增透减反膜及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118859375A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410880325.7

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本发明公开了一种增透减反膜及其制备方法,该增透减反膜包括基材层、第二涂布层、第一涂布层、打底层、增透层和匀化层。基材层具有相对设置的第一表面和第二表面;第二涂布层涂布在所述基材层的第二表面;第一涂布层涂布在所述基材层的第一表面;打底层镀设在所述第一涂布层的表面;增透层镀设在所述打底层的表面,用于提高所述增透减反膜的透过率;匀化层镀设在所述增透层的表面,用于提高所述增透层的光学均匀性。本发明的增透减反膜通过镀设匀化层使得增透减反膜的增透层的表面更均匀,从而提高了增透减反膜的光学均匀性。打底层能够提高增透减反膜的附着力及耐磨性。

    低反射率的UV固化膜、组件及设备

    公开(公告)号:CN118685125A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410820742.2

    申请日:2024-06-24

    摘要: 本发明公开了低反射率的UV固化膜、组件及设备,其中UV固化膜,包括顺次设置的高温保护膜、PET2A膜、UVOCA胶层、第一高透PET基材、硅胶层、离型膜,其中所述PET2A膜包括第二高透PET基材以及其两侧设置的第一硬化层和第二硬化层,且第二硬化层相较于第一硬化层更相邻于所述UVOCA胶层。本发明通过优化设计膜层结构,从而实现了在反射率等方面显著优化。

    复合膜、视窗器件及电子设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117590499A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202311712185.4

    申请日:2023-12-13

    IPC分类号: G02B1/14 G02B1/18 G02B1/115

    摘要: 本发明公开了复合膜、视窗器件及电子设备,其中复合膜至少顺次包括离型层、基材层以及复合层,在远离所述基材层的方向所述复合层顺次设置有:第一硬化层,预镀层,为金属镀层和/或者金属氧化物镀层,其中金属镀层厚度为0.2~5nm、金属氧化物镀层厚度为1~10nm;防反射层,至少由若干高折射率膜层和/或低折射率膜层堆叠而成;防污层,其具有低表面张力特性;第一保护层。本发明通过优化产品结构和组成设计,有效地改善了薄膜产品的硬度和结合性,从而有效耐高温高湿、水汽阻隔等多方面的性能,并且具有良好的硬度和抗磨损抗污能力,应用性良好。

    低反射高透过AR膜、显示器件及设备

    公开(公告)号:CN117471581A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202311546899.2

    申请日:2023-11-20

    IPC分类号: G02B1/115

    摘要: 本发明公开了低反射高透过AR膜、显示器件及设备,其中AR膜包括基材层、打底层、复合结构层、镀氟化镁铌层以及镀二氧化硅层,所述复合结构层为第一镀氟化镁层与第一镀五氧化二铌层的组合,其中相邻的所述镀氟化镁层与镀二氧化硅层的厚度分别为30‑80nm、1‑25nm。本发明通过优化产品的层结构,有效地实现了AR膜产品的耐受性、使用性,具有更好的结构稳定性和使用体验性。

    渐变色装饰膜
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110527447A

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201910905216.5

    申请日:2019-09-24

    IPC分类号: C09J7/25 C09J7/29 C09J7/50

    摘要: 一种渐变色装饰膜,包括基材层,还包括由所述基材层的正面依次设置的上底涂层、显色层、透明双面胶层,所述显色层包括由掺有颜料的浆料涂布而成的显色涂层、利用喷涂或打印或者转印形成于所述显色涂层上的渐变色层,所述渐变色层是用像素300dpi-4500dpi的点由稀疏向密集过度形成的,所述基材层厚度为23μm-730μm,所述上底涂层厚度为10nm-200nm,所述显色层厚度为0.3μm-5μm,所述透明双面胶层厚度为20μm-150μm。色彩可由颜料调制出,保证颜色丰富且色相均匀,即使是不同批次的生产也能保证相同的色彩,良率高,满足客户的高标准要求。

    超薄EMI屏蔽膜
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118973241A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411221826.0

    申请日:2024-09-02

    IPC分类号: H05K9/00

    摘要: 本发明公开了一种超薄EMI屏蔽膜,其包括从下至上依次层叠设置的下涂布层、基材层、上涂布层、打底层、氧化锌铝层、SiO2混合层、ITO层、Ag层和镍铬层。基材层具有相对设置的第一表面和第二表面;下涂布层涂布在所述基材层的第二表面;上涂布层涂布在所述基材层的第一表面;打底层镀设在所述上涂布层的表面;氧化锌铝层镀设在所述打底层的表面;SiO2混合层镀设在所述氧化锌铝层的表面;ITO层镀设在所述SiO2混合层的表面;Ag层镀设在所述ITO层的表面;镍铬层镀设在所述Ag层的表面;其中,所述基材层的厚度介于5.7μm‑16μm。本发明的超薄EMI屏蔽膜有效降低了膜材的整体厚度及翘曲程度,并在保证对电磁干扰的屏蔽效果的同时其他性能也能保持或加强。

    高耐用性的AR膜及其制备工艺
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118859377A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202411101605.X

    申请日:2024-08-12

    IPC分类号: G02B1/115 G02B1/14

    摘要: 本发明公开了高耐用性的AR膜,包括基材层,所述基材层上依次层叠设有上涂布层、打底层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层和防护层;其中,第一氧化铌层和二氧化硅层之间设有氧化锡层或第二氧化铌层和硅铝混合层之间设有氧化锡层;所述氧化锡层厚度为1~20nm。本发明中的AR膜在保持较优的光学性能的同时,又具有较高的耐磨性和耐高温性,整体的使用性能表现优良。

    增透膜及其制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118837980A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410880328.0

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本发明公开了一种增透膜及其制备方法,该增透膜包括基材层、第一涂布层、第二涂布层、打底层和增透层。基材层具有相对设置的第一表面和第二表面;第一涂布层涂布在所述基材层的第一表面;第二涂布层涂布在所述基材层的第二表面;打底层磁控溅射在所述第一涂布层的表面;增透层镀设在所述打底层的表面,用于增加所述增透膜的透过率。本发明的的增透膜通过设置打底层,能够提高膜材表面的物理性能,从而提高增透膜的耐候性。另外,增透层中的第一二氧化硅混合层和第二二氧化硅混合层是通过硅铝靶溅射而成,形成的层结构更为均匀,从而具有更好的增透效果及耐候性。本发明的增透膜制备方法制备出的增透膜具有更好的耐候性。