公开(公告)号：CN114008238A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202080042968.4

申请日：2020-06-15

Applicant: 田中贵金属工业株式会社

Inventor： 原田了辅 ,  津川智广 ,  重富利幸 ,  李承俊 ,  科汤·巴邦·卡特卡

IPC: C23C16/18 ,  H01L21/768 ,  C07F13/00

Abstract: 本发明涉及一种化学蒸镀用原料，其是用于通过化学蒸镀法制造锰薄膜或锰化合物薄膜的化学蒸镀用原料，其由在锰上配位有环戊二烯基配体(L1)和异腈配体(L2)的下述化学式所示的有机锰化合物构成。本发明具有作为化学蒸镀用原料的基本特性，并且能够以氢气等还原性气体作为反应气体来进行锰薄膜的成膜。(所述式中，环戊二烯基配体(L1)的取代基R1～R5各自为氢或者直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。异腈配体(L2)的取代基R6为直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。Mn(L1)(L2)3

公开(公告)号：CN114008238B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202080042968.4

申请日：2020-06-15

Applicant: 田中贵金属工业株式会社

Inventor： 原田了辅 ,  津川智广 ,  重富利幸 ,  李承俊 ,  科汤·巴邦·卡特卡

IPC: C23C16/18 ,  H01L21/768 ,  C07F13/00

Abstract: 本发明涉及一种化学蒸镀用原料，其是用于通过化学蒸镀法制造锰薄膜或锰化合物薄膜的化学蒸镀用原料，其由在锰上配位有环戊二烯基配体(L1)和异腈配体(L2)的下述化学式所示的有机锰化合物构成。本发明具有作为化学蒸镀用原料的基本特性，并且能够以氢气等还原性气体作为反应气体来进行锰薄膜的成膜。(所述式中，环戊二烯基配体(L1)的取代基R1～R5各自为氢或者直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。异腈配体(L2)的取代基R6为直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。Mn(L1)(L2)3#imgabs0#