一种永磁弹射掩模台弹射区电机出力最小轨迹规划方法

    公开(公告)号:CN105319989B

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201510802623.5

    申请日:2015-11-19

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: G05B17/02 G06F17/50

    摘要: 本发明是一种永磁弹射掩模台弹射区电机出力最小轨迹规划方法。所述方法是基于一种永磁弹射掩模台往复扫描运动,根据其运动特征和是否存在永磁弹射力,把掩模台的运动区间划分为非弹射区和弹射区。需根据弹射区的运动需求和运动的对称性,以电机出力最小为优化目标,选择多项式结构作为弹射区的运动轨迹函数;掩模台出入弹射区的加速度、速度、位移等的限制作为约束条件,采用遗传算法求解多项式轨迹函数最优参数。本发明不仅适用于永磁弹射掩模台,对于拥有弹射结构的设备具有一定的适应性。

    一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法

    公开(公告)号:CN105301917B

    公开(公告)日:2017-12-08

    申请号:CN201510802597.6

    申请日:2015-11-19

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法,所述方法根据运动区间内是否存在永磁弹射力划分为非弹射区和弹射区,并分别规划两个区间的运动轨迹。所述非弹射区轨迹规划需算速度、位移的临界条件,并由当前状态与临界条件的关系计算关键时间变量和时间切换点,得到分段的加速度、速度、位移轨迹函数。所述弹射区轨迹规划则使用多项式轨迹结构,以掩模台出入弹射区的状态为约束条件,固定弹射运动时间,求多项式轨迹参数。本发明能在给定约束下,为永磁弹射掩模台的往复扫描运动提供加速度、速度和位移参考轨迹。本发明不仅适用于永磁弹射掩模台,对于执行往复扫描运动的设备具有一定的适用性。

    一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法

    公开(公告)号:CN105301917A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510802597.6

    申请日:2015-11-19

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法,所述方法根据运动区间内是否存在永磁弹射力划分为非弹射区和弹射区,并分别规划两个区间的运动轨迹。所述非弹射区轨迹规划需算速度、位移的临界条件,并由当前状态与临界条件的关系计算关键时间变量和时间切换点,得到分段的加速度、速度、位移轨迹函数。所述弹射区轨迹规划则使用多项式轨迹结构,以掩模台出入弹射区的状态为约束条件,固定弹射运动时间,求多项式轨迹参数。本发明能在给定约束下,为永磁弹射掩模台的往复扫描运动提供加速度、速度和位移参考轨迹。本发明不仅适用于永磁弹射掩模台,对于执行往复扫描运动的设备具有一定的适用性。