一种高温合金等离子体电化学研磨装置

    公开(公告)号:CN110820038B

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN201911140945.2

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本发明涉及一种高温合金等离子体电化学研磨装置,包括阴极,工作时在所述阴极与待研磨合金之间施加有纳秒脉冲电压;研磨刷,包括刷头和转盘,所述刷头设置于转盘上;螺旋拉弧装置,用于连接阴极和研磨刷,所述螺旋拉弧装置一端连接阴极另一端连接所述转盘;水雾喷射装置,用于产生并喷射去离子水水雾;驱动装置,用于驱动阴极、研磨刷和螺旋拉弧装置绕中心轴旋转。本发明中的研磨装置具有等离子体柔性接触和实现微观凸起点优先剥离并研磨至表面平整,然后再在微观次高凸起点剥离研磨。

    棒状阵列自动能量适配水雾合成双氧水装置及方法

    公开(公告)号:CN108238590A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201810055673.5

    申请日:2018-01-19

    CPC classification number: C01B15/027

    Abstract: 本发明公开了一种棒状阵列自动能量适配水雾合成双氧水装置及方法。本装置包括:可调供电单元、双氧水发生单元、电信号转换单元和数据分析控制单元,双氧水发生单元由水雾产生单元、棒状阵列介质阻挡放电单元和气液分离单元相互连通构成;棒状阵列介质阻挡放电单元包括由箱体和棒状电极构成的反应器;箱体内设置有若干平行于箱体底面且相互平行的多排棒状电极;同排的电极连接电源的正极或负极,上下相邻排的电极分别连接电源的正极和负极。本装置结构新颖,处理效果显著,实现了快速制取双氧水的功能,同时反应器体积大幅度减少,能够做到随产随用,此外还不会产生环境污染,有广阔的应用前景。

    一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法

    公开(公告)号:CN111912829A

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN202010883583.2

    申请日:2020-08-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法,包括如下步骤:采用时域有限差分算法,设置SERS基底的结构,包括SiO2基底层、Au金属薄膜层、SiO2介质层;确定仿真的初始条件;依次改变Au金属薄膜层的厚度、SiO2介质层的厚度、Au顶层金属层的厚度、以及双圆孔结构的缝距大小,利用FDTD solution软件计算SERS基底的电场强度分布,根据电场强度分布计算SERS基底的增强因子,筛选出增强因子较大的结构作为优化之后的SERS基底。本发明设计的结构可以有效的将入射光能量转换为表面等离子体波能量,并利用刻蚀纳米双孔有序阵列的复合膜SERS基底,产生LSPR和PSPR的有效耦合,从而最大限度的增强SERS信号。

    一种高温合金等离子体电化学研磨装置

    公开(公告)号:CN110820038A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201911140945.2

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本发明涉及一种高温合金等离子体电化学研磨装置,包括阴极,工作时在所述阴极与待研磨合金之间施加有纳秒脉冲电压;研磨刷,包括刷头和转盘,所述刷头设置于转盘上;螺旋拉弧装置,用于连接阴极和研磨刷,所述螺旋拉弧装置一端连接阴极另一端连接所述转盘;水雾喷射装置,用于产生并喷射去离子水水雾;驱动装置,用于驱动阴极、研磨刷和螺旋拉弧装置绕中心轴旋转。本发明中的研磨装置具有等离子体柔性接触和实现微观凸起点优先剥离并研磨至表面平整,然后再在微观次高凸起点剥离研磨。

    小型电晕放电水雾合成双氧水装置及其设计方法

    公开(公告)号:CN108212047A

    公开(公告)日:2018-06-29

    申请号:CN201810055298.4

    申请日:2018-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种小型电晕放电水雾合成双氧水装置,包括液相输送单元、气液混合水雾发生单元、电晕放电单元以及H2O2收集单元。电晕放电单元包括若干个模组,模组包括一个负电极层和一个正电极层,负电极层和正电极层交叉堆叠,负电极层与正电极层相互平行。负电极层上均匀填充有负电极,正电极层上均匀填充有正电极,负电极层上的负电极数目比正电极层上的正电极数目多一个。负电极接地,正电极接高压电源。本发明还公开了一种小型电晕放电水雾合成双氧水装置的设计方法,采用线线阵列式反应器制作简单。

    脉冲电晕放电水雾合成双氧水装置设计及参数调控方法

    公开(公告)号:CN108439346B

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201810055740.3

    申请日:2018-01-19

    Abstract: 本发明公开了脉冲电晕放电水雾合成双氧水装置设计及参数调控方法,该装置包括气液入口控制单元、气液混合发生单元、高压激励单元、气液分离单元、O2、O3分离单元、O2循环单元、H2O2分离单元、吸光度检测单元、数据采集与控制单元、以及用于测得气液压力的压力传感器和测得气液流量的流量传感器。本装置采用线线阵列式高压脉冲电晕放电,通过电气参数调控,调节最佳放电环境,在水雾喷雾中建立了非平衡等离子体处理系统,采用喷嘴喷射水雾射流,扩散区域广,处理流量大,由于线线阵列式反应器制作简单,可减小自身电容,减少能耗损失,因此本发明适用于大规模制取双氧水。

    小型电晕放电水雾合成双氧水装置及其设计方法

    公开(公告)号:CN108212047B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201810055298.4

    申请日:2018-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种小型电晕放电水雾合成双氧水装置,包括液相输送单元、气液混合水雾发生单元、电晕放电单元以及H2O2收集单元。电晕放电单元包括若干个模组,模组包括一个负电极层和一个正电极层,负电极层和正电极层交叉堆叠,负电极层与正电极层相互平行。负电极层上均匀填充有负电极,正电极层上均匀填充有正电极,负电极层上的负电极数目比正电极层上的正电极数目多一个。负电极接地,正电极接高压电源。本发明还公开了一种小型电晕放电水雾合成双氧水装置的设计方法,采用线线阵列式反应器制作简单。

    一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法

    公开(公告)号:CN111912829B

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202010883583.2

    申请日:2020-08-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法,包括如下步骤:采用时域有限差分算法,设置SERS基底的结构,包括SiO2基底层、Au金属薄膜层、SiO2介质层;确定仿真的初始条件;依次改变Au金属薄膜层的厚度、SiO2介质层的厚度、Au顶层金属层的厚度、以及双圆孔结构的缝距大小,利用FDTD solution软件计算SERS基底的电场强度分布,根据电场强度分布计算SERS基底的增强因子,筛选出增强因子较大的结构作为优化之后的SERS基底。本发明设计的结构可以有效的将入射光能量转换为表面等离子体波能量,并利用刻蚀纳米双孔有序阵列的复合膜SERS基底,产生LSPR和PSPR的有效耦合,从而最大限度的增强SERS信号。

    光电检测棒状阵列自动能量适配水雾合成双氧水装置

    公开(公告)号:CN108217605B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN201810054601.9

    申请日:2018-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种光电检测棒状阵列自动能量适配水雾合成双氧水装置,基于单级循环介质阻挡放电水雾合成双氧水,包括气液入口控制单元、O2循环单元、双氧水发生单元、数据采集与控制单元、O2‑O3分离单元、高压激励单元、气液分离单元、H2O2分离单元、O3储存器、H2O2储存器和溶液存储器;采用棒状阵列式高压脉冲介质阻挡放电,且通过电气参数调控,调节最佳放电环境,由于棒状阵列式反应器制作简单,减小自身电容,减少能耗损失,其大面积放电区域可适用于大流量生产,本装置制取双氧水原料为氯化钠溶液和氧气,易获取,产率高,适用于大规模制取双氧水。

    一种硅片表面研磨装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110911314A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201911199415.5

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 本发明公开了一种硅片表面研磨装置,属于表面处理技术领域,包括等离子体喷枪、伺服电机和激光测距组件;所述伺服电机与等离子体喷枪连接;所述等离子体喷枪包括喷嘴和位于等离子体喷枪内的等离子体喷枪控制系统、等离子体发生器和等离子体通道;所述等离子体喷枪控制系统与等离子体发生器和伺服电机通信连接;所述等离子体发生器依次与等离子通道和喷嘴连接;所述激光测距组件与等离子体喷枪连接;所述喷嘴与等离子体通道的连接处,设置有等离子体通道出口。本发明可对硅片进行自动化表面研磨,同时减少对环境的污染。

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