公开(公告)号：CN109853006A

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201910067334.3

申请日：2019-01-24

申请人： 电子科技大学

发明人： 郑莉 ,  王翀 ,  张东明 ,  何为 ,  王守绪 ,  曾毅 ,  周璇 ,  陈苑明 ,  周国云 ,  洪延

IPC分类号： C25D3/38

摘要： 本发明公开了一种高温高速条件下电镀铜的添加剂配方及电镀方法，属于电子元器件制造技术领域。本发明使用大电流高速电镀，缩短了电镀时间，大大提高了生产效率；本发明克服了在高温大电流情况下电镀铜面不光亮、不平整、镀层粗糙、镀层与基底结合力差、通孔和盲孔均镀能力差等的缺点，提高了电镀铜的空时效率。

公开(公告)号：CN115636434A

公开(公告)日：2023-01-24

申请号：CN202211192295.8

申请日：2022-09-28

申请人： 桂林电子科技大学 ,  桂林传感材料科技有限公司

发明人： 郭佳乐 ,  赵景泰 ,  张志军 ,  张泽青 ,  王志成 ,  曾毅 ,  刘伟

IPC分类号： C01G3/00 ,  G01T1/202

摘要： 本发明公开了一种制备无铅钙钛矿像素化闪烁薄膜的方法，采用反溶剂法制备了一维无铅CsCu2I3粉末，研究了其形貌粒径以及发光性能，该粉末在330nm紫外激发下发射强烈的黄光，斯托克斯位移大(245nm)，无自吸收；为克服已有铅基薄膜技术的不足，采用模板辅助法和负压填充法制备了可控尺寸的像素化CsCu2I3柔性可弯曲闪烁薄膜，此薄膜可以避免闪烁光的横向色散，提高闪烁屏的空间分辨率。例如，将0.5‑3微米尺寸的粉末填充到40μm的PDMS模板中，获得像素化闪烁薄膜，此薄膜无毒且制备工艺简单，可用于高能X射线探测及成像。本发明相关研究内容为高能X射线探测领域提供了一种新的粉末闪烁材料制备像素化闪烁屏的设计，对其制备和性能研究具有重要的指导意义。

公开(公告)号：CN115010166A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202210608638.8

申请日：2022-05-31

申请人： 桂林电子科技大学 ,  杭州钛光科技有限公司

发明人： 郭佳乐 ,  张志军 ,  赵景泰 ,  王志成 ,  曾毅 ,  刘伟

IPC分类号： C01G3/00 ,  C09K11/02 ,  C09K11/61 ,  C08J5/18 ,  C08L83/04 ,  C08K3/16

摘要： 本发明属于无机钙钛矿材料与医疗成像技术领域，公开了一种无铅铜基钙钛矿粉末、闪烁薄膜的制备方法和无铅铜基钙钛矿粉末闪烁薄膜的应用，利用反溶剂法制备得到CsCu2I3粉末，其发光波长为575nm，与PMT探测器波长响应范围(300～650nm)匹配良好，PLQY高(11.23％)，荧光衰减快(123ns)，无自吸收，余晖短(0.09％)，产率高(>95％)。将其与耐老化、防潮的RTV硅胶、PDMS、PS、PMMA等胶体混合，用丝网印刷法刮涂、滴涂、旋涂、浸润等方法制备得到CsCu2I3闪烁薄膜，用于高能X射线成像，在核医学成像领域和安全检查中有应用前景。