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公开(公告)号：CN1141733C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01120598.9
申请日：2001-07-26
申请人： 清华大学
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/00 , B81C5/00
摘要： 本发明属于微细工程制造领域，涉及阵列式光学探针扫描光刻制作集成电路的方法。该方法由m×n个光探针单元构成光学探针阵列，将光学探针阵列中任意两个纵向或横向间隔最大的光探针单元用作精确定位的光探针单元单独在硅片上扫描，制作记录硅片信息的信号，用于套刻时硅片的对准与校正；将光刻过的硅片进行扩散，掺杂工艺，完成对感光图形的固定，洗掉原来光刻胶，重新在硅片上涂新的光刻胶；本方法达到的集成电路的最小线宽可小于0.1μm，同时具有速度快，效率高的特点，并大大简化了集成电路的制作工艺，为超大规模集成电路的制作提供了一种新的有效的途径。
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公开(公告)号：CN1374563A
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：CN02117420.2
申请日：2002-04-19
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域,其特征在于,它含有:微动转台,与该转台同轴连接的转台底座,固定在该底座上的转台推动架,与该转台相连且X、Y向各贴有平面镜的X向往复运动小工作台,以导轨气垫支撑该X向小工作台的X向空气静压导轨,与该X向导轨相连的Y向运动工作台,以导轨气垫支撑Y向运动工作台的Y向空气静压导轨,固定在该Y向导轨上的Y向运动工作台微动机构,经支撑导轨带动该Y向空气静压导轨运动的滚珠丝杠,以及与滚珠丝杠连接的弹性防振工作台。上述转台推动架和Y向工作台微动机构都是用压电体驱动的,X、Y向工作台都是丁字型。它具有系统精度高,运动速度快,工作平稳,使用寿命长,维护容易等优点,既可保证扫描精度又提高了光刻效率。
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公开(公告)号：CN1169024C
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN02117420.2
申请日：2002-04-19
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域，其特征在于，它含有：微动转台，与该转台同轴连接的转台底座，固定在该底座上的转台推动架，与该转台相连且X、Y向各贴有平面镜的X向往复运动小工作台，以导轨气垫支撑该X向小工作台的X向空气静压导轨，与该X向导轨相连的Y向运动工作台，以导轨气垫支撑Y向运动工作台的Y向空气静压导轨，固定在该Y向导轨上的Y向运动工作台微动机构，经支撑导轨带动该Y向空气静压导轨运动的滚珠丝杠，以及与滚珠丝杠连接的弹性防振工作台。上述转台推动架和Y向工作台微动机构都是用压电体驱动的，X、Y向工作台都是丁字型。它具有系统精度高，运动速度快，工作平稳，使用寿命长，维护容易等优点，既可保证扫描精度又提高了光刻效率。
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公开(公告)号：CN1141620C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01120600.4
申请日：2001-07-26
申请人： 清华大学
摘要： 本发明属于微细加工技术领域，包括由n个短波长微光源组成的线阵光源和对该光源实现小视场和近场技术的微型成像系统，所说的线阵光源由n个相邻微光源排成直线得到的，每个微光源的开关可进行独立控制。本发明提高了系统光刻分辨率，可实现集成电路最小尺寸的图形光刻制作。并实现了宽度扫描，扫描线宽可以在扫描光刻过程中根据实际需要随时调整，大大提高了加工速度。
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公开(公告)号：CN1139845C
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：CN01123501.2
申请日：2001-07-26
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027 , B81C5/00
摘要： 本发明涉及一种阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法，首先根据电路图形确定关键点，将电路图形的区别特征进行编码，并刻写在硅片上，设置一对校准图形，使校准图形位于电路图形处，校准图形由校准子图形组成。根据图形关键点，在硅片上刻写校准子图形，当套刻进行到图形关键点时，读取校准子图形坐标，并将该坐标与记录的校准子图形的坐标进行比较。本发明的装置中，工作台放置在基座上，由精密伺服电机驱动，待加工硅片通过吸盘固定于工作台上，校准光学头和光探针阵列位于硅片上方，一对校准光学头位于光探针阵列中间，光探针阵列呈矩形排列。采用本发明进行对准，可以一次对准所有电路图形，节省了对准时间，提高了对准效率。
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公开(公告)号：CN1447191A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：CN02116309.X
申请日：2002-03-22
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/22
摘要： 一种光探针扫描集成电路光刻系统中振动刻写方法，属于集成电路光刻技术领域，其特征在于：在根据电路图形或掩膜图形生成待光刻的图形线条的控制数据后，在光探针沿着主运动X方向作扫描运动时，辅以Y方向的小幅振动型的步进幅值。Y方向的小幅振动的振幅是根据图形线条的位置和线宽调整的，也可以是固定的。与单(X)方向扫描－单(Y)方向步进的简单扫描方式相比，这种X－Y方向复合扫描－Y方向步进的复合扫描方式，其扫描次数尾Y方向总行程与光探针在Y方向振幅之比，可以大幅度的降低步进次数，缩短工作时间，提高刻写效率。
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公开(公告)号：CN1333554A
公开(公告)日：2002-01-30
申请号：CN01123501.2
申请日：2001-07-26
申请人： 清华大学
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/00 , B81C5/00
摘要： 本发明涉及一种阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法和装置,首先根据电路图形确定关键点,将电路图形的区别特征进行编码,并刻写在硅片上,设置一对校准图形,使校准图形位于电路图形处,校准图形由校准子图形组成。根据图形关键点,在硅片上刻写校准子图形,当套刻进行到图形关键点时,读取校准子图形坐标,并将该坐标与记录的校准子图形的坐标进行比较。本发明的装置中,工作台放置在基座上,由精密伺服电机驱动,待加工硅片通过吸盘固定于工作台上,校准光学头和光探针阵列位于硅片上方,一对校准光学头位于光探针阵列中间,光探针阵列呈矩形排列。采用本发明进行对准,可以一次对准所有电路图形,节省了对准时间,提高了对准效率。
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公开(公告)号：CN1195247C
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN02116309.X
申请日：2002-03-22
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/22
摘要： 一种光探针扫描集成电路光刻系统中振动刻写方法，属于集成电路光刻技术领域，其特征在于：在根据电路图形或掩膜图形生成待光刻的图形线条的控制数据后，在光探针沿着主运动X方向作扫描运动时，辅以Y方向的小幅振动型的步进幅值。Y方向的小幅振动的振幅是根据图形线条的位置和线宽调整的，也可以是固定的。与单(X)方向扫描一单(Y)方向步进的简单扫描方式相比，这种X-Y方向复合扫描-Y方向步进的复合扫描方式，其扫描次数尾Y方向总行程与光探针在Y方向振幅之比，可以大幅度的降低步进次数，缩短工作时间，提高刻写效率。
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公开(公告)号：CN1176406C
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN02116681.1
申请日：2002-04-15
申请人： 清华大学
摘要： 阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统属于微细工程，尤其涉及集成电路光刻扫描技术领域，其特征在于：计算机根据从激光干涉仪得到的工作台位置坐标信号，向脉冲计数器发出开始或停止计数信号。脉冲计数器把工作台一定位移内得到的脉冲数反馈回计算机，从而得到工作台的瞬间运动速度，工作台匀加速和匀减速运动中，对工作台一定位置的瞬间速度和标准速度进行比较；工作台匀速运动中，对两个相邻区间脉冲数获得的工作台运动速度和加速度进行计算，分别根据以上两种情况得到对工作台加速度或速度进行控制的信号，再分别通过调整电机驱动电压来控制工作台速度。它简单易行，控制精度高，保证工作台匀速段速度变化误差小于1%，提高了电路图形的光刻质量。
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