-
公开(公告)号：CN116426889A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310360981.X
申请日：2023-04-06
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及一种玻璃表面导电耐磨涂层的工艺，包括以下步骤：1、清洗基底材料，将Cr靶和Si靶安装在镀膜室并对其抽真空、加热；2、向镀膜室内通入Ar至气压在0.05~0.15Pa，偏压在‑220~‑180V，对基底材料清洗；3、向镀膜室内通入Ar至气压在0.30~0.36Pa时溅射过渡层；4、向镀膜室内通入N2和C2H2，当气压在0.35~0.38Pa，在过渡层上沉积CrSiCN层。在步骤4中，控制C2H2的通入速率，使得沉积的CrSiCN层中C元素所占的百分比在1.73%~3.73%。本发明达到提高涂层耐磨性的效果。
-
公开(公告)号：CN116288215A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310374668.1
申请日：2023-04-10
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及一种光学深色炫彩薄膜及其制备方法。其中，制备方法包括以下步骤：S1、充入工作气体Ar，开启中频镀膜电源电流沉积纯Ti层；S2、充入反应气体N2，调整气压为0.2~0.3Pa，同时开启Ti靶和Si靶，沉积TiSiN层，沉积时间为18~23分钟；S3、以所述TiSiN层为底色膜层，充入工作气体Ar和反应气体O2，交替覆盖沉积TiO2层和SiO2层，得到光学深色炫彩薄膜。所述光学深色炫彩薄膜包括在基底材料表面由内至外沉积的多层膜，其中，第一层为Ti层，第二层为TiSiN层。本发明提供的制备方法同时实现掺杂和多层膜的制备，实现了深色炫彩涂层，进一步丰富了光学炫彩薄膜的颜色，满足市场对新颜色的需求，扩大了所述光学深色炫彩薄膜的应用场景。
-
公开(公告)号：CN118048616A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202410258624.7
申请日：2024-03-07
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及一种玻璃表面导电耐磨涂层的工艺，包括以下步骤：向镀膜室内通入Ar，当气压达到0.30~0.36Pa时，采用电流磁控技术在基底材料表面溅射过渡层；向镀膜室内通入N2和C2H2，当气压稳定在0.35~0.38Pa时，同时开启Cr靶和Si靶，在过渡层上沉积CrSiCN层；当N2的通入量达到80~100sccm、C2H2的通入量达到25~35sccm时，维持20~30min，结束镀膜。在S2中，控制C2H2的通入速率，使得沉积的CrSiCN层中C元素所占的百分比在1.73%~3.73%。本发明增强了CrSiCN涂层的耐磨性能，提高了CrSiCN涂层的品质，进一步提高了涂层的耐磨性和硬度。
-
公开(公告)号：CN114351102A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202111530038.6
申请日：2021-12-10
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明公开了一种TiCN仿金膜层磁控溅射加工方法，包括以下步骤：S1、Ti靶的基底材料经超声清洗后，在抽真空的镀膜室内进行加热，200℃保温，转架转速频率设置为40HZ；S2、本底真空达到0.001Pa时，通入Ar气，使气压达到0.1pa，偏压设定‑400V，离子清洗1圈；S3、调整Ar气进气量，使气压达到0.3pa，偏压设定‑100V，开启中频镀膜，电源电流设定30A，沉积纯Ti层10分钟；S4、通入N2，调整电流为40A，气压为0.31pa，沉积TiN层60分钟；S5、通入N2，调整Ar气进气量，使气压达到0.1Pa，调整电流为65A，同时开启气压判断程序；S6、通入N2、C2H2，调整电流为70A，气压为0.13pa，沉积颜色层TiCN 15分钟。本方法可以制备出亮度高、颜色稳定性高、不易分层分杆、工艺重复好、本征色比较红的TiCN仿金膜层。
-
公开(公告)号：CN110373645A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201910702325.7
申请日：2019-07-31
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 一种超黑色耐磨涂层，在基底材料表面由内至外依次沉积Ti层、第一WTiAlSiN层、第二WTiAlSiN层、WC层，这种多层膜结构中，最下层为由Ti靶形成的纯Ti层，中间两层为由WTiAlSi四种混合靶掺氮形成的过渡层和功能层，表面是由W靶掺乙炔形成的WC层进行颜色的覆盖，相比传统的黑色涂层，具有上述四层结构的涂层不仅颜色超黑，而且硬度和耐磨性大大提高，其超黑色、高耐磨性能显著优于现有涂层。该涂层的制作工艺简单，成本低。该涂层及其制作工艺尤其适于钟表、3C电子产品壳体等的涂层应用。
-
公开(公告)号：CN118048615A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202410258592.0
申请日：2024-03-07
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明公开了一种改善PVD面底色差的镀膜工艺，包括以下步骤：S1、将工件放置在转架上，并在转架的两端均安装有一对Ti靶，转架采用公转模式在镀膜室内转动，继续向镀膜室内通入Ar，使得气压达到0.3~0.5Pa，偏压‑60~‑40V，采用磁控溅射技术在工件上溅射纯Ti层；S2、向镀膜室中通入N2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiAlN涂层；S3、向镀膜室中通入O2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiO涂层，完成镀膜。本发明将工件正反两面的镀膜过程分隔开，互不干扰，达到降低镀膜工件色差、提高工件质量的效果。
-
公开(公告)号：CN110373645B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201910702325.7
申请日：2019-07-31
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 一种超黑色耐磨涂层，在基底材料表面由内至外依次沉积Ti层、第一WTiAlSiN层、第二WTiAlSiN层、WC层，这种多层膜结构中，最下层为由Ti靶形成的纯Ti层，中间两层为由WTiAlSi四种混合靶掺氮形成的过渡层和功能层，表面是由W靶掺乙炔形成的WC层进行颜色的覆盖，相比传统的黑色涂层，具有上述四层结构的涂层不仅颜色超黑，而且硬度和耐磨性大大提高，其超黑色、高耐磨性能显著优于现有涂层。该涂层的制作工艺简单，成本低。该涂层及其制作工艺尤其适于钟表、3C电子产品壳体等的涂层应用。
-
公开(公告)号：CN108914060B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201810753049.2
申请日：2018-07-10
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/35 , H01M8/0228
摘要： 本发明公开了一种燃料电池双极板表面防护涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、设置镀膜室的靶材配置为一对Cr靶和一对Ta靶，并将Ta靶和Cr靶分别放置在镀膜设备的两端；S2、将燃料电池双极板的基底材料放入所述镀膜室中，采用等离子体增强磁控溅射技术进行真空镀膜，在所述燃料电池双极板的表面沉积CrN/TaN超晶格膜层。与现有技术相比，本发明充分结合氮化铬的耐腐蚀性、氮化钽的硬度和耐腐蚀性，复合后的多层膜在耐腐蚀性、韧性和耐磨性方面都有大幅提升，在表面制备的贵金属或非晶碳膜可以提供优异的导电性，从而可以满足燃料电池金属双极板的高导电耐蚀和长时间使用要求。
-
公开(公告)号：CN117721428A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311783087.X
申请日：2023-12-22
申请人： 西南大学 , 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及表面涂层技术领域，具体公开了一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺，采用反应磁控溅射技术，在基底表面沉积单层结构的透明硬质涂层，利用元素掺杂与薄膜干涉原理，能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果，操作简单，制备得到的涂层具有高的硬度，提高了涂层的耐磨性，同时，通过调控磁控溅射的工艺参数，能够精确调整SiN和AlN之比，进而调整涂层对不同波长蓝光及其余可见光的透过率，可控性强，尤其降低了短波段有害蓝光的透过率，保护视力，而长波段的有益蓝光则能够更多的穿透涂层，并且对其余可见光具有良好的透过率，有利于显色的清晰度和真实性。
-
公开(公告)号：CN116334562A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310375052.6
申请日：2023-04-10
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及一种玛瑙色涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、采用真空磁控溅射方式在基底材料上沉积过渡层；S2、采用磁控溅射方式在过渡层上沉积生成中间层；S3、采用磁控溅射方式沉积生成玛瑙色涂层（TiAlSiN层）。在步骤S3中，控制Si靶的溅射功率，使得沉积的玛瑙色涂层（TiAlSiN层）中Si元素所占的百分比在7%~8%。本发明获得一种特殊的玛瑙色涂层，并且具备高的硬度和耐磨性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
18 条记录 (耗时 0.046 秒)