基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统

    公开(公告)号:CN103759657A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410031283.6

    申请日:2014-01-23

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统,包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅、光电转换单元;光栅干涉仪包括偏振分光棱镜、参考光栅、折光元件;该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。双频激光器的激光入射至光栅干涉仪、测量光栅后输出两路光信号至光电转换单元。当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出二个线性位移。该测量系统采用二次衍射原理实现光学倍程,提高了分辨率,能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度,且能够同时测量二个线性位移。该测量系统具有对环境不敏感、测量精度高、体积小、质量轻等优点,作为光刻机超精密工件台位移测量系统可提升工件台综合性能。

    一种利用光栅测量的位移测量系统

    公开(公告)号:CN104359411A

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201410720157.1

    申请日:2014-12-01

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 一种利用光栅测量的位移测量系统,该系统包括激光器、凸透镜、折光元件、光栅、光电转换器和电子信号处理部件;该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量,位移测量功能不受读取距离的限制,可灵活安装和应用到多种需要测量位移的场合之中。当光栅相对激光器做三自由度平动时,测量系统能够始终输出所需测量方向的位移信息,不受另两个方向运动的影响。该测量系统安装灵活,调整方便,对环境敏感性低、测量信号易于处理,分辨率与精度可达亚纳米甚至更高。本发明可以为光刻机超精密工件台进行位置位移测量,提升工件台综合性能,也可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量。

    一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统

    公开(公告)号:CN103759656A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410031251.6

    申请日:2014-01-23

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统,包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅、接收器、信号处理单元;光栅干涉仪包括侧向位移分光棱镜、偏振分光棱镜、参考光栅、折光元件;该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。双频激光器的激光入射至干涉仪、测量光栅后输出光信号至接收器,后至信号处理单元。当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出二个线性位移。该测量系统采用二次衍射原理实现光学四细分,能够实现亚纳米甚至更高分辨率,且能够同时测量二个线性位移。该测量系统具有对环境不敏感、测量精度高、质量轻等优点,作为光刻机超精密工件台位置测量系统可提升工件台综合性能。

    基于光学倍程法的二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统

    公开(公告)号:CN103759655A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410031125.0

    申请日:2014-01-23

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 基于光学倍程法的二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统,包括光栅干涉仪、测量光栅、预处理单元和电子信号处理单元;光栅干涉仪包括激光管、偏振片、偏振分光棱镜、参考光栅、折光元件及四通道零差结构。该系统基于光栅衍射、光学多普勒和零差信号处理实现位移测量。光栅干涉仪输出光信号至预处理单元,转换为电信号至电子信号处理单元。当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出两个线性位移。该测量系统采用二次衍射原理实现光学倍程,能够实现亚纳米甚至更高分辨率。采用零差信号处理,可消除直流分量和幅值变化带来的影响,具有对环境不敏感、测量精度高等优点,作为光刻机超精密工件台位移测量系统可提升工件台性能。

    一种二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统

    公开(公告)号:CN103759654A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410031123.1

    申请日:2014-01-23

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 一种二自由度零差光栅干涉仪位移测量系统,包括光栅干涉仪、测量光栅、预处理单元和信号处理单元;光栅干涉仪包括激光管、侧向位移分光棱镜、偏振分光棱镜、四分之一波片、参考光栅、折光元件及四通道零差结构;该系统基于光栅衍射、光学多普勒和零差信号处理实现位移测量。光栅干涉仪输出光信号至预处理单元,转换为电信号至信号处理单元。当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出两个线性位移。该测量系统采用二次衍射原理实现光学四细分,能够实现亚纳米甚至更高分辨率,可测两个线性位移。采用零差信号处理,可消除直流分量和幅值变化带来的影响,具有对环境不敏感、测量精度高等优点。

    光刻机掩模台六自由度位移测量系统

    公开(公告)号:CN113758428A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111137159.4

    申请日:2021-09-27

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明公开一种光刻机掩模台六自由度位移测量系统,包括:光栅安装板,固定在光刻机的掩模台上,第一平面光栅和第二平面光栅,相对固定在光栅安装板的两侧,第一平面光栅包括相互垂直的栅线,且栅线方向是在掩模台的平移平面的x轴和y轴方向上,第二平面光栅至少包括在掩模台的平移平面的x轴或y轴方向上的栅线;三个探测器,任一探测器都具有掩模台的平移平面内和垂直于掩模台的平移平面方向的二自由度测量功能。本发明解决了现有的掩模台六自由度位移测量系统存在传感器数量过多而导致的传感器位置布置难题,可以简化六自由度位移测量模型,且不采用二维光栅即可实现掩模台六自由度位移测测量,降低制造难度及生产成本。

    激光干涉光刻中光束入射角的调控装置及方法

    公开(公告)号:CN111812948B

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202010636098.5

    申请日:2020-07-03

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种激光干涉光刻中光束入射角度的调控装置及方法,装置包括:分光棱镜、第一解耦透镜、第一位置检测器和反馈控制系统,其中,分光棱镜位于第一透镜和第二透镜之间;第一解耦透镜位于第一位置检测器与分光棱镜之间,反馈控制系统与第一位置检测器和第一万向反射镜连接;分光棱镜用于对经第一万向反射镜的第一入射光进行反射,第一解耦透镜用于将分光棱镜的第一反射光入射至第一位置检测器,第一位置检测器用于对光束位置进行测量,并将测量结果传输至反馈控制系统,反馈控制系统根据测量结果输出控制指令,调整第一万向反射镜的镜座,从而对曝光光束的入射角度进行调控。本发明可以对光束入射角度进行精确调控。

    激光干涉光刻中光束入射角的调控装置及方法

    公开(公告)号:CN111812948A

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN202010636098.5

    申请日:2020-07-03

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种激光干涉光刻中光束入射角度的调控装置及方法,装置包括:分光棱镜、第一解耦透镜、第一位置检测器和反馈控制系统,其中,分光棱镜位于第一透镜和第二透镜之间;第一解耦透镜位于第一位置检测器与分光棱镜之间,反馈控制系统与第一位置检测器和第一万向反射镜连接;分光棱镜用于对经第一万向反射镜的第一入射光进行反射,第一解耦透镜用于将分光棱镜的第一反射光入射至第一位置检测器,第一位置检测器用于对光束位置进行测量,并将测量结果传输至反馈控制系统,反馈控制系统根据测量结果输出控制指令,调整第一万向反射镜的镜座,从而对曝光光束的入射角度进行调控。本发明可以对光束入射角度进行精确调控。