-
公开(公告)号：CN105880128B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201610424092.5
申请日：2016-06-15
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： B05D3/02
摘要： 本发明公开了一种用于显示面板制程的烘烤设备，该烘烤设备包括设备主体，设备主体定义一容纳待烘烤基板的烘烤腔室，设备主体的顶部设置有排气通道，排气通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室内进行烘烤时产生的蒸汽。通过这种方式，本发明烘烤设备能够将溶剂导出，避免偶发液滴滴下导致产品报废问题，大幅度降低维护保养的频率。
-
公开(公告)号：CN109321886A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201811271840.6
申请日：2018-10-29
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
摘要： 本发明提供一种蒸镀腔体设计，包括基板夹持装置、基板对位装置、磁铁、冷板、曝光掩膜、蒸镀坩埚加热装置、转动装置以及压力传感器；所述压力传感器均匀对称的排布在冷板的下表面，通过预设压力传感器的数值来控制基板的压合，通过各个压力传感器的差值来判断基板的压合状态；本发明保证了每片玻璃基板受到的压合量相同，且该压合量设计在合理范围内，既可以保证基板不发生偏移，又可以保证基板不会因压合量过大而产生破片，极大的提高了蒸镀制程的成功率。
-
公开(公告)号：CN108170004A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711445985.9
申请日：2017-12-27
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
摘要： 本发明提供一种光阻实时检测装置，包括工台，设置于工台上的基板，口金，口金用于在基板上涂布光阻，工台上还设置有光学检测件和与光学检测件电连接的控制件，口金在基板沿第一方向上涂布光阻时，光学检测件对光阻进行检测，并反馈检测信号至控制件，控制件将检测信号与标准信号进行对比而确定光阻是否达标。本发明提供的一种光阻实时检测装置，通过设置光学检测件，并在口金涂布光阻时对光阻进行检测，光学检测件将检测信号反馈至控制件，控制件将检测信号与标准信号进行对比，达到了对光阻实时检测的目的，解除了抽检方式所存在的漏检风险，提高了产品的良率，对产能的影响小。本发明还提供了一种光阻实时检测方法及一种光阻涂布设备。
-
公开(公告)号：CN103792590B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201410033542.9
申请日：2014-01-23
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
发明人： 王松
CPC分类号： G01V8/12 , C03B29/025 , C03B29/08 , G01V9/00
摘要： 一种在高温腔体中侦测物品存在的侦测装置，用于侦测玻璃基板在高温腔体中的进出，侦测装置包括感测探针和侦测元件，感测探针装配于高温腔体的侧壁，其包括在同一直线上的固定探针和偏转探针，当玻璃基板进入高温腔体内时，玻璃基板触碰到偏转探针时，偏转探针接通侦测元件，则侦测元件发出感应信号，以表征玻璃基板进入高温腔体内。通过简单地机械结构和常规的侦测元件，就可以实时地判断玻璃基板或其他元器件是否存在于高温设备中，保障了物料侦测的实时性和准确性。
-
公开(公告)号：CN105080789A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510487453.6
申请日：2015-08-10
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
摘要： 本发明涉及一种涂布装置和涂布器。其中涂布器包括：暂存腔；用于把选定流体导入到暂存腔内的进入口；与暂存腔的相连通的涂布缝；以及设置在暂存腔内的活塞。当活塞在暂存腔内移动时，该活塞能够使暂存腔内的选定流体通过涂布缝流出到涂布器的外部，并促使选定流体在涂布缝的任意位置上的流速趋近一致。根据本发明的涂布器能够对待涂物的待涂表面进行均匀的涂布。
-
公开(公告)号：CN109192784A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201811019288.1
申请日：2018-09-03
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/51 , H01L27/32 , H01L21/336
摘要： 本发明提供一种薄膜晶体管，所述晶体管包括：衬底；有源区，位于所述衬底上方；栅极介质层，位于所述有源区上方；栅极金属，位于所述栅极介质层上方；源漏区，位于所述沟道区两侧的有源区中；其中，所述栅极介质层包括位于所述有源区上方的氧化硅层和位于所述氧化硅层上方的第二栅介质层，所述氧化硅层沿沟道方向的长度小于所述第二栅介质层的长度；其中，所述第二栅介质层的介电常数大于氧化硅层的介电常数。
-
公开(公告)号：CN108831894A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810616025.2
申请日：2018-06-14
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L21/268 , H01L21/77 , H01L29/16
摘要： 本发明提供一种低温多晶硅薄膜的制作方法、低温多晶硅薄膜及低温多晶硅TFT基板。本发明的低温多晶硅薄膜的制作方法，通过在非晶硅薄膜层上沉积形成氮化硅材料的折射层并在该折射层表面形成多个凸形的或凹形的弧面结构，当采用准分子激光束照射非晶硅薄膜层使非晶硅薄膜层结晶形成低温多晶硅薄膜的制程中，准分子激光束通过折射层的弧面结构时会产生一定的散光效应或聚光效应，从而在非晶硅薄膜层上形成激光能量梯度，如此便可控制非晶硅薄膜层的结晶方向，增大晶粒尺寸，减少晶界数量，进而能够提高TFT器件载流子的迁移率，减小晶界对漏电流的影响。
-
公开(公告)号：CN104570419B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201410837322.1
申请日：2014-12-26
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： G02F1/13 , H01L21/683 , B25H1/00
摘要： 本发明提供一种吸附式载台及其吸附方法。该吸附式载台包括载台本体(1)、及数个能够相对于所述载台本体(1)进行升降的真空吸附装置(2)；所述载台本体(1)用于承载基板(3)，该载台本体(1)内设有数个贯穿的阶梯孔(11)；每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)、及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22)；所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)；每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(1)能够处于不同的高度。
-
公开(公告)号：CN105080789B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201510487453.6
申请日：2015-08-10
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
摘要： 本发明涉及一种涂布装置和涂布器。其中涂布器包括：暂存腔；用于把选定流体导入到暂存腔内的进入口；与暂存腔的相连通的涂布缝；以及设置在暂存腔内的活塞。当活塞在暂存腔内移动时，该活塞能够使暂存腔内的选定流体通过涂布缝流出到涂布器的外部，并促使选定流体在涂布缝的任意位置上的流速趋近一致。根据本发明的涂布器能够对待涂物的待涂表面进行均匀的涂布。
-
公开(公告)号：CN106842813A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201611241237.4
申请日：2016-12-29
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
CPC分类号： G03F1/50 , G02F1/1303 , G03F7/20
摘要： 本发明针对现有的封框胶固化技术中使用的掩膜种类繁多且需要手动更换的问题，提出了一种掩膜。本发明提出的掩膜采用偏振方向相互垂直的X偏光片和Y偏光片交叠设置，得到交叠区域，交叠区域不允许光线透过，交叠区域之外的区域允许光线透过。通过合理设置X偏光片的数量和/或Y偏光片的数量，得到与液晶区向匹配的交叠区域，交叠区域将液晶区完全遮盖，使得曝光光线只对液晶区外的封框胶进行固化。该掩膜可以适用于不同尺寸的封框胶固化，不再需要另外制作封框胶固化掩膜，减少了制程中掩膜的种类和数量，本发明同时提出了包含该掩膜的设备，替代了手工操作，提高了生产效率。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
25 条记录 (耗时 0.058 秒)