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公开(公告)号：CN1170209C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN01144580.7
申请日：2001-12-21
申请人： 清华大学
摘要： 阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源属于扫描光学头技术领域，其特征在于，它含有：在同一线阵长度内依次排列着的下列元件：n个出射光强均匀的半导体激光器，n个分别会聚该激光器出射光的会聚透镜，n束分别接收上述透镜出射光的每束共有m根光纤的光导纤维，m个由分别来自各个光纤束的n根光纤排列成直线的线阵光纤头和每个线阵光纤头对应的成像透镜。m和n可以相等，也可以不相等。所述线阵光纤头包括：光纤阵列层，覆盖在线阵光纤头上用掩膜制成的光强均匀层，对应光纤处呈严格正方形且对所用波长的激光有高透射率的相位孔径层。与原来提出的线阵光源概念相比，本装置具有更高的照明均匀性、更严格的单个微光源形状和更小的单个微光源尺寸。
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公开(公告)号：CN1141733C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01120598.9
申请日：2001-07-26
申请人： 清华大学
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/00 , B81C5/00
摘要： 本发明属于微细工程制造领域，涉及阵列式光学探针扫描光刻制作集成电路的方法。该方法由m×n个光探针单元构成光学探针阵列，将光学探针阵列中任意两个纵向或横向间隔最大的光探针单元用作精确定位的光探针单元单独在硅片上扫描，制作记录硅片信息的信号，用于套刻时硅片的对准与校正；将光刻过的硅片进行扩散，掺杂工艺，完成对感光图形的固定，洗掉原来光刻胶，重新在硅片上涂新的光刻胶；本方法达到的集成电路的最小线宽可小于0.1μm，同时具有速度快，效率高的特点，并大大简化了集成电路的制作工艺，为超大规模集成电路的制作提供了一种新的有效的途径。
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公开(公告)号：CN1374563A
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：CN02117420.2
申请日：2002-04-19
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域,其特征在于,它含有:微动转台,与该转台同轴连接的转台底座,固定在该底座上的转台推动架,与该转台相连且X、Y向各贴有平面镜的X向往复运动小工作台,以导轨气垫支撑该X向小工作台的X向空气静压导轨,与该X向导轨相连的Y向运动工作台,以导轨气垫支撑Y向运动工作台的Y向空气静压导轨,固定在该Y向导轨上的Y向运动工作台微动机构,经支撑导轨带动该Y向空气静压导轨运动的滚珠丝杠,以及与滚珠丝杠连接的弹性防振工作台。上述转台推动架和Y向工作台微动机构都是用压电体驱动的,X、Y向工作台都是丁字型。它具有系统精度高,运动速度快,工作平稳,使用寿命长,维护容易等优点,既可保证扫描精度又提高了光刻效率。
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公开(公告)号：CN1356595A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01144580.7
申请日：2001-12-21
申请人： 清华大学
摘要： 阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源属于扫描光学头技术领域,其特征在于,它含有:在同一线阵长度内依次排列着的下列元件:n个出射光强均匀的半导体激光器,n个分别会聚该激光器出射光的会聚透镜,n束分别接收上述透镜出射光的每束共有m根光纤的光导纤维,m个由分别来自各个光纤束的n根光纤排列成直线的线阵光纤头和每个线阵光纤头对应的成像透镜。m和n可以相等,也可以不相等。所述线阵光纤头包括:光纤阵列层,覆盖在线阵光纤头上用掩膜制成的光强均匀层,对应光纤处呈严格正方形且对所用波长的激光有高透射率的相位孔径层。与原来提出的线阵光源概念相比,本装置具有更高的照明均匀性、更严格的单个微光源形状和更小的单个微光源尺寸。
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公开(公告)号：CN1195247C
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN02116309.X
申请日：2002-03-22
申请人： 清华大学
IPC分类号： G03F7/22
摘要： 一种光探针扫描集成电路光刻系统中振动刻写方法，属于集成电路光刻技术领域，其特征在于：在根据电路图形或掩膜图形生成待光刻的图形线条的控制数据后，在光探针沿着主运动X方向作扫描运动时，辅以Y方向的小幅振动型的步进幅值。Y方向的小幅振动的振幅是根据图形线条的位置和线宽调整的，也可以是固定的。与单(X)方向扫描一单(Y)方向步进的简单扫描方式相比，这种X-Y方向复合扫描-Y方向步进的复合扫描方式，其扫描次数尾Y方向总行程与光探针在Y方向振幅之比，可以大幅度的降低步进次数，缩短工作时间，提高刻写效率。
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公开(公告)号：CN1176406C
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN02116681.1
申请日：2002-04-15
申请人： 清华大学
摘要： 阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统属于微细工程，尤其涉及集成电路光刻扫描技术领域，其特征在于：计算机根据从激光干涉仪得到的工作台位置坐标信号，向脉冲计数器发出开始或停止计数信号。脉冲计数器把工作台一定位移内得到的脉冲数反馈回计算机，从而得到工作台的瞬间运动速度，工作台匀加速和匀减速运动中，对工作台一定位置的瞬间速度和标准速度进行比较；工作台匀速运动中，对两个相邻区间脉冲数获得的工作台运动速度和加速度进行计算，分别根据以上两种情况得到对工作台加速度或速度进行控制的信号，再分别通过调整电机驱动电压来控制工作台速度。它简单易行，控制精度高，保证工作台匀速段速度变化误差小于1%，提高了电路图形的光刻质量。
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公开(公告)号：CN1460997A
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：CN03121143.7
申请日：2003-03-28
申请人： 清华大学
IPC分类号： G11B7/0045 , G11B7/125 , G11B7/26
摘要： 多阶母盘刻录的控制方法及刻录用的激光器驱动装置，属于母盘刻录中的微细工程技术领域。其特征在于，本控制方法是在传统的二阶母盘刻录控制方法的基础上，增加了多阶功率的选通控制和多阶功率的大小稳定控制，本发明还根据该控制方法设计了激光器驱动装置，它采用了一个能实现多阶功率选通和调节的驱动电路，该驱动电路含有一个由三极管电阻网络和差分运算放大器构成的功率选通调节电路和一个功率放大电路。本控制方法能够有效控制在母盘上进行的多阶刻录，本激光器驱动装置能够改变流过激光器的电流，使激光器发出不同功率的激光，从而在母盘感光层上刻录下不同灰度的信号，实现多阶刻录。
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公开(公告)号：CN1441412A
公开(公告)日：2003-09-10
申请号：CN03102682.6
申请日：2003-02-14
申请人： 清华大学
IPC分类号： G11B7/0045 , G11B7/125 , G11B7/24
摘要： 多波长多阶只读光盘的母盘刻录和制造方法，属于高密度数字光存储技术和微细加工技术领域，其特征在于：它是一种利用记录材料对应的选择吸收特性，用多波长刻录激光进行多路并行刻录，并在每一层上多阶存储的方法，它依次包含以下步骤：在玻璃盘基上旋涂由多种波长激光一一对应的多种光致变色材料混合而成的感光层；多种波长的刻录激光通过复消色差物镜聚焦在同一感光层上，进行多路并行刻录；改变曝光区域光致变色材料对特定波长激光的吸收率，并按吸收率的高低分阶以记录数据；对感光层进行固定处理；在感光层上再旋涂一层透明的固化介质层；把固化介质层和感光层从玻璃盘基上一起剥离；在感光层上甩涂保护层，三者组成的掩膜即为母盘。
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公开(公告)号：CN1434443A
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN03119279.3
申请日：2003-03-07
申请人： 清华大学
IPC分类号： G11B7/26 , G11B7/0045 , G03F7/00
摘要： 灰度记录方式只读光盘的复制方法属于高密度数字光存储领域，其特征在于：先把对不同波长的光反应不同的感光材料均匀涂在压制好的盘基上，以预先制造好的母盘为掩膜，用1∶1的曝光法进行曝光；然后，把曝光后的盘片上的感光层进行固定，成为信息记录层；最后分别把反射层和保护层旋涂在信息记录层上，完成灰度记录方式只读光盘的复制。所述的1∶1曝光法可以是反射式的，也可以是接近式的。它解决了灰度记录技术中的只读光盘复制问题。
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公开(公告)号：CN1374564A
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：CN02116681.1
申请日：2002-04-15
申请人： 清华大学
摘要： 阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统属于微细工程,尤其涉及集成电路光刻扫描技术领域,其特征在于:计算机根据从激光干涉仪得到的工作台位置坐标信号,向脉冲计数器发出开始或停止计数信号。脉冲计数器把工作台一定位移内得到的脉冲数反馈回计算机,从而得到工作台的瞬间运动速度,工作台匀加速和匀减速运动中,对工作台一定位置的瞬间速度和标准速度进行比较;工作台匀速运动中,对两个相邻区间脉冲数获得的工作台运动速度和加速度进行计算,分别根据以上两种情况得到对工作台加速度或速度进行控制的信号,再分别通过调整电机驱动电压来控制工作台速度。它简单易行,控制精度高,保证工作台匀速段速度变化误差小于1%,提高了电路图形的光刻质量。
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