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公开(公告)号：CN117452626A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202310909214.X
申请日：2023-07-24
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G02B26/08
Abstract: 光模块包括：反射镜单元，其具有反射镜器件，该反射镜器件包括设置有线圈的可动反射镜部；和磁铁部，其包括沿着第1方向排列的第1磁铁、第2磁铁和第3磁铁，产生作用于可动反射镜部的磁场。反射镜单元在与第1方向垂直的第2方向上配置在磁铁部上，具有与磁铁部相对的底面。在底面形成有向磁铁部侧突出的突出部。在第1方向上的突出部的宽度为在第1方向上的第1磁铁的宽度以下。反射镜单元在突出部固定于第1磁铁的上表面。
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公开(公告)号：CN114730073A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080080248.7
申请日：2020-09-16
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G02B26/10
Abstract: 反射镜组件包括光扫描器件和封装件。封装件具有：主体部，在主体部设置有在规定方向的一侧开口的光入射开口，主体部能够保持光扫描器件；突起，其以沿着光入射开口的边缘延伸的方式设置在主体部的顶面；和平板状的窗部件，其在突起的内侧配置在顶面上，且覆盖光入射开口。突起的一侧的端面位于比窗部件更靠一侧的位置。突起的厚度小于突起的从顶面起的高度。在从与规定方向垂直的任一方向看时，窗部件中被突起覆盖的部分的长度均大于窗部件中从突起露出的部分的长度。
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公开(公告)号：CN114585585A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202080073186.7
申请日：2020-08-24
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本发明的反射镜器件的制造方法，其中，反射镜器件具备：包含基底部和支撑在基底部的可动部的结构体、以及设置在可动部的反射镜层，本发明的反射镜器件的制造方法具备：准备具有支撑层、器件层和配置在支撑层与器件层之间的中间层的晶圆的第一工序；在第一工序之后，通过将支撑层、器件层和中间层中的各个的一部分从晶圆去除，以可动部相对于基底部可动的方式在晶圆形成狭缝，并且将分别与结构体对应的多个部分形成在晶圆的第二工序；在第二工序之后，实施通过清洗液清洗晶圆的湿法清洗的第三工序；以及在第三工序之后，将多个部分中的各个从晶圆切出的第四工序，在第二工序中，将中间层的一部分通过各向异性蚀刻从晶圆去除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118466008A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410169634.3
申请日：2024-02-06
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 在镜装置中，第一梁部具有朝向第一方向的一侧延伸的一对第一部分、和在第一部分之间延伸的第一延伸部分。第二梁部具有朝向第一方向的另一侧延伸的一对第二部分、和在第二部分之间延伸的第二延伸部分。第三梁部具有朝向第二方向的一侧延伸的一对第三部分。第四梁部具有朝向第二方向的另一侧延伸的一对第四部分。梁部不具有形成于第三部分之间及第四部分之间，且以从第三方向观察时与第二轴线交叉的方式延伸的部分。第一～第四部分为互不相同的部分。
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公开(公告)号：CN114555513A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080073178.2
申请日：2020-08-24
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本发明的反射镜器件的制造方法，其中，反射镜器件具备：包含基底部和支撑在基底部的可动部的结构体、以及设置在可动部的反射镜层，本发明的反射镜器件的制造方法具备：准备具有支撑层和器件层的晶圆的第一工序；在第一工序之后，通过将支撑层和器件层中的各个的一部分通过蚀刻从晶圆去除，以可动部相对于基底部可动的方式在晶圆形成狭缝，并且将分别与结构体对应的多个部分形成在晶圆的第二工序；在第二工序之后，实施通过清洗液清洗晶圆的湿法清洗的第三工序；以及在第三工序之后，将多个部分中的各个从晶圆切出的第四工序，在第二工序中，通过蚀刻，在晶圆中的、狭缝以外的部分，形成贯通晶圆的流通孔。
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公开(公告)号：CN114502504A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080069426.6
申请日：2020-08-27
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本发明的反射镜器件的制造方法具备：形成工序，通过晶圆的加工，形成基底部、可动部、及以所述可动部相对于所述基底部可摆动的方式将所述基底部和所述可动部相互连结的连结部，并且在所述可动部形成反射镜层，来形成结构体；以及收集工序，在所述形成工序之后，进行由收集构件的所述结构体的异物收集。本发明的反射镜单元的制造方法具备：密封工序，在所述收集工序之后，密封所述反射镜器件。
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