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    一种基于紫外固化薄膜的金属转移工艺及其应用
    1.
    发明公开
    一种基于紫外固化薄膜的金属转移工艺及其应用 审中-实审

    公开(公告)号：CN118630109A

    公开(公告)日：2024-09-10

    申请号：CN202410839895.1

    申请日：2024-06-26

    申请人： 湖南大学 ,  湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)

    发明人： 段辉高 ,  樊夫 ,  陈雷 ,  周宇 ,  胡跃强 ,  贾红辉

    IPC分类号： H01L33/00 ,  H01L33/54 ,  H01L33/62 ,  H01L33/38

    摘要： 本发明公开了一种基于紫外固化薄膜的金属转移工艺及其应用。提供硬质硅基晶圆衬底，在光刻胶薄膜上曝光出设计的结构；在光刻胶显影液中进行显影，用氮气吹干，得到设计的光刻胶薄膜结构；在有设计结构的光刻胶薄膜结构表面进行金属化；在去除光刻胶溶液中浸泡，得到金属结构；将紫外固化树脂旋涂或滴涂在设计的金属结构上；使用LED紫外灯辐照金属结构上的液态紫外固化树脂原位固化，在液态的紫外固化树脂固化后，得到干净的紫外固化薄膜；将紫外固化薄膜进行剥离，得到嵌入式金属结构的紫外固化薄膜柔性衬底。本发明增强了金属结构与柔性衬底的界面稳定性，解决了金属结构与柔性衬底机械性能不匹配的问题以及转移过程中化学试剂的污染问题。

    一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺
    2.
    发明公开
    一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺 审中-实审

    公开(公告)号：CN118550153A

    公开(公告)日：2024-08-27

    申请号：CN202410839892.8

    申请日：2024-06-26

    申请人： 湖南大学 ,  湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)

    发明人： 段辉高 ,  周宇 ,  陈雷 ,  樊夫 ,  胡跃强 ,  贾红辉

    IPC分类号： G03F1/68 ,  G03F1/80

    摘要： 本发明公开了一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺，属于微纳制造领域。包括：硅衬底清洗；得到硅衬底上均匀分布的无缺陷低界面黏附可转移光刻胶膜。去除胶层内的溶剂并提高光刻胶膜的机械擦伤能力。转移，将光刻胶转移到柔性印章上。将硬质母掩模版图案等比例转移到光刻胶上。将硬质母掩模版图案等比例复制到光刻胶上。金属沉积；通过沉积一层不透光金属，最终实现大面积高分辨柔性掩模版的高效、低成本制备。用胶带将结构外的金属和光刻胶缓慢剥离，得到大面积高分辨柔性掩模版。该发明不仅为传统柔性掩模版加工制造提供了更可靠和高效的工艺，使得制造过程更加稳定和高效，同时也能满足大幅面的制造需求。

    一种高粘附比的转印印章及干式转印方法
    3.
    发明公开
    一种高粘附比的转印印章及干式转印方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN118818894A

    公开(公告)日：2024-10-22

    申请号：CN202410839896.6

    申请日：2024-06-26

    申请人： 湖南大学 ,  湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)

    发明人： 段辉高 ,  陈雷 ,  樊夫 ,  周宇 ,  胡跃强 ,  贾红辉

    IPC分类号： G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  C09J175/14 ,  C09J171/02

    摘要： 本发明公开了一种高粘附比的转印印章及干式转印方法，属于微纳制造领域；在衬底上制备无粘附层金属微纳结构；衬底疏水修饰，在衬底上旋涂薄膜前体溶液退火得到纳米薄膜；将可变粘附的转印印章共形贴附在薄膜的上表面，冷却至室温后剥离薄膜，实现薄膜与硅基晶圆衬底的分离；将可变粘附的转印印章和薄膜共形贴附于受体衬底上；再次加热使得印章变软并匀速剥离印章，将薄膜释放在受体衬底上，完成薄膜的转印，去除薄膜，得到受体衬底上的金属微纳结构。光固化热响应印章采用可光固化的复合相变材料进行制备，在低温热刺激下展现出高可切换粘附比和高刚度力学性能切换。本发明方法可用于在曲面及柔性衬底上制造从纳米级到晶圆级的功能元件。

    一种可转印光刻胶制备柔性微纳结构的方法
    6.
    发明公开
    一种可转印光刻胶制备柔性微纳结构的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN115185155A

    公开(公告)日：2022-10-14

    申请号：CN202210582539.7

    申请日：2022-05-25

    申请人： 湖南大学 ,  湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)

    发明人： 胡跃强 ,  陈雷 ,  段辉高 ,  贾红辉

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  B81C1/00

    摘要： 本发明公开了一种可转印光刻胶制备柔性微纳结构的方法，按质量百分比组份包括：成膜树脂，5‑20％；去离子水，70‑90％；重氮光敏剂，0.5‑5％；表面活性剂，0.1‑2％；本发明采用可转印光刻胶连续转印堆叠方案，将光刻胶结构近零应变、无损连续转移至柔性聚合物基底，实现了柔性基底上微纳结构自下而上的制造。以去离子水为显影液环境友好无污染，消除了溶剂的副作用。工艺成本低，简单可控。不仅解决了硅基光刻技术与柔性衬底上复杂微纳结构的不兼容性，可高灵活调控图形的特征尺寸和几何形状，还有利于柔性基底上复杂微纳结构的制造，尤其可以加工3D多孔跨尺度大面积结构、高精度光栅结构等等。可应用于柔性电子、集成光学、生物医疗、柔性储能等。

    一种近零粘附光刻胶及干式光刻方法
    7.
    发明公开
    一种近零粘附光刻胶及干式光刻方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN118795728A

    公开(公告)日：2024-10-18

    申请号：CN202410839894.7

    申请日：2024-06-26

    申请人： 湖南大学 ,  湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)

    发明人： 段辉高 ,  陈雷 ,  周宇 ,  樊夫 ,  胡跃强 ,  贾红辉

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/36

    摘要： 本发明公开了一种近零粘附光刻胶及干式光刻方法，属于微纳制造领域；所述近零粘附光刻胶包括：40‑99%光刻胶，0‑60%溶剂，0.4‑12%两亲性分子助剂；所述方法包括：在衬底上旋涂光刻胶前体溶液退火得到光刻胶薄膜，通过曝光、显影完成光刻胶结构的制备；光刻胶作为掩模进行金属或氧化物镀膜或者刻蚀；将胶带共形贴附在光刻胶的上表面，剥离光刻胶，剥离过程仅需使用胶带机械剥离，从而避免任何有机溶剂和有毒剥离剂的使用；得到硬质晶圆衬底上的金属或氧化物微纳结构或刻蚀后的微纳结构。用近零粘附光刻胶的可转移特性，该方法可以拓展到曲面衬底和柔性聚合物衬底的干式剥离光刻工艺，利于拓展光刻技术在柔性电子、生物电子、人机界面等领域的应用。

    一种可实现Z轴高精度控制的挤出式3D打印装置及方法
    9.
    发明公开
    一种可实现Z轴高精度控制的挤出式3D打印装置及方法 有权

    公开(公告)号：CN111421811A

    公开(公告)日：2020-07-17

    申请号：CN202010131777.7

    申请日：2020-02-29

    申请人： 湖南大学

    发明人： 王睿卓 ,  樊润鸿 ,  陈雷 ,  王兆龙 ,  段辉高

    IPC分类号： B29C64/118 ,  B29C64/20 ,  B29C64/205 ,  B29C64/232 ,  B29C64/236 ,  B29C64/295 ,  B33Y30/00

    摘要： 本发明公开了一种可实现Z轴高精度控制的挤出式3D打印装置及方法，本装置通过挤压机构、从动机构、右上限位挡块、Y轴支架、右Z轴电机、加热板、X轴支架、X轴传输带、左Z轴电机、Y轴电机、X轴电机、储料器支架、储料器、左上限位器、从动导轨、挤压电机、Y轴传输带、机架、从动机构支架、从动机构轮由上到下的顺序连接而成一个整体。当加工完一层时，工作台按照参数自动上升一层，进行下一层的加工，当最后一层加工完后机器停止工作，此时的零件已完成，零件停在液体材料之上。该设备能够加工尺寸精度要求高，内部结构较为复杂的三维实体，能快速地制作处在研发阶段的新产品样机，缩短产品研发的周期，具有成本低，可加工体积大等优点。