增透减反膜及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118859375A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410880325.7

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本发明公开了一种增透减反膜及其制备方法,该增透减反膜包括基材层、第二涂布层、第一涂布层、打底层、增透层和匀化层。基材层具有相对设置的第一表面和第二表面;第二涂布层涂布在所述基材层的第二表面;第一涂布层涂布在所述基材层的第一表面;打底层镀设在所述第一涂布层的表面;增透层镀设在所述打底层的表面,用于提高所述增透减反膜的透过率;匀化层镀设在所述增透层的表面,用于提高所述增透层的光学均匀性。本发明的增透减反膜通过镀设匀化层使得增透减反膜的增透层的表面更均匀,从而提高了增透减反膜的光学均匀性。打底层能够提高增透减反膜的附着力及耐磨性。

    复合膜、视窗器件及电子设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117590499A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202311712185.4

    申请日:2023-12-13

    IPC分类号: G02B1/14 G02B1/18 G02B1/115

    摘要: 本发明公开了复合膜、视窗器件及电子设备,其中复合膜至少顺次包括离型层、基材层以及复合层,在远离所述基材层的方向所述复合层顺次设置有:第一硬化层,预镀层,为金属镀层和/或者金属氧化物镀层,其中金属镀层厚度为0.2~5nm、金属氧化物镀层厚度为1~10nm;防反射层,至少由若干高折射率膜层和/或低折射率膜层堆叠而成;防污层,其具有低表面张力特性;第一保护层。本发明通过优化产品结构和组成设计,有效地改善了薄膜产品的硬度和结合性,从而有效耐高温高湿、水汽阻隔等多方面的性能,并且具有良好的硬度和抗磨损抗污能力,应用性良好。

    低反射高透过AR膜、显示器件及设备

    公开(公告)号:CN117471581A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202311546899.2

    申请日:2023-11-20

    IPC分类号: G02B1/115

    摘要: 本发明公开了低反射高透过AR膜、显示器件及设备,其中AR膜包括基材层、打底层、复合结构层、镀氟化镁铌层以及镀二氧化硅层,所述复合结构层为第一镀氟化镁层与第一镀五氧化二铌层的组合,其中相邻的所述镀氟化镁层与镀二氧化硅层的厚度分别为30‑80nm、1‑25nm。本发明通过优化产品的层结构,有效地实现了AR膜产品的耐受性、使用性,具有更好的结构稳定性和使用体验性。

    一种含有SiO2、Ti的HUD膜及其制备工艺

    公开(公告)号:CN118895480A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202410983665.2

    申请日:2024-07-22

    摘要: 本发明公开了一种含有SiO2、Ti的HUD膜及其制备工艺,含有SiO2、Ti的HUD膜包括依次层叠设置的基材层、打底层、TiO2层、金属层以及SiO2层,所述SiO2层通过磁控镀膜溅射工艺形成,所述磁控镀膜溅射工艺中选用的靶材为包括硅和铝的混合靶,轰击所述靶材的反应气体为包括氩气、氮气以及氧气的混合气体。本发明通过设置TiO2层、以及通过包括氩气、氮气以及氧气的混合气体轰击包括硅和铝的混合靶形成SiO2层,使得最终形成的HUD膜耐磨性好,且P光和S光的反射效果好,环测效果好。因此,能够有效地应用于汽车前风挡玻璃,为驾驶员提供清楚完整的驾驶信息,确保驾驶的安全。

    HUD反光膜
    5.
    发明公开
    HUD反光膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN118759623A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202411138242.7

    申请日:2024-08-19

    IPC分类号: G02B5/08 G02B1/10 G02B27/01

    摘要: 本发明公开了一种HUD反光膜,其包括基材、第一涂布层、第二涂布层、打底层、镍铬层、混合靶SiO2层和AF层。基材具有相对设置的第一表面和第二表面。第一涂布层,涂布在所述基材的第一表面;第二涂布层涂布在所述基材的第二表面;打底层磁控溅射在所述第一涂布层的表面;镍铬层磁控溅射在所述打底层的表面;混合靶SiO2层磁控溅射在所述镍铬层的表面;AF层湿法涂布在所述混合靶SiO2层的表面;其中,所述HUD反光膜被构成使得P光反射率介于20%‑35%,S光反射率介于10%‑20%,透过率介于22%‑32%。本发明的HUD反光膜采用上述层结构,结构更为简单,有助于提高生产效率,具有较好的光学性能。另外,本发明的HUD反光膜具有更好的耐候性,更好的附着力,能适应不同的使用环境。

    AR膜、元件及设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117488262A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311471319.8

    申请日:2023-11-07

    摘要: 本发明公开了AR膜、元件及设备,其中AR膜,包括顺次设置的基材层、打底层、最外层为镀二氧化硅层的复合层、镀氧化铌层,其中,所述复合层为增透的镀氧化钛层与降反的镀二氧化硅层的组合,镀氧化铌层作为放电性调控层其厚度满足:0.1‑10nm。本发明通过优化产品的结构设计,至少在顶层优化型地加镀一层氧化铌,能在作业过程中有效地遮盖住原先因顶层氧化硅放电中产生的波动,从而避免因波动导致镀层形貌厚度等发生变化,从而整体上改善产品的质量和性能,使得产品成型具有更好的性能稳定性。

    低方阻低色差型调光膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN115826271A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211684358.1

    申请日:2022-12-27

    IPC分类号: G02F1/01

    摘要: 本发明公开了低方阻低色差型调光膜及其制备方法,低方阻低色差型调光膜包括包括从下至上依次设置的基材层、绝缘保护层、特定ITO层和常规ITO层,所述特定ITO层的氧化铟和氧化锡的质量比为85~92:15~8,所述常规ITO层的氧化铟和氧化锡的质量比为93~95:7~5,既可在有效降低方阻的同时改善方阻的均匀性,还可保证结晶充分,降低反射率,减少色差痕,提高一次成材率。

    一种金属网格膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN112566365A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011447621.6

    申请日:2020-12-09

    摘要: 本发明公开了一种金属网格膜及其制备方法,一种金属网格膜包括基底材料以及固定在位于基底材料上侧的网格状的沟槽之中的导电线路,所述导电线路包括刮涂固化在沟槽底部的银线路以及电镀在银线路之上的铜线路,一种金属网格膜的制备方法包括a)纳米压印;b)刮涂银浆;c)银浆固化以及d)水电镀,本发明在微纳米压印‑填充法制备金属网格的技术基础上进行改良,先在基底材料上压印一层UV压印胶,并在胶面印制所需沟槽网格图案,再刮涂银浆填充沟槽,然后固化形成银线路,接着通过水电镀的方式在银线路表面镀上铜线路,制备的金属网格膜具有线路厚度薄,摩尔纹干涉轻,视觉效果好,制作成本低廉,无环境污染以及无黄光制程侧蚀等优点。

    一种亮光装饰膜
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110467886A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201910905214.6

    申请日:2019-09-24

    摘要: 一种亮光装饰膜,包括基材层,还包括由基材层的正面依次设置的上底涂层、显色涂层、1~5层上镀膜层、透明双面胶层,显色涂层是由掺有颜料的浆料涂布而成的,上镀膜层的总厚度为10nm-400nm,反射率为4%-90%,基材层厚度为23μm-730μm,上底涂层厚度为10nm-200nm,显色涂层厚度为0.3μm-5μm,透明双面胶层厚度为20μm-150μm。整体色彩主要由显色涂层决定,显色涂层的色彩是由颜料调制出的,保证颜色丰富且均匀,即使是不同批次的生产也能保证相同的色彩,良率高,满足客户的高标准要求,结合上镀膜层,在显色涂层上显出镜面亮光质感。