公开(公告)号：CN118057577A

公开(公告)日：2024-05-21

申请号：CN202211446236.9

申请日：2022-11-18

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

发明人： 张德强 ,  胡苏 ,  王延明 ,  孙会权

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  F16K31/02 ,  B08B3/02 ,  B05B12/02 ,  B05B12/08

摘要： 本发明提供了一种处理液喷洒方法及装置，所述处理液喷洒方法包括如下步骤：打开喷嘴的上游管路的阀门，向晶圆喷洒处理液；使用喷嘴驱动机构移动所述喷嘴，所述喷嘴的移动方向为所述晶圆的直径方向；在所述处理液在所述晶圆上的喷洒位置移动至所述晶圆的边缘之前，关闭所述阀门并继续移动所述喷嘴，使所述喷嘴与所述阀门之间管路内的所述处理液继续流出并喷洒于所述晶圆，所述喷嘴与所述阀门之间管路内的所述处理液在被施加一个沿喷嘴移动方向的水平力的状态下继续流出至所述晶圆上未被喷洒所述处理液的区域，能够减少晶圆处理液落在晶圆表面后弹起再次落在晶圆表面的现象。

公开(公告)号：CN118276418A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202211708358.0

申请日：2022-12-29

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

发明人： 胡苏 ,  宋明辉 ,  张龙彪

IPC分类号： G03F7/30

摘要： 本发明公开了一种显影装置和晶圆显影良率提升方法，属于光刻制程工艺技术领域。该显影装置包括旋转基座和显影喷嘴组件，所述旋转基座上放置晶圆并能带动晶圆旋转，所述显影喷嘴组件位于晶圆上方，以将显影液和/或显影去除剂喷洒到晶圆表面；所述显影喷嘴组件是由四个单体喷嘴集成的一体化结构，每个单体喷嘴上具有一排喷口。喷洒时根据制程设计将显影液和/或显影去除剂喷洒到晶圆表面，显影液和显影去除剂可前后喷洒，也可同时喷洒。本发明采用优化结构的显影装置和喷洒方式，解决了感光性高分子材料显影时无法兼顾更好均匀性及更短的显影时间的困境，获得更好了的显影均匀性及更好的良率。

公开(公告)号：CN118259551A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202211677634.1

申请日：2022-12-26

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

发明人： 胡苏 ,  孙会权 ,  杨悦

IPC分类号： G03F7/16 ,  H01L21/027

摘要： 本发明公开了一种高粘度光阻渐变recipe构架对膜厚控制方法，属于集成电路制造行业光刻工艺技术领域。本发明采用特定recipe构架解决了高粘度感光高分子材料在短时间无法融合问题，从而解决了高粘度感光高分子材料在涂覆时，由于液体浪涌效应作用导致的，高分子膜呈现浪涌固化的问题。本发明适用于60cp及以上粘度光刻胶，其计算转换方便，调整控制度高，对人员经验要求低。

公开(公告)号：CN118131571A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202211539989.4

申请日：2022-12-02

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

发明人： 孙会权 ,  胡苏 ,  姜军

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/677

摘要： 本发明涉及基于TRACK机台的晶圆传送方法，读取LOADPORT上晶圆信息，根据读取的晶圆信息得到每个晶圆槽状态并显示；接收人机界面交互的第一触发指令，根据第一触发指令选择相应的Wafer，并设置为起始Wafer，读取起始Wafer对应的起始晶圆槽关联信息；接收人机界面交互的第二触发指令，根据第二触发指令选择相应的Wafer，并设置为终止Wafer，读取终止Wafer对应的目的晶圆槽关联信息；在起始Wafer与终止Wafer之间建立有向连接并显示；将起始晶圆槽关联信息、目的晶圆槽关联信息以及有向连接信息发送至机械手，以控制机械手从LOADPORT的起始晶圆槽取出晶圆，并传送至目的晶圆槽。本方法可完成片盒内或不同片盒间的晶圆传送，可单片传送，可多片同时传送，也可完成一键将单片晶圆传送至机台某个单元的功能。

公开(公告)号：CN116991037A

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202210440565.6

申请日：2022-04-25

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

发明人： 王延明 ,  胡苏 ,  邢栗 ,  张德强 ,  孙会权

IPC分类号： G03F7/16

摘要： 本发明公开了一种晶圆边缘双喷头快速去除光阻方法，属于光刻制程工艺技术领域。该方法是利用双喷头涂胶装置进行；所述双喷头涂胶装置的旋转基座上放置晶圆，EBR(边缘清洗)喷嘴设于晶圆上方，EBR喷嘴为两个并固定于喷嘴基座上，喷嘴基座连接喷嘴支撑臂，由喷嘴支撑臂带动EBR喷嘴沿晶圆径向移动。所述快速去除光阻方法为：晶圆进行高速旋转；EBR喷嘴在晶圆上POS3与晶圆上POS2之间往复高速移动，进行快速的洗边工艺；洗边工艺结束后，喷嘴移动至POS1位置并关液，将晶圆进行高速甩干EBR残余液体。该方法能够解决现有EBR技术存在的清洗效率低、清洗时间长、清洗容易存在光阻残留、对于厚胶清洗效果不佳的问题。

公开(公告)号：CN307874783S

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN202230554015.8

申请日：2022-08-24

申请人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

设计人： 姜军 ,  胡苏 ,  孙会权 ,  齐鹏

摘要： 1.本外观设计产品的名称：用于显示屏幕面板的晶圆传送图形用户界面。
2.本外观设计产品的用途：用于运行程序。
3.本外观设计产品的设计要点：在于图形用户界面显示的内容。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。
5.无设计要点，省略其他视图。
6.图形用户界面的用途：该显示屏幕面板用于TRACK机台，控制TRACK机台上同一片盒内或不同片盒间的晶圆传送。
7.图形用户界面的变化状态说明：主视图展示软件控制TRACK机台上不同片盒间的晶圆传送界面，点击“A8”，界面跳转为界面变化状态图1，点击“B7”，界面跳转为界面变化状态图2。