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公开(公告)号：CN113433607B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202110594142.5
申请日：2021-05-28
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种双带通滤光片及其制作方法。它解决了现有双带通设计膜层不规律、膜层效果不佳及容易造成产品不良等问题。本双带通滤光片包括基底、设于基底一侧的双带通膜系和另一侧的AR膜系，双带通膜系包括从内往外交替叠加的低折射率膜层和高折射率膜层，以及为低折射率膜层的最外层；双带通膜系的膜系结构为由(0.5LH0.5L)^13和1.5(0.5LH0.5L)^10两个膜堆互相堆叠而成，AR膜系包括从内往外交替叠加的低折射率膜层和高折射率膜层，以及为低折射率膜层的最外层，AR膜系的膜系结构为(0.5LH0.5L)^13。本滤光片具有工艺简单、产品质量好、滤光片性能佳的优点。
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公开(公告)号：CN111235521B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202010045219.9
申请日：2020-01-16
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法，属于镀膜技术领域。SIH膜制备方法包括：步骤S01，对溅射镀膜机腔体抽真空；步骤S02,将玻璃基片置于镀膜腔室内加热；步骤S03,利用等离子气体Ar,对玻璃基片进行ICP离子预清洗；步骤S04,在靶材附近充入Ar和H2,在直流脉冲模式下用Ar和H2轰击Si靶,在玻璃基片的沉底上形成SIH膜。红外带通多层膜制备方法包括：步骤S10,采用上述方法在玻璃基片上制备SIH膜；步骤S20，在腔体内部充入Ar和O2，用Ar轰击Si靶，生成SiO2膜；步骤S30，重复步骤S10‑S20形成红外带通多层膜。本发明生产成本低，产能高，能生产出N>3.68,k
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公开(公告)号：CN113481482A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202110606472.1
申请日：2021-05-28
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明属于光学镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜治具，包括用来夹持晶片的治具；治具包含治具上板和治具下板，所述治具上板与所述治具下板可拆卸连接；所述治具下板开设有第一通孔，所述治具上板开设有与所述第一通孔相对应的第二通孔；治具底板，所述治具底板分别与所述治具上板和所述治具下板可拆卸连接。本发明通过治具上板和治具下板的配合来夹持晶片，在对晶片的一侧镀膜完毕后，无需将晶片取出，只要将治具进行翻转与治具底板重新连接即可，方便快捷，大大提高了晶片的镀膜效率，减少了镀膜过程中晶片的损耗。此外，还解决了现有技术中翘曲的问题，以及翘曲导致的碎片问题。
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公开(公告)号：CN111172500B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202010045208.0
申请日：2020-01-16
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 一种PET镀膜方法、镀膜PET，属于镀膜技术领域。方法包括：步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti；步骤S02，在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。本镀膜PET基于上述方法制备。本发明在PET薄片基本表面镀膜，采用特定的膜层设计，使之与PET表面精密粘结，并达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.15％的吸光作用。
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公开(公告)号：CN110106482A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201910524141.6
申请日：2019-06-17
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种镀膜治具及镀膜方法，涉及溅射镀膜技术领域，本发明提供的镀膜治具包括：承载组件和压片组件，承载组件设有外凸圆柱面，压片组件与承载组件可拆卸地连接；当压片组件与承载组件连接时，压片组件抵接外凸圆柱面，且沿外凸圆柱面的圆周方向弯曲；压片组件用于连接可弯曲变形的镀膜基片，并使镀膜基片沿外凸圆柱面的圆周方向弯曲，本发明提供的镀膜治具缓解了使用旋转式溅射镀膜机加工大尺寸镀膜基片的成片率低下的技术问题，能够使镀膜基片的镀膜面由平面转变为圆柱面，有利于降低镀膜散差，提高大尺寸镀膜基片的成片率。
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公开(公告)号：CN115291314A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202211057097.0
申请日：2022-08-30
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种接收端滤光片及制备方法、以及组合滤光器，属于镀膜技术领域。它解决了现有制作的接收端滤光片比较单一的问题。本接收端滤光片包括玻璃基底、窄带通膜系以及增透膜系，窄带通膜系包括逐层交替沉积的氧化硅膜层和氢化硅/氢氧化硅/氮氢化硅膜层，以及作为最外层的氧化硅膜层，增透膜系包括逐层交替沉积的氧化硅膜层和氢化硅/氢氧化硅/氮氢化硅膜层，以为作为最外层的氧化硅膜层。本接收端滤光片具有在入射角为0°‑60°的角度范围内，具有重叠高透过率；入射角为0°‑60°的角度范围内，需求截止谱段具有抑制光信号通过作用的优点。
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公开(公告)号：CN111736251B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202010506374.6
申请日：2020-06-05
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 一种中红外透过滤光片及其制备方法，属于镀膜技术领域。滤光片包括玻璃基底、设于玻璃基底一侧的窄带通膜系、以及设于玻璃基底另一侧的长波通膜系；窄带通膜系包括逐层交替沉积的氢氧化硅/氮氢化硅膜层和氧化硅膜层；长波通膜系包括逐层交替沉积的氢氧化硅/氮氢化硅膜层和氧化硅膜层。方法包括：采用磁控溅射方法在玻璃基底一侧沉积上述窄带通膜系并在玻璃基底另一侧沉积上述长波通膜系。本发明滤光片可在1300‑1400nm谱段具有高透过率，同时在350‑1280nm谱段、1420‑1800nm谱段截止。
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公开(公告)号：CN111736250B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202010440566.1
申请日：2020-05-22
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 一种黑膜窄带滤光片及其制备方法，属于镀膜技术领域。滤光片包括玻璃基底、设于玻璃基底一侧的窄带通膜系、以及设于玻璃基底另一侧的长波通膜系；长波通膜系包括从下往上逐层交替沉积的氢氧化硅/氮氢化硅膜层和氧化硅膜层；窄带通膜系包括从下往上逐层交替沉积的氧化硅膜层和氢氧化硅/氮氢化硅膜层。方法包括：采用磁控溅射方法在玻璃基底一侧沉积上述长波通膜系，并在玻璃基底另一侧沉积上述窄带通膜系。本发明在入射角为0°时，934‑962nm谱段具有高透过率，在350‑901nm谱段、1000‑1100nm谱段截止；入射角为30°时，925‑951nm谱段具有高透过率；同时窄带面在入射角为6°时，反射在400‑700波段平均反射低于5％。
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公开(公告)号：CN110106482B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN201910524141.6
申请日：2019-06-17
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种镀膜治具及镀膜方法，涉及溅射镀膜技术领域，本发明提供的镀膜治具包括：承载组件和压片组件，承载组件设有外凸圆柱面，压片组件与承载组件可拆卸地连接；当压片组件与承载组件连接时，压片组件抵接外凸圆柱面，且沿外凸圆柱面的圆周方向弯曲；压片组件用于连接可弯曲变形的镀膜基片，并使镀膜基片沿外凸圆柱面的圆周方向弯曲，本发明提供的镀膜治具缓解了使用旋转式溅射镀膜机加工大尺寸镀膜基片的成片率低下的技术问题，能够使镀膜基片的镀膜面由平面转变为圆柱面，有利于降低镀膜散差，提高大尺寸镀膜基片的成片率。
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公开(公告)号：CN115166886A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202210669995.5
申请日：2022-06-14
申请人： 浙江晶驰光电科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种超低角度偏移效应的红外截止滤光器，属于滤光器技术领域。它解决了现有的近红外窄带滤光片其偏移程度较长的问题。本超低角度偏移效应的红外截止滤光器，包括红外窄带滤光片，其具有NBP膜和LP膜；NBP膜的结构为L(HM)^n L，LP膜的结构为L(HL)^n；H代表1个基本厚度的高折射率膜层，M代表1个基本厚度中折射率膜层，L代表1个基本厚度的低折射率膜层；1个H或1个M或1个L代表该膜层在参考波长处具有1/4光学厚度，n代表H膜层和M膜层叠加后的重复次数，m代表H膜层和L膜层叠加后的重复次数。NBP膜采用了H、M、L三种材料，LP膜采用了H、L两种材料，实现了红外截止滤光器的超低大角度偏移效果。
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