10/772 , G06V10/82 , G06N3/0455 , G06N3/0464 , G06N3/088
摘要： 本发明属于面板自动光学检测技术领域，公开了一种GAN网络模型及实现样本自动清洗、辅助标记的方法，提供的GAN网络模型包括依次连接的通过训练获得的生成器网络和判别器网络，生成器网络能根据输入样本图片得到重构样本图片以及残差图，判别器网络能够根据重构样本图片获得输入样本图片的异常评分。利用GAN网络模型，针对分类样本输出异常评分，针对检测样本或分割样本，根据残差图输出异常区域轮廓列表，实现样本的自动清洗；针对负样本，根据残差图输出异常区域边界框列表或异常区域轮廓列表，对负样本进行辅助标记。本发明解决了现有技术中人工标记面板样本的成本较高、容易出现漏标或误标、处理时间较长的问题。
-
公开(公告)号：CN116007530A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211630877.X
申请日：2022-12-19
申请人： 武汉加特林光学仪器有限公司 , 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
IPC分类号： G01B11/24
摘要： 本发明公开了一种同轴光谱共焦成像系统，包括光源模块、色散镜头模组、光谱成像侧狭缝装置和光谱仪；光源模块提供宽光谱的光束并将其通过光源侧狭缝装置入射到色散镜头模组；色散镜头模组将入射的光依次透过其第一色散镜头模组、分光器件和第二色散镜头模组后射到待测物表面，还将经待测物表面反射的光依次透过其第二色散镜头模组、经分光器件的反射和透过第三镜头模组后会聚到光谱成像侧狭缝装置；光谱仪对会聚到光谱成像侧狭缝装置的不同波长的光进行成像。本发明通过入射和反射光路共轴共用一个第二色散镜头模组的方式克服了现有技术在测量较陡峭凹坑或孔洞时的遮挡问题，实现了对表面更深尺寸凹坑的测量。
-
公开(公告)号：CN114426200B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202210172960.0
申请日：2022-02-24
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及Micro LED显示技术领域，具体涉及一种微显示屏总成限位台及其抓取方法，该微显示屏总成限位台包括相互连接或者一体成型的第一支撑台和第二支撑台，所述第一支撑台上设有放置点亮端口的限位槽，并且所述限位槽留有使柔性电路板穿过的开口，所述第二支撑台用于放置微显示屏，且所述第二支撑台的宽度小于所述微显示屏的宽度。该抓取方法包括以下步骤：将微显示屏总成放置微显示屏总成限位台上，使微显示屏位于第二支撑台上；利用机械手抓取所述微显示屏宽度方向的两侧，并运移至预设位置。能够解决现有技术中采用吸盘吸附的方式拾取微显示屏，会影响微显示屏在后续使用时的显示效果的问题。
-
公开(公告)号：CN115901777A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211370869.6
申请日：2022-11-03
申请人： 华中科技大学 , 武汉精测电子集团股份有限公司 , 武汉精立电子技术有限公司
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 本发明涉及光学检测技术领域，提供了一种透明材质缺陷成像对比度增强的方法与装置。使用竖直条纹结构光激励序列对待检测样本进行一级检测，根据一级检测的结果，确认待检测样本的缺陷类型；根据一级检测确认的待检测样本的缺陷类型，选择与之适配的用于二级检测的结构光激励序列，并完成当前待检测样本的缺陷检测。本发明针对不同类型潜在缺陷，设计不同的结构光激励图案，通过结构光发生装置，显示对应图案形成不同结构光激励条件，再利用工业相机采集缺陷成像，以达到各种类型缺陷成像对比度都可显著提升的目的。
-
公开(公告)号：CN114485398B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202210050097.1
申请日：2022-01-17
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本申请涉及一种光学检测方案生成方法、存储介质、电子设备及系统，该方法包括：根据选择或输入的工艺制程段，得到待检显示面板所需的检测器件；根据选择或输入的正视大相机的类型以及对应的镜头类型、待检显示面板的尺寸以及分辨率、第一mapping值、机台限高，得到正视大相机的数量、摆放方式以及工作距离；第一mapping值为待检显示面板与选择或输入的正视大相机分辨率之间的映射关系；分别在预设的显示区域显示待检显示面板所需的检测器件、正视大相机的类型以及对应的镜头类型，以及正视大相机的数量、摆放方式以及工作距离，以生成光学检测方案。本申请可以解决相关技术中光学检测方案通过人工输出，需要耗费人力成本和大量的时间，效率低的问题。
-
公开(公告)号：CN111141745B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202010014919.1
申请日：2020-01-07
申请人： 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种图像检测装置及其检测方法，其通过放置第一光学元件、第二光学元件、第三光学元件和第四光学元件，第一光学元件组包括一个第一光学元件和至少一个第二光学元件，第一光学元件用于反射第一色光并透射第二色光；第二光学元件组包括一个第三光学元件和至少一个第四光学元件，第三光学元件用于反射第二色光并透射第一色光，以使得可透光的待检测对象的表层线扫点的散色光经过第一光学元件组的反射后进入彩色线扫相机的光程，与该表层线扫点的散色光经过第二光学元件组的反射后进入彩色线扫相机的光程相同，从而通过第一色光和第二色光的缺陷位置是否重合判断缺陷处于表面还是内层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
307 条记录 (耗时 0.057 秒)
