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发明公开
用于半导体真空设备的防护窗及半导体真空设备审中-实审

公开(公告)号：CN116469742A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202210026128.X

申请日：2022-01-11

申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司

发明人： 卢浩 , 姬富裕 , 刘昊 , 朱小庆 , 许开东

IPC分类号： H01J37/18

摘要： 本发明公开了一种用于半导体真空设备的防护窗及半导体真空设备，半导体真空设备包括：真空腔体，真空腔体上设有抽气口；分子泵，分子泵安装在抽气口处用于抽出真空腔室内的气流；开关阀，开关阀设在分子泵和抽气口之间以打开或者关闭抽气口；防护窗，防护窗设在抽气口处且位于开关阀的朝向真空腔体的一侧，防护窗包括边框和多个叶片，边框的形状和抽气口的形状一致，多个叶片以边框中心为中心沿径向向外均匀间隔开布置，在垂直于防护窗所在平面的轴向截面上每个叶片的两个边呈预定角度α，在径向上相邻的两个叶片之间设有与预定角度相对应的预定重叠区a。根据本发明的实施例的防护窗，可以保证抽气速度，防止刻蚀产物或溅射物进入分子泵内。